一种遮板定位装置的制作方法

本技术涉及半导体加工设备，具体为一种遮板定位装置。

背景技术：

1、遮板主要应用于真空蒸镀设备当中，常见于半导体行业，如ito(氧化铟锡)蒸镀，metal(金属)蒸镀，dbr(反射层)蒸镀机台等等，利用真空蒸镀设备对靶材进行融化，融化后的靶材需采用遮板对其进行遮蔽，以防止靶材蒸发。

2、目前，遮板在进行使用时，需先将遮板的初始位进行定位，也就是先将遮板的中心与靶材进行对齐，随后再通过外部的驱动装置驱动遮板进行转动，使得遮板可以对靶材进行遮蔽，目前对遮板初始位确认的方式是采用人为观察，主要凭感觉判定。

3、然而，现有技术中虽然可以对遮板的初始位进行定位，但操作过程复杂，且人为判断遮板的初始位容易出现偏差，导致无法利用遮板对靶材进行精准遮蔽，进而导致靶材出现蒸发的情况。

技术实现思路

1、基于此，本实用新型的目的是提供一种遮板定位装置，以解决背景技术中现有对遮板的定位方式操作复杂，且人为判断遮板的初始位容易出现偏差，导致靶材蒸发的技术问题。

2、本实用新型的在于提供一种遮板定位装置，用于将遮板与存储在真空蒸镀设备中的靶材进行定位，所述真空蒸镀设备包括用于对靶材进行加热的电子枪，所述遮板定位装置包括定位盘和设于所述定位盘上的多个定位支架，多个所述定位支架以所述定位盘的中心为原点间隔分布于所述定位盘的一部分侧边，以当所述遮板朝向所述定位盘的另一部分侧边进行运动时，所述遮板的外部边缘与每个所述定位支架抵触，使得所述遮板的中点与所述定位盘的中点重合；

3、其中，所述定位盘上设于供所述电子枪上的输出端子伸入的通孔，通过将所述通孔穿入所述输出端子内，使得所述定位盘的中心与所述腔体内的靶材进行居中。

4、进一步地，所述定位支架上设有高度标识部，所述高度标识部用于标识所述遮板相对于所述靶材的高度。

5、进一步地，由所述定位支架的中间的部分侧壁向内弯曲以形成所述高度标识部。

6、进一步地，所述定位盘包括第一定位部和第二定位部；

7、所述第一定位部的长度尺寸大于所述第二定位部的长度尺寸。

8、进一步地，所述定位支架设于所述第一定位部上。

9、进一步地，所述遮板定位装置包括第一定位支架、第二定位支架、第三定位支架；

10、所述第一定位支架、所述第二定位支架和所述第三定位支架以所述第一定位部的中心为原点间隔分布于所述第一定位部的侧边。

11、进一步地，所述第一定位支架、所述第二定位支架以及所述第三定位支架均与所述第一定位部的一侧固定连接。

12、进一步地，所述第一定位支架、所述第二定位支架和所述第三定位支架中的两个以所述第一定位部的中心线对称设置，最后一个位于所述第一定位部的中心线上。

13、进一步地，所述第一定位支架和所述第二定位支架以所述第一定位部的中心线对称设置，所述第三定位支架位于所述第一定位部的中心线上。

14、进一步地，所述定位盘上还设有多个支撑架，以通过所述支撑架，使得当所述定位盘与所述靶材居中时，所述定位盘与所述靶材之间形成间隔。

15、与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

16、在本实用新型提供的遮板定位装置中，通过将遮板定位装置中的定位盘先与靶材进行居中处理，再通过定位盘上的多个定位支架，使得遮板在进行运动时，通过判断遮板与每个定位支架的接触程度，从而可快速判断遮板是否与靶材居中，当遮板运动完毕后，遮板的边缘与每个定位支架均抵触时，则确定遮板与靶材居中，若没有抵触或者遮板的边缘只与几个定位支架抵触时，则判定遮板未与靶材居中，通过该设置，可以解决现有技术中遮板的定位方式操作困难，且不易对其，导致靶材蒸发的技术问题。

技术特征：

1.一种遮板定位装置，用于将遮板与存储在真空蒸镀设备中的靶材进行定位，所述真空蒸镀设备包括用于对靶材进行加热的电子枪，其特征在于，所述遮板定位装置包括定位盘和设于所述定位盘上的多个定位支架，多个所述定位支架以所述定位盘的中心为原点间隔分布于所述定位盘的一部分侧边，以当所述遮板朝向所述定位盘的另一部分侧边进行运动时，所述遮板的外部边缘与每个所述定位支架抵触，使得所述遮板的中点与所述定位盘的中点重合；

2.根据权利要求1所述的遮板定位装置，其特征在于：所述定位支架上设有高度标识部，所述高度标识部用于标识所述遮板相对于所述靶材的高度。

3.根据权利要求2所述的遮板定位装置，其特征在于：由所述定位支架的中间的部分侧壁向内弯曲以形成所述高度标识部。

4.根据权利要求1所述的遮板定位装置，其特征在于：所述定位盘包括第一定位部和第二定位部；

5.根据权利要求4所述的遮板定位装置，其特征在于：所述定位支架设于所述第一定位部上。

6.根据权利要求5所述的遮板定位装置，其特征在于：所述遮板定位装置包括第一定位支架、第二定位支架、第三定位支架；

7.根据权利要求6所述的遮板定位装置，其特征在于：所述第一定位支架、所述第二定位支架以及所述第三定位支架均与所述第一定位部的一侧固定连接。

8.根据权利要求6所述的遮板定位装置，其特征在于：所述第一定位支架、所述第二定位支架和所述第三定位支架中的两个以所述第一定位部的中心线对称设置，最后一个位于所述第一定位部的中心线上。

9.根据权利要求8所述的遮板定位装置，其特征在于：所述第一定位支架和所述第二定位支架以所述第一定位部的中心线对称设置，所述第三定位支架位于所述第一定位部的中心线上。

10.根据权利要求1所述的遮板定位装置，其特征在于：所述定位盘上还设有多个支撑架，以通过所述支撑架，使得当所述定位盘与所述靶材居中时，所述定位盘与所述靶材之间形成间隔。

技术总结本技术公开了一种遮板定位装置，涉及半导体加工设备，用于将遮板与存储在真空蒸镀设备中的靶材进行定位，真空蒸镀设备包括用于对靶材进行加热的电子枪，遮板定位装置包括定位盘和设于定位盘上的多个定位支架，多个定位支架以定位盘的中心为原点间隔分布于定位盘的一部分侧边，以当遮板朝向定位盘的另一部分侧边进行运动时，遮板的外部边缘与每个定位支架抵触，使得遮板的中点与定位盘的中点重合，其中，定位盘上设于供电子枪上的输出端子伸入的通孔，通过将通孔穿入输出端子内，使得定位盘的中心与腔体内的靶材进行居中。通过该设置，可将遮板与靶材进行居中处理，解决了现有技术中操作困难，且不易对准的技术问题。技术研发人员：李文浩,康龙,胡瑶,董国庆,文国昇,金从龙受保护的技术使用者：江西兆驰半导体有限公司技术研发日：20231031技术公布日：2024/6/13