手动单面单曝光光刻机的制作方法

本技术属于光刻机，具体涉及一种手动单面单曝光光刻机。

背景技术：

1、光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。申请人的在先申请，公开号为cn216622958u的实用新型公开了一种单面光刻机，其曝光台为固定设置，只能通过xyz三轴运动机构调节摄像头进行对位，其调节方式较单一，对此需要进行改进。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本实用新型目的在于提供一种手动单面单曝光光刻机。

2、本实用新型所采用的技术方案为：

3、一种手动单面单曝光光刻机，包括机架，机架上设有平台，平台上安装有xyq调节机构、平行光源、升降机构和移动机构，升降机构与浮动机构相连，承片台安装在浮动机构上，掩模板机构安装在xyq调节机构上，掩模板机构位于承片台上方，平行光源位于掩模板机构上方；移动机构上设有左对位镜头和右对位镜头，左对位镜头和右对位镜头位于掩模板机构的一侧。

4、优选地，所述平台上设有显示器支架，显示器支架上设有与左对位镜头和右对位镜头电性连接显示器。

5、优选地，所述平台上设有光源安装架，平行光源设于光源安装架上。所述平台上安装有左面板和右面板，左面板和右面板分别位于光源安装架的左右两侧。

6、本实用新型的有益效果为：

7、本实用新型所提供的手动单面单曝光光刻机，使用时通过xyq调节机构调节掩模板机构到位后，承片台通过浮动机构自动找平，人工将硅片放置在承片台上并推到位，然后升降机构上升到位后，移动机构移动到位，左对位镜头和右对位镜头手动对位标记，曝光机构进行曝光，曝光结束后升降机构下降到位，人工将承片台拉出，将曝光后的硅片取出即可，该光刻机可以实现半自动化操作，有效提高工作效率，保证操作的准确性。

技术特征：

1.一种手动单面单曝光光刻机，其特征在于：包括机架（1），机架（1）上设有平台（2），平台（2）上安装有xyq调节机构、平行光源（7）、升降机构（16）和移动机构（17），升降机构（16）与浮动机构（11）相连，承片台（10）安装在浮动机构（11）上，掩模板机构（9）安装在xyq调节机构上，掩模板机构（9）位于承片台（10）上方，平行光源（7）位于掩模板机构（9）上方；移动机构（17）上设有左对位镜头（6）和右对位镜头（8），左对位镜头（6）和右对位镜头（8）位于掩模板机构（9）的一侧。

2.根据权利要求1所述的手动单面单曝光光刻机，其特征在于：所述平台（2）上设有显示器支架（13），显示器支架（13）上设有与左对位镜头（6）和右对位镜头（8）电性连接显示器。

3.根据权利要求1所述的手动单面单曝光光刻机，其特征在于：所述平台（2）上设有光源安装架（5），平行光源（7）设于光源安装架（5）上。

4.根据权利要求3所述的手动单面单曝光光刻机，其特征在于：所述平台（2）上安装有左面板（3）和右面板（12），左面板（3）和右面板（12）分别位于光源安装架（5）的左右两侧。

5.根据权利要求1-4任一所述的手动单面单曝光光刻机，其特征在于：所述xyq调节机构包括x轴调节单元（4）、y轴调节单元（15）和q轴调节单元（14）。

技术总结本技术属于光刻机技术领域，公开了一种手动单面单曝光光刻机，包括平台，平台上安装有XYQ调节机构、平行光源、升降机构和移动机构，升降机构与浮动机构相连，承片台安装在浮动机构上，掩模板机构安装在XYQ调节机构上，掩模板机构位于承片台上方，平行光源位于掩模板机构上方；移动机构上设有左对位镜头和右对位镜头，左对位镜头和右对位镜头位于掩模板机构的一侧。本技术的手动单面单曝光光刻机，使用时通过XYQ调节机构调节掩模板机构到位后，承片台通过浮动机构自动找平，人工将硅片放置在承片台上并推到位，然后升降机构上升到位后，移动机构移动到位，左对位镜头和右对位镜头手动对位标记，曝光机构进行曝光。技术研发人员：张其文,扶小莲,刘阳波,陈正洪受保护的技术使用者：四川鸿源鼎芯科技有限公司技术研发日：20231023技术公布日：2024/5/29