一种低损耗率的铱溅射靶材制备方法及铱溅射靶材与流程

本发明属于贵金属溅射靶材，具体涉及一种低损耗率的铱溅射靶材制备方法及铱溅射靶材。背景技术：1、铱(ir)为面心立方结构的铂族金属，其熔点高达2443℃，是熔点最高的一种贵金属，其密度高(22.65g/......

2024-11-21 68

#损耗率#制备方法#流程