本发明涉及半导体,具体涉及一种铂靶材的制备方法。背景技术:1、微电子行业新器件和新材料的迅速发展,电子、磁性、光学、光电和超导薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域,促使溅射靶材市场规模日益扩大。靶材......