一种胶体纳米晶自组装制备装置

1.本实用新型涉及自组装装置技术领域，特别涉及一种胶体纳米晶自组装制备装置。背景技术：2.胶体纳米晶自组装技术是一种具有制备高质量、化学和结构可控新材料潜力的有效方法，已成为近年来研究者们研究的前沿领域之一。而纳米晶自组装体制备的最大挑战之一在于大规模制备工艺以及结构性质表征。3.目前，文献中使用的界面纳米晶自组装方法包括模板法(胶束等)、气液界面组装法等，主要采用高分子或有机溶液界面等作为模板或界面生长二维有序排列的纳米晶自组装样品，在用透射电子显微镜(tem)和扫描电子显微镜(sem)进行结构表征测试时，需要手动将高分子或液体界面上的自组装薄膜转移至对应的基底，具有一定的操作难度，且在操作过程中容易破坏自组装薄膜样品结构，影响了自组装材料的完整性，从而影响了自组装材料的检测和质量。技术实现要素：4.本实用新型的主要目的是提出一种胶体纳米晶自组装制备装置，旨在解决现有纳米晶自组装薄膜进行结构表征时需要转移的问题。5.为实现上述目的，本实用新型提出一种胶体纳米晶自组装制备装置，包括固体基底，所述固体基底包括：6.硅片基底，具有相对设置的第一侧和第二侧；以及，7.tem铜网，所述tem铜网设于所述硅片基底的第一侧，所述tem铜网上包覆有碳膜。8.可选地，所述胶体纳米晶自组装制备装置还包括盖体，所述盖体用以罩设于所述固体基底的外部，且位于所述硅片基底的第一侧；9.所述盖体的内壁面与所述固体基底间隔设置。10.可选地，所述盖体包括主体以及自所述主体的周缘朝向所述固体基底延伸的延伸部。11.可选地，所述延伸部远离所述主体的一端设有朝向远离所述固体基底的方向延伸的弯折部。12.可选地，所述盖体的材质为塑料。13.可选地，所述tem铜网的中心至边缘的距离小于所述tem铜网的中心至所述硅片基底的边缘的距离。14.可选地，所述硅片基底为矩形，且所述硅片基底的长为0.8～1.5cm，所述硅片基底的宽为0.8～1.5cm。15.可选地，所述tem铜网为圆形，所述tem铜网的直径为0.4～0.6cm。16.本实用新型提供的技术方案中，通过将硅片基底和tem铜网层叠形成作为组装界面的固体基底，使所述固体基底包括透射电子显微镜表征所需要的tem铜网，以及扫描电子显微镜表征所需要的硅片基底，且所述tem铜网上包覆有碳膜，因此，将纳米晶的分散溶液加入至固体基底上后，能够制备得到纳米晶自组装薄膜，然后将固体基底及其上的纳米晶自组装薄膜直接放置在透射电子显微镜或扫描电子显微镜下，即可进行结构表征测试，操作简单，且不会损坏纳米晶自组装薄膜。附图说明17.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。18.图1为本实用新型提供的胶体纳米晶自组装制备装置的一实施例工作状态时的结构示意图；19.图2为图1中的胶体纳米晶自组装制备装置的俯视示意图。20.附图标号说明：21.标号名称标号名称100胶体纳米晶自组装制备装置22延伸部1固体基底23弯折部11tem铜网3纳米晶的分散溶液12硅片基底31纳米晶2盖体4实验室平台21主体ꢀꢀ22.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。24.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。25.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。26.目前，主要采用高分子或有机溶液界面等作为模板或界面生长二维有序排列的纳米晶自组装样品，在用透射电子显微镜(tem)或扫描电子显微镜(sem)进行结构表征测试时，需要手动将高分子或液体界面上的自组装薄膜转移至对应的基底，具有一定的操作难度，且在操作过程中容易破坏自组装薄膜样品结构，影响了自组装材料的完整性，从而影响了自组装材料的检测和质量。27.鉴于此，本实用新型提出一种胶体纳米晶自组装制备装置，旨在使制得的纳米晶自组装薄膜易于进行结构表征。图1和图2所示为本实用新型提出的胶体纳米晶自组装制备装置的一实施例。28.请参阅图1和图2，所述胶体纳米晶自组装制备装置100包括固体基底1，固体基底1包括硅片基底12和tem铜网11，所述硅片基底12具有相对设置的第一侧和第二侧，所述tem铜网11设于所述硅片基底12的第一侧，所述tem铜网11上包覆有碳膜。可以理解的是，tem铜网11即进行透射电子显微镜表征时常规所用的铜网，可通过常规途径购买所得。此外，在本实施例中，所述tem铜网11上包覆有碳膜，使作为组装界面的tem铜网11的表面平整，从而能够在tem铜网11上制备得到自组装薄膜。