本发明属于精密机械抛光,具体设计一种双模双驱公自转抛光执行器。背景技术:1、精密加工正朝着高精度、高效率、高性能方向发展,近年来,轮式抛光以其优越的抛光效率及质量,受到国内外研究人员的高度关注。与常见......