用于供应化学品的设备、用于处理衬底的设备和方法与流程

本公开涉及一种用于供应化学品的设备，以及一种用于处理衬底的设备和方法。

背景技术：

1、通常，在半导体制造过程中，可以通过沉积过程、蚀刻过程、光过程、清洁过程等来制造衬底。在半导体制造过程中，可以使用用于供应化学品的设备来供应各种化学品以处理衬底。这种设备可以包括用于储存化学品的罐。当化学品未被供应至衬底时，可以提供循环管线以保持化学品的状态从而防止污染，或通过调节化学品的状态(诸如所需的化学品的温度、浓度、成分等)来使罐自循环以满足衬底处理条件。在这种循环管线中，可以根据需要布置具有各种功能的部件。为了确定在循环管线中是否存在泄漏，诸如去离子水等化学品可以通过循环管线被循环，以用肉眼或通过泄漏检测器即检漏器来确定在循环管线中是否发生了泄漏。因此，当泄漏发生时，可能需要大量的工时，因为操作者必须清洁泄漏的去离子水等。此外，在通过使去离子水在循环管线中循环来执行泄漏确定之后，由于冲洗操作应使用残留在储罐和循环管线中的诸如去离子水等化学品作为待供应至衬底的化学品来执行，因此可能存在需要花费大量时间段来执行泄漏确定操作的问题。

2、(专利文献1)韩国专利公开号10-2014-0120232

技术实现思路

1、本公开的一方面是提供一种用于供应化学品的设备、以及一种用于处理衬底的设备和方法，其能够有效地确定使来自罐的化学品循环的循环管线中的泄漏，以解决上述问题。

2、根据本公开的一方面，一种用于供应化学品的设备包括：储罐，所述储罐储存所述化学品；化学品排放管线，所述化学品排放管线从所述储罐排放所述化学品；循环管线，所述循环管线被连接至所述储罐并使来自所述储罐的所述化学品自循环；泄漏确定管线，所述泄漏确定管线与所述循环管线连接并向所述循环管线供应气体；以及测量单元，所述测量单元测量供应至所述循环管线的气体的压力的变化。

3、所述设备还可以包括将所述气体供应至所述储罐的气体供应管线，其中所述泄漏确定管线可以从所述气体供应管线分支。

4、所述气体供应管线可以供应惰性气体。

5、泵送化学品的循环泵、加热化学品的加热器、或过滤化学品的过滤器中的至少一个可以被设置在循环管线中。

6、加热所述化学品的加热器和测量所述化学品的温度的温度传感器可以被设置在所述循环管线中。

7、过滤所述化学品的过滤器可以被设置在所述循环管线中，并且所述循环管线可以包括过滤器旁通管线，所述过滤器旁通管线被连接至所述过滤器的上游侧和下游侧并且被配置成选择性地允许所述化学品绕过所述过滤器。

8、所述设备还可以包括：调节阀单元，所述调节阀单元包括第一调节阀和第二调节阀，所述第一调节阀被设置在所述循环管线的储罐出口侧，所述储罐出口侧是所述循环管线与所述泄漏确定管线之间的连接点的上游侧，所述第二调节阀被设置在所述循环管线的储罐入口侧；和控制器，所述控制器被连接至所述第一调节阀、所述第二调节阀、所述泄漏确定管线、以及所述测量单元。

9、在所述循环管线中在所述第一调节阀的下游侧与所述第二调节阀的上游侧之间泵送所述化学品的循环泵可以被设置在所述循环管线中。

10、过滤所述化学品的过滤器、加热所述化学品的加热器、测量所述化学品的温度的温度传感器、测量所述化学品的浓度的浓度测量单元中的至少一个可以被设置在所述循环管线中并且位于所述第一调节阀的下游侧与所述第二调节阀的上游侧之间。

11、向外部排放化学品的排出管线可以被连接至第一调节阀或第二调节阀中的至少一个。

12、所述设备还可以包括气体供应管线，所述气体供应管线被连接至所述储罐、并且供应对所述储罐的内部空间加压的气体，以将所述储罐中的所述化学品供应至所述化学品排放管线，其中所述泄漏确定管线可以从所述气体供应管线分支。