29.本实用新型不限制所述硅片基底12与所述tem铜网11的具体位置关系，由于所述常规易得的tem铜网11的尺寸一般较小，且比所述tem铜网11的尺寸大的所述硅片基底12更容易制得，因此，请参阅图1，所述所述tem设于所述硅片基底12的上端面，也即，所述第一侧即所述硅片基底12的上端面。30.具体实施时，先将纳米晶胶体溶液分散于有机溶剂中，得到纳米晶的分散溶液3，然后将所述纳米晶的分散溶液3缓慢滴加于所述固体基底1上，通过有机溶剂挥发，纳米晶31自然沉降过程，在所述固体基底1上得到了有序排列的纳米晶自组装薄膜。31.本实用新型提供的技术方案中，通过将硅片基底12与tem铜网11层叠层叠形成作为组装界面的固体基底1，使所述固体基底1包括透射电子显微镜表征所需要的tem铜网11，以及扫描电子显微镜表征所需要的硅片基底12，因此，将固体基底1及其上的纳米晶自组装薄膜直接放置在透射电子显微镜或扫描电子显微镜下，即可进行结构表征测试，从而避免了需要将纳米晶自组装薄膜从组装界面上手动转移出来，再放置于结构表征所需要的基底上，节省了操作步骤，且不容易损坏纳米晶自组装薄膜。32.为了使所述纳米晶的分散溶液3滴加于所述固体基底1上后，不容易溢出位于下侧的所述硅片基底12，进而影响自组装效果，在本实施例中，所述tem铜网11的中心至边缘的距离小于所述tem铜网11的中心至所述硅片基底12的边缘的距离，也即，位于下侧的所述硅片基底12比位于上侧的所述tem铜网11的尺寸大。33.本实用新型不限制所述tem铜网11的具体尺寸，由于通过常规途径购买所得的tem铜网11一般为圆形，且直径为几毫米，为了使所述胶体纳米晶自组装制备装置100的部件易于得到，在本实施例中，所述tem铜网11为圆形，且所述tem铜网11的直径为0.4～0.6cm，优选为0.5cm。34.所述硅片基底12为人工将硅片裁剪得到，为了易于得到所述硅片基底12，且不浪费自组装实验材料，在本实施例中，所述硅片基底12为矩形，且所述硅片基底12的长为0.8～1.5cm，所述硅片基底12的宽为0.8～1.5cm。较优地，所述硅片基底12的长为1cm，宽为1cm。需要说明的是，当所述硅片基底12的长为1cm，宽为1cm时，在制备纳米晶自组装薄膜时，滴加100～200μl所述纳米晶的分散溶液3于所述固体基底1即可。35.请参阅图1，在本实施例中，所述胶体纳米晶自组装制备装置100还包括盖体2，所述盖体2用以罩设于所述固体基底1的外部，且位于所述硅片基底12的第一侧，如此，在所述纳米晶的分散溶液3滴加于所述固体基底1后，可通过所述盖体2罩设于所述固体基底1的外部，以防止有机溶剂的挥发速率过快，进而避免影响纳米晶自组装薄膜的质量。此外，所述盖体2的内壁面与所述固体基底1间隔设置，以留出所述纳米晶的分散溶液3的容纳空间，避免所述纳米晶的分散溶液3与所述盖体2接触，而影响了自组装效果。36.所述盖体2的内壁面与所述固体基底1的间隔设置，可通过多种方式实现，所述盖体2可以为弧形盖体，以在上下方向上间隔所述盖体和所述固体基底，在本实施例中，所述盖体2包括主体21以及自所述主体21的周缘朝向所述固体基底1延伸的延伸部22，由于所述固体基底1是放置于实验室平台上进行实验操作，如此，所述延伸部22与所述实验室平台4之间限制出所述纳米晶的分散溶液3的容纳空间。可以理解的是，所述盖体的延伸部之间的水平距离大于所述固体基底两侧之间的水平距离，进一步避免所述纳米晶的分散溶液3与所述盖体2接触。37.进一步地，在本实施例中，所述延伸部22远离所述主体21的一端设有朝向远离所述固体基底1的方向延伸的弯折部23，如此，所述盖体2对所述固体基底1上的纳米晶的分散溶液3的密封效果更好，从而更好的控制了纳米晶的分散溶液3的挥发速率，进而使制得的纳米晶自组装薄膜的质量较好。显然，本实用新型的设计不仅限于此，在另一实施例中，在制备纳米晶自组装薄膜时，用所述盖体2罩设所述固体基底1及其上的所述纳米晶的分散溶液3后，还可用密封胶带密封所述弯折部23，以减缓有机溶剂的挥发。38.此外，本实用新型不限制所述盖体2的具体材质，在一实施例中，所述盖体2的材质为塑料。为了便于观察自组装实验的进行，所述塑料可为透明的有机玻璃，即聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)，如此，实验人员可直观的观察所述纳米晶的分散溶液3的挥发情况，也即，可直观的观察自组装实验的完成情况。39.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。