硬涂膜的制作方法

本发明涉及硬涂膜，更详细而言，涉及能够作为液晶显示装置、等离子体显示装置、电致发光(el)显示装置等平板显示器、触控面板等的构件、载体膜、柔性基板等基膜等使用的设置有硬涂层的硬涂膜。

背景技术：

1、对于液晶显示装置(lcd)等平板显示器的显示面，要求赋予耐擦伤性以使显示面不会因操作时产生划痕而使可视性降低。因此，通常利用在基材膜上设置有硬涂层的硬涂膜来赋予耐擦伤性。另外，近年来由于在显示画面上在观看显示的同时能够通过用手指、笔等进行触摸而输入数据、指示的触控面板的普及，对外观的白化得到抑制、具有高总光线透射率、低雾度的硬涂膜的功能要求日益提高。

2、另外，对于载体膜、柔性基板等基膜，近年来需求复杂化，要求实现新的电子设备的材料、技术。对针对热的耐热性(尺寸稳定性)、与形成在膜上的层叠膜的粘附性优异的膜的要求日益提高。因此，需要在各种基材膜上设置硬涂层(功能层)从而赋予利用基材膜单体不能得到的性能、满足进一步高性能化的要求的高功能膜。

3、因此，预期将透明性、耐热性、尺寸稳定性、低吸湿性优异的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素、环烯烃以及尺寸稳定性进一步优异的聚酰亚胺、液晶聚合物作为基材膜用于光学构件、电子构件用途。对于在这样的基材膜上还设置有用于赋予硬质性的硬涂层的硬涂膜，随着近年来用途的多样化，不仅要求基材膜与硬涂层的粘附性优异，而且要求光学特性、耐热性、与层叠膜的粘附性也优异。

4、以往，例如在专利文献1、专利文献2等中公开了对光学特性特别优异的环烯烃膜等基材膜赋予与硬涂层的易胶粘性的方法。在专利文献1中公开了对基材膜表面进行电晕处理、等离子体处理、uv处理等的方法，在专利文献2中公开了在基材膜上涂设锚固涂布剂(锚固涂布处理)。

5、现有技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：日本特开2001-147304号公报

8、专利文献2：日本特开2006-110875号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、另外，对于柔性基板等基膜，要求高耐热性(尺寸稳定性)。例如在热处理后的膜中，要求不产生外观的劣化、形状变化、光学特性(例如雾度等)的变化等。

3、因此，本发明的目的在于提供具有高的耐热性和尺寸稳定性、且光学特性优异的硬涂膜。

4、用于解决课题的手段

5、本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现，由于通过硬涂层而变得能够在高温下进行热处理，因此通过在硬涂层的基础上还进行退火处理，能够得到耐热性优异、此外光学特性也优异的硬涂膜。

6、即，本发明具有以下的构成。

7、(第一发明)

8、一种硬涂膜，在基材膜的两面分别设置有含有电离射线固化型树脂组合物的硬涂层，其特征在于，满足下述条件(i)、(ii)，且将该硬涂膜在150～200℃下热处理1～30分钟后的热收缩率的最大值为1.2％以下。

9、条件(i)：所述电离射线固化型树脂组合物含有包含(甲基)丙烯酰基的丙烯酸系树脂。

10、条件(ii)：所述电离射线固化型树脂组合物含有无机微粒或有机微粒。

11、(第二发明)

12、根据第一发明所述的硬涂膜，其特征在于，相对于所述电离射线固化型树脂组合物的固体成分，所述无机微粒或有机微粒的含量为1质量％～60质量％的范围。

13、(第三发明)

14、根据第一或第二发明所述的硬涂膜，其特征在于，将所述基材膜的一个面的硬涂层a的膜厚设为da、将另一个面的硬涂层b的膜厚设为db时，硬涂层a、b的膜厚da、db均为0.5～12.0μm的范围。

15、(第四发明)

16、根据第一至第三发明中任一项所述的硬涂膜，其特征在于，所述硬涂层a与所述硬涂层b的膜厚比((da/db)×100)为50％～150％的范围。

17、(第五发明)

18、根据第一至第四发明中任一项所述的硬涂膜，其特征在于，所述基材膜为选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、三乙酰纤维素、液晶聚合物中的任一种。

19、发明效果

20、根据本发明，通过在硬涂层的基础上进行退火处理，能够提供具有高耐热性、尺寸稳定性，并且外观的劣化、形状变化得到抑制的硬涂膜。

技术特征：

1.一种硬涂膜，在基材膜的两面分别设置有含有电离射线固化型树脂组合物的硬涂层，其特征在于，满足下述条件(i)、(ii)，且将该硬涂膜在150～200℃下加热处理1～30分钟后的热收缩率的最大值为1.2％以下，

2.根据权利要求1所述的硬涂膜，其特征在于，相对于所述电离射线固化型树脂组合物的固体成分，所述无机微粒或有机微粒的含量为1质量％～60质量％的范围。

3.根据权利要求1或2所述的硬涂膜，其特征在于，将所述基材膜的一个面的硬涂层a的膜厚设为da、将另一个面的硬涂层b的膜厚设为db时，硬涂层a、b的膜厚da、db均为0.5～12.0μm的范围。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的硬涂膜，其特征在于，所述硬涂层a与所述硬涂层b的膜厚比((da/db)×100)为50％～150％的范围。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的硬涂膜，其特征在于，所述基材膜为选自聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、三乙酰纤维素、液晶聚合物中的任一种。

技术总结本发明提供具有高耐热性、尺寸稳定性、光学特性优异的硬涂膜。本发明的硬涂膜在基材膜的两面分别设置有含有电离射线固化型树脂组合物的硬涂层，满足下述条件(I)、(II)，将该硬涂膜在150～200℃下热处理1～30分钟后的热收缩率的最大值为1.2％以下。条件(I)：电离射线固化型树脂组合物中含有包含(甲基)丙烯酰基的丙烯酸系树脂。条件(II)：电离射线固化型树脂组合物含有无机微粒或有机微粒。技术研发人员：坂本有辉,户谷翔太郎,长谷川正英受保护的技术使用者：日本制纸株式会社技术研发日：技术公布日：2024/6/30