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一种电子雾化设备的制作方法

  • 国知局
  • 2024-09-19 14:47:56

本申请涉及电子雾化,特别涉及一种电子雾化设备。

背景技术:

1、相关技术中,电子雾化设备气流噪声较大区域往往是在气道过流面积较小的缝隙(如type-c母座间隙、电池与电子雾化设备壳体之间间隙)或过流孔(如进气通道、节流通道-电子雾化设备吸阻或流量控制通道)中。其中,节流通道及其周边大概率是整个电子雾化设备的气道中最大气流噪声分布区。进一步分析可知,节流通道的横截面面积小,抽吸体验时节流通道流速大增,相关气道附近气流紊流、涡流强度、气道压力的脉动强度和频率也随之增大,从而产生人体可感知的气流噪声波,最终导致用户抽吸体验舒适感、愉悦感下降。

技术实现思路

1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本申请提出一种电子雾化设备,能够降低电子雾化设备的气流噪声,优化使用体验。

2、本申请实施例的电子雾化设备,包括:

3、气道结构,具有气流通道;

4、降噪结构,包括结构本体和凸起,所述结构本体的一端与所述气道结构的出气端连接,所述结构本体具有与所述气流通道相连通的流道,所述凸起的一端与所述结构本体的另一端连接,所述凸起的另一端为自由端且沿所述气流通道内的气流方向延伸;

5、其中,所述凸起的数量为一个或一个以上,所述凸起沿所述流道的周向间隔设置。

6、进一步地,所述凸起为齿状结构,所述齿状结构包括齿根、齿顶及齿廓表面,所述齿廓表面位于所述齿根和所述齿顶之间。

7、进一步地,所述齿廓表面靠近所述结构本体内壁面的一端与另一相邻所述齿廓表面之间具有间隙;或者,所述齿廓表面靠近所述结构本体内壁面的一端与另一相邻所述齿廓表面相交。

8、进一步地,沿所述气流通道内的气流流动方向,所述齿状结构的横截面积逐渐减小;沿远离所述气流通道中心方向,所述齿状结构的齿宽保持不变或逐渐减小。

9、进一步地,所述凸起的数量为多个,任意相邻两个所述齿状结构之间的间隔大于所述齿状结构的齿宽的最大宽度。

10、进一步地,所述齿状结构的内壁面与所述齿廓表面形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿顶之间形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿根形成有相贯线。

11、进一步地,所述齿状结构的外壁面与所述齿廓表面圆滑过渡;和/或,所述齿状结构的外壁面与所述齿顶圆滑过渡;和/或所述齿状结构的外壁面与所述齿根圆滑过渡。

12、进一步地,所述凸起的数量为一个以上,即所述齿状结构的数量为一个以上,任意两个所述齿状结构相同或不同。

13、进一步地,所述齿状结构为直齿、斜齿、螺旋齿、锥齿中的一种。

14、进一步地,所述齿状结构沿所述气道周向方向的截面为锯齿状、花瓣状、或数学函数波形图中的一种。

15、进一步地,所述降噪结构与所述气道结构一体成型;或者,所述降噪结构内嵌于所述气道结构内;或者,所述降噪结构套设于所述气道结构的外周;或者,所述降噪结构一端端面与所述气道结构的端面固定连接。

16、进一步地,所述流道与所述气流通道平滑过渡。

17、根据本申请实施例的电子雾化设备,至少具有如下有益效果:本申请实施例中,气流通道内的气流流入降噪结构后,气流首先经过凸起的根部,气流经过凸起的根部位置时产向上的射流,该射流能够破坏由吸力面脱落的漩涡,并加强尾迹与流道内主流气流间掺混,可以减弱主流气流中湍流的脉动强度,从而抑制峰值噪声的产生,利于降低电子雾化设备内的气流噪声。

18、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。

技术特征:

1.一种电子雾化设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的电子雾化设备,其特征在于,所述凸起为齿状结构,所述齿状结构包括齿根、齿顶及齿廓表面,所述齿廓表面位于所述齿根和所述齿顶之间。

3.根据权利要求2所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿廓表面靠近所述结构本体内壁面的一端与另一相邻所述齿廓表面之间具有间隙;或者,所述齿廓表面靠近所述结构本体内壁面的一端与另一相邻所述齿廓表面相交。

4.根据权利要求3所述的电子雾化设备,其特征在于,沿所述气流通道内的气流流动方向,所述齿状结构的横截面积逐渐减小;沿远离所述气流通道中心方向,所述齿状结构的齿宽保持不变或逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的电子雾化设备,其特征在于,所述凸起的数量为多个,任意相邻两个所述齿状结构之间的间隔大于所述齿状结构的齿宽的最大宽度。

6.根据权利要求2至5任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构的内壁面与所述齿廓表面形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿顶之间形成有相贯线;和/或,所述齿状结构的内壁面与所述齿根形成有相贯线。

7.根据权利要求2至5任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构的外壁面与所述齿廓表面圆滑过渡;和/或,所述齿状结构的外壁面与所述齿顶圆滑过渡;和/或所述齿状结构的外壁面与所述齿根圆滑过渡。

8.根据权利要求2至5任一项所述的电子雾化设备,其特征在于,所述凸起的数量为一个以上,即所述齿状结构的数量为一个以上,任意两个所述齿状结构相同或不同。

9.根据权利要求8所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构为直齿、斜齿、螺旋齿、锥齿中的一种。

10.根据权利要求8所述的电子雾化设备,其特征在于,所述齿状结构沿所述气道周向方向的截面为锯齿状、花瓣状、或数学函数波形图中的一种。

11.根据权利要求1所述的电子雾化设备,其特征在于,所述降噪结构与所述气道结构一体成型;或者,所述降噪结构内嵌于所述气道结构内;或者,所述降噪结构套设于所述气道结构的外周;或者,所述降噪结构一端端面与所述气道结构的端面固定连接。

技术总结本申请公开了一种电子雾化设备,包括:气道结构,具有气流通道;降噪结构,包括结构本体和凸起,结构本体的一端与气道结构的出气端连接,结构本体具有与气流通道相连通的流道,凸起的一端与结构本体的另一端连接,凸起的另一端为自由端且沿远离气流通道的出气端方向延伸;其中,凸起的数量为一个或一个以上,凸起沿流道的周向间隔设置。本申请实施例中,气流通道中的气流流经凸起的根部位置时会产生向上的射流,该射流破坏能够破坏由吸力面脱落的漩涡,并加强尾迹与气流通道内的主流气流间掺混,可以减弱主流气流中湍流的脉动强度,从而抑制峰值噪声的产生,从而降噪气流噪声。技术研发人员:魏武,汪泉,丁晗晖,王强伟,梁俊翔,吴伟,张海波受保护的技术使用者:深圳市卓力能技术有限公司技术研发日:20231221技术公布日:2024/9/17

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