极紫外光内盒密封间隙的制作方法

本公开大体涉及用于光罩的光罩盒。更具体来说，本公开涉及用于在光罩盒(例如极紫外光(euv)光罩盒)的盖附接到底板时在所述盖与所述底板的密封表面之间创建线性间隙的设备及方法。

背景技术：

1、光罩盒用于容纳光罩，例如(例如)在半导体处理期间(例如在euv处理期间)使用的光刻掩模。光罩盒可用于存储并运输光罩。光罩盒可包含在处理期间通过一或多个工具处置并操纵的内盒。光罩盒的内盒包含底板及盖，且所述底板及所述盖容纳光罩且在运输、存储及处理期间保护光罩免于污染或物理损害。例如，光罩盒包含用于与euv光刻工具一起使用的euv盒。光罩盒可包含容纳内盒的具有盒门及盒圆顶的外盒。

技术实现思路

1、本公开大体上涉及用于光罩的光罩盒。更具体来说，本公开涉及用于在光罩盒(例如极紫外光(euv)光罩盒)的盖附接到底板时在所述盖与所述底板的密封表面之间创建线性间隙的设备及方法。

2、光罩盒可包含内盒(例如，金属内盒等)。所述光罩盒的所述内盒包含盖及底板。随着时间过去，在使用期间，在所述盖及所述底板的密封表面处发生磨损。在移除接触或将(密封表面之间的)接触及相关联磨损移动到远离密封表面的位置时，可创建线性间隙以维持所述盖与所述底板的所述密封表面之间的最小距离。

3、在实施例中，一种设备包含光罩盒。所述光罩盒包含具有第一表面的底板、具有第二表面的盖及在所述盖及所述底板中的至少一者上的间隔(stand-off)机构。所述第一表面包含在所述底板的外围上的第一密封表面。所述第二表面包含在所述盖的外围上的第二密封表面。所述间隔机构经配置以在所述盖附接到所述底板时经由所述第一密封表面与所述第二密封表面之间的线性间隙而创建密封。

4、在实施例中，所述线性间隙从所述盖的所述外围及底板的所述外围延伸到所述光罩盒内的内部空间。

5、在实施例中，所述光罩盒是euv光罩盒。所述底板及所述盖经配置以在所述盖附接到所述底板时容纳光罩。

6、在实施例中，所述设备进一步包含外盒圆顶及外盒门。所述外盒圆顶及所述外盒门经配置以在所述外盒门附接到所述外盒圆顶时将所述底板及所述盖容纳于所述外盒圆顶内。

7、在实施例中，所述线性间隙的最小大小是2微米或约2微米。

8、在实施例中，所述线性间隙的最大大小是40微米或约40微米。

9、在实施例中，所述间隔机构包含多个间隔垫。所述第一密封表面及所述第二密封表面中的一者包含多个保持开口。所述第一密封表面及所述第二密封表面中的另一者包含多个凹槽。所述多个垫的每一垫分别延伸到所述多个保持开口的一个保持开口中且部分接纳于所述多个凹槽的一个凹槽中。

10、在实施例中，所述多个垫包含至少三个垫。

11、在实施例中，所述多个垫包含八个垫。

12、在实施例中，所述多个垫是由聚合物制成。

13、在实施例中，所述多个垫是由金属制成。

14、在实施例中，所述多个保持开口是多个贯穿孔。

15、在实施例中，所述多个垫被分别按压于所述多个保持开口中，且从所述第一密封表面及所述第二密封表面的所述一者延伸固定高度以创建所述线性间隙。

16、在实施例中，所述多个垫被分别模制或机械加工于所述多个保持开口中，且从所述第一密封表面及所述第二密封表面的所述一者延伸固定高度以创建所述线性间隙。

17、在实施例中，所述多个垫的每一垫的顶表面与所述盖的顶表面或所述底板的底表面齐平或稍微低于与所述盖的顶表面或所述底板的底表面齐平处。

18、在实施例中，所述光罩盒进一步包含过滤器，且所述密封经配置使得所述光罩盒具有至少90％的传导性。在实施例中，所述传导性是至少94％。

19、在实施例中，提供一种组装光罩盒的方法。所述光罩盒包含具有第一表面的底板、具有第二表面的盖及在所述盖及所述底板中的至少一者上的间隔机构。所述第一表面包含在所述底板的外围上的第一密封表面。所述第二表面包含在所述盖的外围上的第二密封表面。所述间隔机构经配置以在所述盖附接到所述底板时经由所述第一密封表面与所述第二密封表面之间的线性间隙而创建密封。所述方法包含在所述盖及所述底板中的所述至少一者上设置所述间隔机构。

