光学镜头、取像装置及电子装置的制作方法

本揭示内容是有关于一种光学镜头及取像装置，且特别是有关于一种可抗反射的光学镜头及取像装置。

背景技术：

1、已知镀膜技术(pvd与一般cvd)仅能在平面上制作出可用的抗反射镀膜。在高阶移动装置中，对高品质镜头的要求大幅提升，高阶光学镜头的镜片数量相应显著增加，由于光学系统的设计难度加剧与镜片数量提升，在大离轴视场像差须强化修正的原因下，导致靠近成像面的光学镜片面型变化幅度大增，成为已知镀膜技术无法克服的瓶颈。因此，在高阶多镜片光学系统与面型变化剧烈的光学镜片上研发高均匀度的镀膜技术已是趋势所需。

技术实现思路

1、本揭示内容是研发多光学镜片的光学镜头，其应用原子层沉积法镀膜(ald，atomic layer deposit)技术，以特定多重抗反射镀膜因子进行设计，而获得优异的镀膜配置。通过抗反射镀膜表面的次波长微结构的特性，使具有多光学镜片的高品质光学镜头能够获得最佳抗反射效果，以解决剧烈面型变化的光学镜片所造成的大角度强光严重反射问题，使弯曲变化的光学镜片在全视场内，能够达到均匀的抗反射镀膜(ar coating)制作效果。借此，将光学镜片组合应用在多光学镜片的光学镜头时，有助于显著提升高阶光学镜头的成像品质。

2、依据本揭示内容提供的一种光学镜头，其由物侧至像侧包含至少四光学镜片。所述至少四光学镜片中至少一光学镜片包含一抗反射镀膜，抗反射镀膜位于光学镜片的物侧表面或像侧表面，抗反射镀膜包含至少一膜层，位于抗反射镀膜外侧的膜层为陶瓷膜层，抗反射镀膜包含多个孔洞，且邻近抗反射镀膜外侧的孔洞的尺寸大于邻近抗反射镀膜内侧的孔洞的尺寸。光学镜头的抗反射镀膜配置第一因子为far1，抗反射镀膜的总膜厚为ttk，其满足下列条件：0.500≤far1；以及150nm≤ttk。

3、依据前述的光学镜头，光学镜头的抗反射镀膜配置第一因子为far1，其可以满足下列条件：2.000≤far1。

4、依据前述的光学镜头，光学镜头的抗反射镀膜配置第二因子为far2，其可以满足下列条件：0.500≤far2。

5、依据前述的光学镜头，光学镜头的抗反射镀膜配置第三因子为far3，其可以满足下列条件：3.5≤far3。

6、依据前述的光学镜头，光学镜头的抗反射镀膜配置主因子为far，其可以满足下列条件：-0.30≤far≤1。

7、依据前述的光学镜头，抗反射镀膜的总膜厚为ttk，其可以满足下列条件：240nm≤ttk≤400nm。

8、依据前述的光学镜头，位于光学镜片中心处的抗反射镀膜的总厚度为tc，位于光学镜片周边处的抗反射镀膜的总厚度为tp，其可以满足下列条件：0％<|tc-tp|/tc≤0.50％。

9、依据前述的光学镜头，光学镜片为一基材，基材于波长400nm-630nm的平均反射率为r4063，其可以满足下列条件：r4063≤0.5％。

10、依据前述的光学镜头，光学镜片为一基材，基材的折射率为ns，其可以满足下列条件：ns≤1.600。

11、依据前述的光学镜头，光学镜片中心处的反射率谷点在一范围间具有相对较低反射率的波长为wtc，光学镜片周边处的反射率谷点在一范围间具有相对较低反射率的波长为wtp，其可以满足下列条件：1nm≤|wtc-wtp|≤10nm。

12、依据前述的光学镜头，光学镜片中心处的反射率峰点在一范围间具有相对较高反射率的波长为wcc，光学镜片周边处的反射率峰点在一范围间具有相对较高反射率的波长为wcp，其可以满足下列条件：1nm≤|wcc-wcp|≤10nm。

13、依据本揭示内容提供的一种取像装置，其包含如前段所述的光学镜头。

14、依据本揭示内容提供的一种电子装置，且电子装置包含如前段所述的取像装置。

15、当far1满足上述条件时，通过控制光学镜头中的光学镜片厚度与离轴水平位移的变化关系因子，有效获得光学镜头中的最佳镀膜配置。

16、当ttk满足上述条件时，通过控制抗反射镀膜的总厚度，有效维持最佳的低反射效果。

技术特征：

1.一种光学镜头，其特征在于，该光学镜头由物侧至像侧包含：

2.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜头的抗反射镀膜配置第一因子为far1，其满足下列条件：

3.根据权利要求2所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜头的抗反射镀膜配置第二因子为far2，其满足下列条件：

4.根据权利要求3所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜头的抗反射镀膜配置第三因子为far3，其满足下列条件：

5.根据权利要求4所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜头的抗反射镀膜配置主因子为far，其满足下列条件：

6.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该抗反射镀膜的总膜厚为ttk，其满足下列条件：

7.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，位于该光学镜片中心处的该抗反射镀膜的总厚度为tc，位于该光学镜片周边处的该抗反射镀膜的总厚度为tp，其满足下列条件：

8.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜片为一基材，该基材于波长400nm-630nm的平均反射率为r4063，其满足下列条件：

9.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜片为一基材，该基材的折射率为ns，其满足下列条件：

10.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜片中心处的反射率谷点在一范围间具有相对较低反射率的波长为wtc，该光学镜片周边处的反射率谷点在一范围间具有相对较低反射率的波长为wtp，其满足下列条件：

11.根据权利要求10所述的光学镜头，其特征在于，该光学镜片中心处的反射率峰点在一范围间具有相对较高反射率的波长为wcc，该光学镜片周边处的反射率峰点在一范围间具有相对较高反射率的波长为wcp，其满足下列条件：

12.一种取像装置，其特征在于，该取像装置包含：

13.一种电子装置，其特征在于，该电子装置包含：

技术总结本揭示内容提供一种光学镜头、取像装置及电子装置，光学镜头由物侧至像侧包含至少四光学镜片。所述至少四光学镜片中至少一光学镜片包含一抗反射镀膜，抗反射镀膜位于光学镜片的物侧表面或像侧表面，抗反射镀膜包含至少一膜层，位于抗反射镀膜外侧的膜层为陶瓷膜层，抗反射镀膜包含多个孔洞，且邻近抗反射镀膜外侧的孔洞的尺寸大于邻近抗反射镀膜内侧的孔洞的尺寸。借此，可以使具有多个光学镜片的光学镜头获得最佳抗反射效果，能显著提升光学镜头的成像品质。技术研发人员：蔡温祐,张建邦,纪奇玮,洪伟峰,邓钧鸿,朱国强受保护的技术使用者：大立光电股份有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/20