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一种电子雾化设备的制作方法

  • 国知局
  • 2024-09-23 14:23:15

本申请涉及电子雾化设备,特别涉及一种电子雾化设备。

背景技术:

1、相关技术中,电子雾化设备气流噪声较大区域往往是在气道过流面积较小的缝隙(如type-c母座间隙、电池与电子雾化设备壳体之间间隙)或过流孔(如进气通道、节流通道-电子雾化设备吸阻或流量控制通道)中。其中,节流通道及其周边大概率是整个电子雾化设备的气道中最大气流噪声分布区。进一步分析可知,节流通道的横截面面积小,抽吸体验时节流通道流速大增,相关气道附近气流紊流、涡流强度、气道压力的脉动强度和频率也随之增大,从而产生人体可感知的气流噪声波,最终导致用户抽吸体验舒适感、愉悦感下降。

技术实现思路

1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本申请提出一种电子雾化设备,能够降低电子雾化设备的气流噪声,以优化使用体验。

2、本申请实施例的电子雾化设备,包括:

3、气道结构,具有气流通道和第一腔体;

4、降噪结构,包括结构本体,所述结构本体的一端与所述气道结构连接,所述结构本体为中空结构且形成有第一流道,所述第一流道连通所述气流通道和所述第一腔体,所述结构本体还设置有至少一个第二流道,所述第二流道的一端位于所述结构本体的内壁且与所述第一流道连通,所述第二流道的另一端位于结构本体的外壁且与所述第一腔体连通。

5、进一步地,所述第二流道的数量为一个,所述第二流道的横截面轮廓为圆形、椭圆形或多边形的其中一种;或者,所述第二流道的数量为两个及两个以上,所述第二流道的横截面轮廓为圆形、椭圆形或多边形的一种,任意两个所述第二流道的横截面轮廓相同或不同。

6、进一步地,所述第二流道的一端与所述结构本体的外壁壁面圆滑过渡。

7、进一步地,所述第二流道的另一端与所述结构本体的内壁相交处形成有连接部,所述连接部远离所述气道结构的出气端的一侧为圆滑曲面。

8、进一步地,所述降噪结构还包括凸起,所述凸起的一端与所述结构本体的另一端连接,所述凸起的另一端为自由端且沿远离所述气流通道的出气端方向延伸。

9、进一步地,所述凸起的数量为多个,多个所述凸起沿所述第一流道的周向间隔设置,以使所述降噪结构远离所述气道结构出气端的一端呈现为高低起伏的结构。

10、进一步地,所述凸起为齿状结构,所述齿状结构包括齿根、齿顶及齿廓表面,所述齿廓表面位于所述齿根和所述齿顶之间。

11、进一步地,所述齿状结构的齿廓表面中靠近所述结构本体内壁面的一侧与另一相邻所述齿状结构的齿廓表面之间具有间隙;或者,所述齿状结构的齿廓表面中靠近所述结构本体内壁面的一侧与另一相邻所述齿状结构的齿廓表面相交。

12、进一步地,沿所述气流通道内的气流流动方向,所述齿状结构的横截面积逐渐减小;沿远离所述第一流道的轴线方向,所述齿状结构的齿宽保持不变或逐渐减小。

13、进一步地,所述齿状结构的内壁面与所述齿廓表面形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿顶之间形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿根形成有相贯线。

14、进一步地,所述齿状结构的外壁面与所述齿廓表面圆滑过渡;和/或,所述齿状结构的外壁面与所述齿顶圆滑过渡;和/或所述齿状结构的外壁面与所述齿根圆滑过渡。

15、进一步地,任意两个所述齿状结构相同或不同。

16、进一步地,所述齿状结构为直齿、斜齿、螺旋齿、锥齿中的一种。

17、进一步地,所述齿状结构沿所述第一流道周向方向的截面为锯齿状、花瓣状、或数学函数波形图中的一种。

18、进一步地,所述凸起形成于所述结构本体远离所述气道结构的一端,所述第二流道设置于所述齿状结构上,且沿所述气流通道内的气流流动方向,所述第二流道的投影位于所述齿顶的对称轴线上;或者,

19、所述第二流道设置于所述结构本体上,且沿所述气流通道内的气流流动方向,所述第二流道的投影位于所述齿根上;或者,

20、14.所述齿状结构和所述结构本体上均设置有所述第二流道,其中,沿所述气流通道内的气流流动方向,设置于所述齿状结构上的第二流道的投影位于所述齿顶的对称轴线上,设置于所述结构本体上的第二流道的投影位于所述齿根上。

21、进一步地,所述降噪结构与所述气道结构一体成型;或者,所述降噪结构内嵌于所述气道结构内;或者,所述降噪结构套设于所述气道结构的外周;或者,所述降噪结构一端端面与所述气道结构的端面固定连接。