20、在实施例中，所述方法进一步包含将所述间隔机构的多个间隔垫分别插入多个保持开口中，及将所述多个垫的每一垫的高度调整到固定高度。所述多个保持开口在所述第一密封表面及所述第二密封表面中的一者上。在实施例中，多个凹槽在所述第一密封表面及所述第二密封表面中的另一者上。在实施例中，将所述多个垫的每一垫的所述高度调整到所述固定高度包含机械加工所述多个垫，使得所述多个垫的每一垫的所述高度是所述固定高度。

21、在实施例中，将所述多个垫的每一垫的所述高度调整到所述固定高度包含按压所述多个垫，使得所述多个垫的每一垫的所述高度是所述固定高度。

22、在实施例中，所述多个垫的每一垫与所述第一密封表面或所述第二密封表面的内边界之间的最小距离是4mm或约4mm。

23、附图说明

24、参考附图，所述附图形成本公开的一部分且说明其中可实践本说明书中描述的系统及方法的实施例。

技术特征：

1.一种设备，其包括光罩盒，所述光罩盒具有：

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述线性间隙从所述盖的所述外围及底板的所述外围延伸到所述光罩盒内的内部空间。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述光罩盒是极紫外光(euv)光罩盒，所述底板及所述盖经配置以在所述盖附接到所述底板时容纳光罩。

4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的设备，其中所述线性间隙的最小大小是2微米或约2微米。

5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的设备，其中所述线性间隙的最小大小是40微米或约40微米。

6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其中所述间隔机构包含从所述盖或所述底板中的一者的多个突部，所述盖或所述底板中的另一者包含经配置以接触所述多个突部的表面。

7.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的设备，其中所述间隔机构包含多个间隔垫，

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述多个垫包含至少三个垫。

9.根据权利要求7或8所述的设备，其中所述多个垫由聚合物制成。

10.根据权利要求7或8所述的设备，其中所述多个垫由金属制成。

11.根据权利要求7至10中任一权利要求所述的设备，其中所述多个保持开口是多个贯穿孔。

12.根据权利要求7至11中任一权利要求所述的设备，其中所述多个垫被分别按压于所述多个保持开口中，且从所述第一密封表面及所述第二密封表面中的所述一者延伸固定高度以创建所述线性间隙。

13.根据权利要求7至11中任一权利要求所述的设备，其中所述多个垫被分别模制或机械加工于所述多个保持开口中，且从所述第一密封表面及所述第二密封表面中的所述一者延伸固定高度以创建所述线性间隙。

14.根据权利要求7至13中任一权利要求所述的设备，其中所述多个垫的每一垫的顶表面与所述盖的顶表面或所述底板的底表面齐平或稍微低于与所述盖的顶表面或所述底板的底表面齐平处。

15.根据权利要求1至14中任一权利要求的设备，其中所述光罩盒进一步包含过滤器，且所述密封经配置使得所述光罩盒具有至少90％的传导性。

16.一种组装光罩盒的方法，所述光罩盒包含具有第一表面的底板、具有第二表面的盖及在所述盖及所述底板中的至少一者上的间隔机构，其中所述第一表面包含在所述底板的外围上的第一密封表面，所述第二表面包含在所述盖的外围上的第二密封表面，所述间隔机构经配置以在所述盖附接到所述底板时经由所述第一密封表面与所述第二密封表面之间的线性间隙而创建密封，所述方法包括在所述盖及所述底板中的所述至少一者上设置所述间隔机构。

17.根据权利要求16所述的方法，其进一步包括：

18.根据权利要求17所述的方法，其中将所述多个垫的每一垫的所述高度调整到所述固定高度包含机械加工所述多个垫，使得所述多个垫的每一垫的所述高度是所述固定高度。

19.根据权利要求17所述的方法，其中将所述多个垫的每一垫的所述高度调整到所述固定高度包含按压所述多个垫，使得所述多个垫的每一垫的所述高度是所述固定高度。

20.根据权利要求16所述的方法，其中所述多个垫的每一垫与所述第一密封表面或所述第二密封表面的内边界之间的最小距离是4mm或约4mm。

技术总结一种设备包含光罩盒。所述光罩盒包含具有第一表面的底板、具有第二表面的盖及在所述盖及所述底板中的至少一者上的间隔机构。所述第一表面包含在所述底板的外围上的第一密封表面。所述第二表面包含在所述盖的外围上的第二密封表面。所述间隔机构经配置以在所述盖附接到所述底板时在所述第一密封表面与所述第二密封表面之间创建线性间隙。技术研发人员：R·V·拉施克受保护的技术使用者：恩特格里斯公司技术研发日：技术公布日：2024/6/11