13、所述化学品排放管线可以被连接至所述循环管线，并且所述设备还可以包括打开和关闭所述化学品排放管线的流路的控制阀。

14、所述测量单元可以被设置在所述泄漏确定管线中。

15、所述设备可以包括相互连接的多个储罐，其中所述化学品排放管线可以被连接至所述多个储罐中的一个，并且所述循环管线、所述泄漏确定管线、以及所述测量单元可以被连接至所述多个储罐中的每个。

16、根据本公开的一个方面，用于处理衬底的设备包括：处理室；衬底处理单元，所述衬底处理单元被设置在所述处理室中、支撑所述衬底、并处理所述衬底；供应管线，所述供应管线包括将化学品排放到所述衬底的化学品排放管线；储罐，所述储罐被设置在所述供应管线中并储存所述化学品；循环管线，所述循环管线被连接至所述储罐并使来自所述储罐的所述化学品自循环；循环泵，所述循环泵被设置在所述循环管线上并泵送所述化学品；加热器，所述加热器被设置在所述循环管线上并加热所述化学品；气体供应管线，所述气体供应管线被连接至所述储罐、并且供应对所述储罐的内部空间加压的惰性气体，以将所述储罐中的所述化学品供应至所述化学品排放管线；泄漏确定管线，所述泄漏确定管线从所述气体供应管线分支、连接至所述循环管线、并向所述循环管线供应所述惰性气体；调节阀单元，所述调节阀单元包括第一调节阀、第二调节阀、以及气体供应阀，所述第一调节阀被设置在所述循环管线的储罐出口侧，所述储罐出口侧是所述循环管线与所述泄漏确定管线之间的连接点的上游侧，所述第二调节阀被设置在所述循环管线的储罐入口侧，所述气体供应阀打开和关闭以将来自所述气体供应管线的气体选择性地供应至所述储罐或所述泄漏确定管线；测量单元，所述测量单元测量供应至所述循环管线的气体的压力的变化；以及控制器，所述控制器被连接至所述第一调节阀、所述第二调节阀、所述气体供应阀、以及所述测量单元。

17、所述调节阀单元可以包括第三调节阀，所述第三调节阀被设置在所述循环管线上位于在所述循环管线与所述泄漏确定管线之间的连接点的下游侧且位于所述第二调节阀的上游侧，并且其中，所述循环泵可以被设置在所述循环管线上并且位于所述连接点的所述下游侧与所述第三调节阀之间。

18、向外部排放化学品的排出管线可以被连接至第一调节阀和第三调节阀。

19、过滤所述化学品的过滤器可以被设置在所述循环管线上，并且所述循环管线可以包括过滤器旁通管线，所述过滤器旁通管线被连接至所述过滤器的上游侧和下游侧并且被配置成选择性地允许所述化学品绕过所述过滤器。

20、所述衬底处理单元可以被设置为多个衬底处理单元，其中所述供应管线可以包括多个化学品排放管线，所述多个化学品排放管线被连接至所述循环管线并将所述化学品排放到所述多个衬底处理单元中的每个衬底处理单元的衬底，并且排出管线可以被连接至一点的下游侧，所述多个化学品排放管线在该点处被连接到所述循环管线中。

21、气体供应管线可以供应n2气体。

22、根据本公开的一方面，一种用于处理衬底的方法，包括：循环操作，所述循环操作通过被连接至储罐的循环管线使化学品自循环，所述储罐设置在将所述化学品供应至所述衬底的供应管线中；泄漏确定操作，所述泄漏确定操作在设置在所述循环管线的储罐出口侧的第一调节阀和设置在所述循环管线的储罐入口侧的第二调节阀关闭的状态下，通过从连接至所述储罐的气体供应管线分支的泄漏确定管线向所述循环管线供应气体以测量所述气体的压力的变化；以及供应操作，所述供应操作通过所述气体供应管线供应对所述储罐的内部空间加压的气体，以将所述储罐中的所述化学品供应至所述衬底。