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应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-30 16:48:10

本技术涉及ito靶材生产,具体为应用于烧结窑内的ito靶材架设装置。

背景技术:

1、ito靶材是一种用于溅射和蒸镀技术材料,ito靶材的主要分类包括溅射靶和蒸镀靶,因其具有较高的耐热冲击性能、导热率和机械强度,并且电阻率较低,还能够提高电子产品的使用寿命,因此作为主要材料应用于平面液晶显示器的制造,在电子工业、信息产业方面有着广阔而重要的应用。

2、烧结是成型过程中的最后一个步骤,同时也是由之前的物理结合向转化为化学结合的最重要的一步,在对ito靶材进行烧结时,一般将其放置在烧结窑内支架上水平放置的承烧板上,承烧板虽然可以起到承载作用,但是其与ito靶材接触的部分难以被充分烧结到,基于此,本实用新型提出能够解决上述问题的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,包括:

3、垫架;

4、衬板,位于垫架上,所述衬板上端面设置有若干凸起,若干所述凸起的顶部形成一承载ito靶材的平面,且若干所述凸起呈纵横交错排列形成多条通道,多条通道相互连通,每个所述凸起上均开设有流道,所述流道竖直向下贯穿衬板;

5、接触料,填充在通道内,所述接触料可与ito靶材相接触。

6、作为一种优选的技术方案,所述凸起为半球型结构,所述流道与所述凸起中心线共线。

7、作为一种优选的技术方案,所述接触料为氧化铝粉料。

8、作为一种优选的技术方案,所述接触料具有孔隙。

9、作为一种优选的技术方案,所述衬板外侧设置有向上延伸的边沿。

10、作为一种优选的技术方案,所述衬板与所述垫架相铰接。

11、作为一种优选的技术方案,所述衬板下端面设置有进气管,所述进气管与多个流道相连通。

12、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,将ito靶材放置在若干凸起的顶部形成的平面上,ito靶材与填充在通道内的接触料相接触,接触料起到主要支撑作用,若干凸起起到辅助支撑作用,烧结时,氧气可通过接触料的孔隙和凸起上的流道与ito靶材接触,ito靶材在烧结过程中收缩与氧气充分接触,有效提高ito靶材的烧结效果,且ito靶材收缩时可带动接触料运动,降低摩擦力,成型质量高。

技术特征:

1.应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,所述凸起(21)为半球型结构,所述流道(211)与所述凸起(21)中心线共线。

3.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,所述接触料(30)为氧化铝粉料。

4.根据权利要求3所述的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,所述接触料(30)具有孔隙。

5.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,所述衬板(20)外侧设置有向上延伸的边沿(22)。

6.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,所述衬板(20)与所述垫架(10)相铰接。

7.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ito靶材架设装置,其特征在于,所述衬板(20)下端面设置有进气管(23),所述进气管(23)与多个流道(211)相连通。

技术总结本技术公开了一种应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置,包括垫架、衬板和接触料衬板位于垫架上,衬板上端面设置有若干凸起,若干凸起的顶部形成一承载ITO靶材的平面,且若干凸起呈纵横交错排列形成多条通道,多条通道相互连通,每个凸起上均开设有流道,流道竖直向下贯穿衬板,接触料填充在通道内,接触料可与ITO靶材相接触;本技术ITO靶材放置在若干凸起的顶部形成的平面上,ITO靶材与填充在通道内的接触料相接触,烧结时,氧气可通过接触料的孔隙和凸起上的流道与ITO靶材接触,ITO靶材在烧结过程中收缩与氧气充分接触,有效提高ITO靶材的烧结效果,成型质量高。技术研发人员:于军,贾桃桃,吴东升受保护的技术使用者:南通富热特窑炉有限公司技术研发日:20231128技术公布日:2024/7/4

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