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阵列基板及其制作方法、显示面板与流程

  • 国知局
  • 2024-09-11 14:30:30

本申请涉及显示,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

背景技术:

1、液晶显示装置(liquid crystal displaypane1,lcd)具有重量轻、耗电少、辐射低和携带方便等优点,广泛应用于如显示器、电视、移动电话和数字产品等现代化信息设备中,随着技术发展,人们对于电子产品的体验感和舒适度的要求也越来越高。

2、半透半反显示是一种可以根据外界环境亮度变化在透射和反射显示模式之间切换的lcd显示技术,在外界亮度高时,可以利用环境光作为光源实现显示,节约功耗,在外界光线不佳时,利用背光提供光源实现显示,该技术具有节能、护眼、高亮环境对比度高、透射显示高清、动态响应快等优点。在使用半透半反的显示产品时发现,点亮显示面板后,如图1所示,显示面板的边缘经常会出现亮线不良的问题,因此,亟需一种可以改善边缘亮线不良的显示面板。

技术实现思路

1、有鉴于此,本申请的目的在于提出一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

2、本申请的第一方面,提供了一种阵列基板,包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、透光层、反射层和第一配向层,所述衬底基板包括显示区、围绕所述显示区设置的虚设像素区以及围绕所述虚设像素区设置的虚设区;处于所述显示区内的所述透光层设有多个第一过孔,处于所述虚设像素区内的所述透光层设有多个第二过孔,处于所述虚设区内的所述透光层设有多个第三过孔。

3、在一些实施方式中,所述显示区内设有多个像素单元,每个所述像素单元包括透射区和反射区,所述透射区内设有至少一个所述第一过孔;所述虚设像素区内设有至少一圈围绕所述显示区设置的虚拟像素,每个所述虚拟像素内设有至少一个所述第二过孔;所述虚设区内设有至少一圈围绕所述虚设像素区设置的所述第三过孔。

4、在一些实施方式中,所述衬底基板还包括围绕所述虚设区设置的密封区,所述虚设区的外周设有密封过渡区,所述第三过孔在所述衬底基板的正投影与所述密封过渡区完全不重叠。

5、在一些实施方式中,所述虚设区内设有多圈围绕所述虚设像素区设置的所述第三过孔,所述显示区沿第一方向的一侧设有扇出区,沿所述第一方向相邻两个所述第一过孔的间距为第一间距,沿所述第一方向相邻两个所述第三过孔的间距为第二间距,所述第二间距小于所述第一间距。

6、在一些实施方式中,沿第二方向相邻两个所述第一过孔的间距为第三间距,沿所述第二方向相邻两个所述第三过孔的间距为第四间距,所述第二方向与所述第一方向相互垂直,所述第三间距等于所述第四间距。

7、在一些实施方式中,所述反射层远离所述衬底基板的一侧设有网格导电层,所述网格导电层位于所述虚设区和所述虚设像素区内,所述网格导电层在所述衬底基板的正投影与所述密封过渡区完全不重叠。

8、在一些实施方式中,所述驱动电路层包括层叠设置的栅极层、绝缘层、源漏电极层、钝化层和公共电极层,所述栅极层靠近所述衬底基板设置,所述网格导电层和所述公共电极层电连接。

9、在一些实施方式中,所述第一配向层靠近扇出区的区域在所述衬底基板的正投影与密封区至少部分重叠,处于所述密封区内的所述第一配向层设有多个第四过孔。

10、本申请的第二方面,提供了一种阵列基板的制作方法,包括:在衬底基板的一侧形成驱动电路层,在所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧形成透光层,在所述透光层上形成第一过孔、第二过孔和第三过孔,在所述透光层远离所述衬底基板的一侧形成反射层,在所述反射层远离所述衬底基板的一侧形成第一配向层。

11、在一些实施方式中,所述在所述反射层远离所述衬底基板的一侧形成第一配向层,包括:将配向材料涂覆在所述反射层远离所述衬底基板的一侧,依次经过预固化工艺、主固化工艺、配向工艺和烘烤工艺形成第一配向层,所述预固化工艺的温度为80℃至120℃,所述主固化工艺的温度大于所述预固化工艺的温度。

12、本申请的第三方面,提供了一种显示面板,包括依次层叠设置的如上第一方面所述的阵列基板、液晶层和彩膜基板,所述阵列基板和所述彩膜基板之间设有密封胶,所述密封胶位于密封区内。

13、在一些实施方式中,所述彩膜基板靠近所述液晶层的一侧设有第二配向层,所述第二配向层靠近扇出区的区域在所述衬底基板的正投影与所述密封区至少部分重叠,处于所述密封区内的所述第二配向层设有多个第五过孔。

