一种黑膜的制备方法以及黑膜、电子产品与流程

本申请属于材料，尤其涉及一种黑膜的制备方法以及黑膜、电子产品。

背景技术：

1、功能性黑膜是通过高低折射率的镀膜材料在介质玻璃上沉积多层膜来改变光波的光学效应来实现可见光光波截止，近红外高透的膜层，其广泛使用在汽车雷达、电子消费产品、安防、军工等领域。

2、当前，针对黑膜的制备方法主要有两种，第一种是使用固定性反射透射油墨丝印ir油墨，再在油墨上镀膜来控制透反射；这种方式存在镀膜材料在油墨上沉积附着力差，红外透射率低，容易挥发，时间一长效果就会变得不够灵敏的问题；第二种是使用光学镀膜机纯镀膜，可见光截止红外增透，反射光强，容易发生炫光，影响安全等问题。

技术实现思路

1、本申请实施例的目的在于提供一种黑膜的制备方法，旨在解决现有的黑膜制备方法存在的膜层附着力差以及反射光强造成炫光的问题。

2、本申请实施例是这样实现的，一种黑膜的制备方法，包括：

3、将基体材料置于溅射机预热仓室中进行预热处理；

4、在硅材料上同时充入氢气、氩气以及氮气，以使硅材料的折射率保持在4.0-4.3/550nm之间，且消光系数保持在0.24-0.62/550nm之间，得到成膜材料；

5、将经预热处理后的基体材料置于溅射机成膜仓室后，通过所述成膜材料进行成膜处理，以在所述基体材料上方形成多层硅氮氢层以及多层二氧化硅层，且硅氮氢层与二氧化硅层依次交替堆叠，位于最底层的硅氮氢层与基体材料贴合，得到黑膜。

6、进一步，所述氢气、氩气以及氮气的体积比为(3-8)：(87-95)：(2-5)。

7、进一步，所述将基体材料置于溅射机预热仓室中进行预热处理的步骤，包括：

8、将基体材料置于溅射机预热仓室中进行预热处理10-30分钟，温度为30-125℃。

9、进一步，成膜处理条件为：成膜压力为3.0*10-1～1.0*10-1pa，镀膜温度为80-120℃。

10、进一步，所述硅氮氢层与二氧化硅层的总层数为27-34层。

11、本申请实施例的另一目的在于提供一种黑膜，所述黑膜是由上述的黑膜的制备方法得到。

12、本申请实施例的另一目的在于提供一种电子产品，所述电子产品包括所述的黑膜。

13、本申请实施例提供的黑膜的制备方法，通过在溅射机靶材硅材料上同时充入一定比例的氢气、氩气以及氮气，使硅材料的折射率保持在4.0-4.3/550nm之间，且消光系数保持在0.24-0.62/550nm之间，并利用该成膜材料进行成膜处理，以在经预热处理后的基体上方形成多层硅氮氢层(sinh高折射率层)与多层二氧化硅层(sio2低折射率材料层)相互交替堆叠的黑膜叠层结构。通过本申请方法可制备得到一种可见光低透、近红外高透的功能性装饰一体亮黑膜，其中，基于成膜材料的配置结合磁控溅射机纯镀膜条件的控制，可有效提高膜层附着力，实现单面一次镀膜可见光400-700nm波段平均透射率小于1％，光学rgb颜色值控制l25～28a-2～2b-2～2，近红外940nm透射率可达93％以上；另外，该黑膜肉眼可见为低反射黑色，可解决传统反射光强造成的炫光，实现装饰产品功能性与外观一体呈现。

技术特征：

1.一种黑膜的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，所述氢气、氩气以及氮气的体积比为(3-8)：(87-95)：(2-5)。

3.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，所述将基体材料置于溅射机预热仓室中进行预热处理的步骤，包括：

4.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，成膜处理条件为：成膜压力为3.0*10-1～1.0*10-1pa，镀膜温度为80-120℃。

5.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，所述硅氮氢层与二氧化硅层的总层数为27-34层。

6.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，所述硅材料的纯度为99.999％以上。

7.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，所述基体材料为玻璃。

8.根据权利要求1所述的黑膜的制备方法，其特征在于，所述黑膜中各个硅氮氢层与各个二氧化硅层的物理厚度如下表所示：

9.一种黑膜，其特征在于，所述黑膜是由权利要求1-8任一所述的黑膜的制备方法得到。

10.一种电子产品，其特征在于，所述电子产品包括权利要求9所述的黑膜。

技术总结本申请适用材料技术领域，提供一种黑膜的制备方法以及黑膜、电子产品，包括：在硅材料上同时充入氢气、氩气以及氮气，以使硅材料的折射率保持在4.0‑4.3/550nm之间，且消光系数保持在0.24‑0.62/550nm之间，得到成膜材料，并利用该成膜材料进行成膜处理，以在经预热处理后的基体上方形成多层硅氮氢层与多层二氧化硅层相互交替堆叠的黑膜叠层结构。通过本申请方法可制备得到可见光低透、近红外高透的功能性装饰一体亮黑膜，其中，基于成膜材料的配置结合磁控溅射机纯镀膜条件的控制，可有效提高膜层附着力，实现单面一次镀膜可见光400‑700nm波段平均透射率小于1％，近红外940nm透射率可达93％以上。技术研发人员：曹军生,陈炳喜受保护的技术使用者：福源（中山）光电科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/13