22、本申请实施例的电子雾化设备,至少具有如下有益效果:本申请实施例中,降噪结构与气道结构相连,降噪结构的结构本体具有第一流道和至少一个第二流道,第一流道连通第一腔体和气流通道,第二流道连通结构本体的内壁和外壁,即第二流道连通第一腔体和第一流道。由于结构本体的内壁和外壁之间存在的压力差,这个压力差会驱动充足的气流从结构本体的外壁通过第二流道流向结构本体的内壁,并在内壁形成微射流,微射流会对第一流道内由结构本体内壁面脱离而产生的涡流结构或边界层进行破坏,能够减少气流通道内壁面和第一流道内壁面的气动载荷波动,从而使气动噪声降低。如此,有利于降噪电子雾化设备的气流噪声。

23、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。

技术特征:

1.一种电子雾化设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的电子雾化设备,其特征在于,所述第二流道的数量为一个,所述第二流道的横截面轮廓为圆形、椭圆形或多边形的其中一种;或者,所述第二流道的数量为两个及两个以上,所述第二流道的横截面轮廓为圆形、椭圆形或多边形的一种,任意两个所述第二流道的横截面轮廓相同或不同。

3.根据权利要求1或2所述的电子雾化设备,其特征在于,所述第二流道的一端与所述结构本体的外壁壁面圆滑过渡。

4.根据权利要求3所述的电子雾化设备,其特征在于,所述第二流道的另一端与所述结构本体的内壁相交处形成有连接部,所述连接部远离所述气道结构的出气端的一侧为圆滑曲面。

5.根据权利要求1所述的电子雾化设备,其特征在于,所述降噪结构还包括凸起,所述凸起的一端与所述结构本体的另一端连接,所述凸起的另一端为自由端且沿远离所述气流通道的出气端方向延伸。

6.根据权利要求5所述的电子雾化设备,其特征在于,所述凸起的数量为多个,多个所述凸起沿所述第一流道的周向间隔设置,以使所述降噪结构远离所述气道结构出气端的一端呈现为高低起伏的结构。

7.根据权利要求6所述的电子雾化设备,其特征在于,所述凸起为齿状结构,所述齿状结构包括齿根、齿顶及齿廓表面,所述齿廓表面位于所述齿根和所述齿顶之间。

8.根据权利要求7所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构的齿廓表面中靠近所述结构本体内壁面的一侧与另一相邻所述齿状结构的齿廓表面之间具有间隙;或者,所述齿状结构的齿廓表面中靠近所述结构本体内壁面的一侧与另一相邻所述齿状结构的齿廓表面相交。

9.根据权利要求7所述的电子雾化设备,其特征在于,沿所述气流通道内的气流流动方向,所述齿状结构的横截面积逐渐减小;沿远离所述第一流道的轴线方向,所述齿状结构的齿宽保持不变或逐渐减小。

10.根据权利要求7至9任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构的内壁面与所述齿廓表面形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿顶之间形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿根形成有相贯线。

11.根据权利要求7至9任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构的外壁面与所述齿廓表面圆滑过渡;和/或,所述齿状结构的外壁面与所述齿顶圆滑过渡;和/或所述齿状结构的外壁面与所述齿根圆滑过渡。

12.根据权利要求7至9任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,任意两个所述齿状结构相同或不同,或/和所述齿状结构为直齿、斜齿、螺旋齿、锥齿中的一种。

13.根据权利要求12所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构沿所述第一流道周向方向的截面为锯齿状、花瓣状、或数学函数波形图中的一种。

14.根据权利要求7至9任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,所述凸起形成于所述结构本体远离所述气道结构的一端,所述第二流道设置于所述齿状结构上,且沿所述气流通道内的气流流动方向,所述第二流道的投影位于所述齿顶的对称轴线上;或者,

15.根据权利要求1所述的电子雾化设备,其特征在于,所述降噪结构与所述气道结构一体成型;或者,所述降噪结构内嵌于所述气道结构内;或者,所述降噪结构套设于所述气道结构的外周;或者,所述降噪结构一端端面与所述气道结构的端面固定连接。

技术总结本申请公开了一种电子雾化设备,包括:气道结构,具有气流通道和第一腔体;降噪结构,包括结构本体,所述结构本体的一端与所述气道结构连接,所述结构本体为中空结构且形成有第一流道,所述第一流道连通所述气流通道和所述第一腔体,所述结构本体还设置有至少一个第二流道,所述第二流道的一端位于所述结构本体的内壁且与所述第一流道连通,所述第二流道的另一端位于结构本体的外壁且与所述第一腔体连通。本申请实施例中,能够减少气流通道内壁面和第一流道内壁面的气动载荷波动,从而使气动噪声降低。如此,有利于降噪电子雾化设备的气流噪声。技术研发人员:魏武,汪泉,丁晗晖,王强伟,梁俊翔,吴伟,张海波受保护的技术使用者:深圳市卓力能技术有限公司技术研发日:20231221技术公布日:2024/9/19

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