14、从上面所述可以看出,本申请提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板,阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、透光层、反射层和第一配向层,衬底基板包括显示区、围绕显示区设置的虚设像素区以及围绕虚设像素区设置的虚设区;处于显示区内的透光层设有多个第一过孔,处于虚设像素区内的透光层设有多个第二过孔,处于虚设区内的所述透光层设有多个第三过孔;通过在虚设区形成类似于显示区的第一过孔或虚设像素区的第二过孔的第三过孔,使得透光层的厚度从显示区向虚设区的方向是连续均匀变化的,改善了虚设区和显示区的膜厚过渡差异,使得第一配向层在显示区边缘和中部的膜厚是均一的,可以提升pi膜印刷均一性,从而改善边缘亮线不良的问题,经测试边缘亮线不良程度由l4等级降低为l1等级;该阵列基板及其制作方法、显示面板,结构简单,制作方便,可以有效改善边缘亮线不良缺陷,确保了显示效果。

技术特征:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、透光层、反射层和第一配向层,所述衬底基板包括显示区、围绕所述显示区设置的虚设像素区以及围绕所述虚设像素区设置的虚设区;

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述显示区内设有多个像素单元,每个所述像素单元包括透射区和反射区,所述透射区内设有至少一个所述第一过孔;所述虚设像素区内设有至少一圈围绕所述显示区设置的虚拟像素,每个所述虚拟像素内设有至少一个所述第二过孔;所述虚设区内设有至少一圈围绕所述虚设像素区设置的所述第三过孔。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板还包括围绕所述虚设区设置的密封区,所述虚设区的外周设有密封过渡区,所述第三过孔在所述衬底基板的正投影与所述密封过渡区完全不重叠。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述虚设区内设有多圈围绕所述虚设像素区设置的所述第三过孔,所述显示区沿第一方向的一侧设有扇出区,沿所述第一方向相邻两个所述第一过孔的间距为第一间距,沿所述第一方向相邻两个所述第三过孔的间距为第二间距,所述第二间距小于所述第一间距。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,沿第二方向相邻两个所述第一过孔的间距为第三间距,沿所述第二方向相邻两个所述第三过孔的间距为第四间距,所述第二方向与所述第一方向相互垂直,所述第三间距等于所述第四间距。

6.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述反射层远离所述衬底基板的一侧设有网格导电层,所述网格导电层位于所述虚设区和所述虚设像素区内,所述网格导电层在所述衬底基板的正投影与所述密封过渡区完全不重叠。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述驱动电路层包括层叠设置的栅极层、绝缘层、源漏电极层、钝化层和公共电极层,所述栅极层靠近所述衬底基板设置,所述网格导电层和所述公共电极层电连接。

8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一配向层靠近扇出区的区域在所述衬底基板的正投影与密封区至少部分重叠,处于所述密封区内的所述第一配向层设有多个第四过孔。

9.一种如权利要求1-8中任意一项所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板的一侧形成驱动电路层,在所述驱动电路层远离所述衬底基板的一侧形成透光层,在所述透光层上形成第一过孔、第二过孔和第三过孔,在所述透光层远离所述衬底基板的一侧形成反射层,在所述反射层远离所述衬底基板的一侧形成第一配向层。

10.根据权利要求9所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述在所述反射层远离所述衬底基板的一侧形成第一配向层,包括:将配向材料涂覆在所述反射层远离所述衬底基板的一侧,依次经过预固化工艺、主固化工艺、配向工艺和烘烤工艺形成第一配向层,所述预固化工艺的温度为80℃至120℃,所述主固化工艺的温度大于所述预固化工艺的温度。

11.一种显示面板,其特征在于,包括依次层叠设置的如权利要求1-8中任意一项所述的阵列基板、液晶层和彩膜基板,所述阵列基板和所述彩膜基板之间设有密封胶,所述密封胶位于密封区内。

12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板靠近所述液晶层的一侧设有第二配向层,所述第二配向层靠近扇出区的区域在所述衬底基板的正投影与所述密封区至少部分重叠,处于所述密封区内的所述第二配向层设有多个第五过孔。

技术总结本申请提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板,所述阵列基板,包括依次层叠设置的衬底基板、驱动电路层、透光层、反射层和第一配向层,所述衬底基板包括显示区、围绕所述显示区设置的虚设像素区以及围绕所述虚设像素区设置的虚设区;处于所述显示区内的所述透光层设有多个第一过孔,处于所述虚设像素区内的所述透光层设有多个第二过孔,处于所述虚设区内的所述透光层设有多个第三过孔。本申请提供的阵列基板及其制作方法、显示面板,结构简单,制作方便,可以有效改善边缘亮线不良缺陷,确保了显示效果。技术研发人员:李姣姣,臧鹏程,向西,宋文华,唐充,李琰受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司技术研发日:技术公布日:2024/9/9

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