一种多晶硅还原炉底盘以及多晶硅还原炉的制作方法

本技术涉及多晶硅生产，具体涉及一种多晶硅还原炉底盘以及多晶硅还原炉。

背景技术：

1、多晶硅生产领域目前多采用改良西门子法生产多晶硅。还原炉是生产多晶硅的核心设备，将来自罐区的三氯氢硅和氢气通过预热和计量控制后混合进入多晶硅还原炉进行气相沉积反应生产多晶硅。

2、目前还原炉底盘采用的硅棒的主流是40对棒和60对棒。通常还原炉底盘上设置的棒数越高，产量相对越大，电耗成本越低，因此还存在72、108对棒等不同炉型。但实际上，还原炉放大后，上述棒数存在热场不均、雾化严重以及缺相等问题，导致运行不稳定，产品质量波动，使得最终产品品质难以维持在统一水平。

技术实现思路

1、本实用新型的发明人发现，还原炉放大后出现上述热场不均、雾化严重以及缺相等问题的主要原因在于，为了提高棒数，局部硅棒密度较高，这种排布不均匀导致热场不均匀，调控困难。

2、故本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种多晶硅还原炉底盘，该底盘结构布局合理，能够有效平衡热场，降低能耗和提高质量，促进多晶硅行业技术水平的提升，本实用新型还提供一种多晶硅还原炉。

3、本实用新型提供一种多晶硅还原炉底盘，所述底盘的盘面上开设有多个电极孔，用于连接硅棒，所述电极孔的布局方式是，从内至外依次布置在以盘面中心为形心的多个电极环带上，每个电极环带上的电极孔的数目为6n个，其中n为各电极环带从内至外的排列序号。

4、优选的，所述电极环带设有七个，使所述电极孔的总数目为八十四对。

5、优选的，各相邻的电极环带之间的直径差值均相等。

6、优选的，所述电极环带上的多个电极孔绕电极环带形心均匀布置。

7、优选的，所述电极环带上的多个电极孔两两为一组，每组电极孔绕电极环带形心均匀布置。

8、优选的，所述底盘的盘面上还开设有多个进料喷嘴，用于通入物料，所述进料喷嘴的布局方式是，一个进料喷嘴设置在盘面中心，其余进料喷嘴从内至外依次布置在以盘面中心为形心的多个进料环带上，每个所述进料环带均布置在相邻的两个电极环带之间。

9、优选的，每个所述进料环带上的进料喷嘴的数目为6n个，其中n为各进料环带从内至外的排列序号，且在盘面的径向方向上，进料环带上的每个进料喷嘴均位于该进料环带内侧的电极环带上的两个相邻电极孔之间。

10、优选的，所述进料环带和与其相邻的两个电极环带之间的直径差值均相等。

11、优选的，所述底盘的盘面上还开设有多个尾气孔，各所述尾气孔均匀布置在以盘面中心为形心的尾气环带上，所述尾气环带设置在各电极环带的外围和/或设置在相邻两个电极环带之间。

12、本实用新型还提供一种多晶硅还原炉，包括炉体和硅棒，所述炉体的炉底底盘采用上述的多晶硅还原炉底盘，所述硅棒设有多个，各硅棒连接于底盘的盘面上开设的各所述电极孔中。

13、本实用新型提供一种多晶硅还原炉底盘，其盘面上用于连接硅棒的电极孔有特定的布局方式，为从内至外依次布置在以盘面中心为形心的多个电极环带上，且每个电极环带上的电极孔的数目为6n个，其中n为各电极环带从内至外的排列序号。即第一排为六个，第二排为十二个……每排数目以六为差值递增，使得第一排电极孔与盘面中心的间距和相邻电极孔之间的间距基本相同，因此在这种布局方式当中，逐环排列开来后可以保证电极孔所连接的硅棒在还原炉空间内排布密度尽可能的均匀，不会出现沿环向外递增时单个环内棒距过密或者整盘棒距过密的情况。

14、采用本实用新型这种布局方式，由于结构布局更加合理，故能够有效平衡热场，解决了大型多对棒还原炉热场不均、运行不稳定和产品质量不佳等不足，在满足热场均匀的情况下能够布局更多的硅棒数目，不仅降低了还原炉的能耗，还提升了还原炉的制造产量，并保证产品质量稳定性。

技术特征：

1.一种多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述底盘的盘面(1)上开设有多个电极孔(2)，用于连接硅棒，

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述电极环带设有七个，使所述电极孔(2)的总数目为八十四对。

3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：各相邻的电极环带之间的直径差值均相等。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述电极环带上的多个电极孔(2)绕电极环带形心均匀布置。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述电极环带上的多个电极孔(2)两两为一组，每组电极孔(2)绕电极环带形心均匀布置。

6.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述底盘的盘面(1)上还开设有多个进料喷嘴(3)，用于通入物料，

7.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：每个所述进料环带上的进料喷嘴(3)的数目为6n个，其中n为各进料环带从内至外的排列序号，

8.根据权利要求6所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述进料环带和与其相邻的两个电极环带之间的直径差值均相等。

9.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉底盘，其特征在于：所述底盘的盘面(1)上还开设有多个尾气孔(4)，

10.一种多晶硅还原炉，其特征在于：包括炉体和硅棒，所述炉体的炉底底盘采用权利要求1至9中任一项所述的多晶硅还原炉底盘，

技术总结本技术提供一种多晶硅还原炉底盘，所述底盘的盘面上开设有多个电极孔，用于连接硅棒，所述电极孔的布局方式是，从内至外依次布置在以盘面中心为形心的多个电极环带上，每个电极环带上的电极孔的数目为6n个，其中n为各电极环带从内至外的排列序号。本技术的多晶硅还原炉底盘结构布局合理，能够有效平衡热场，降低能耗和提高质量，促进多晶硅行业技术水平的提升，本技术还提供一种多晶硅还原炉。技术研发人员：王文,银波,刘兴平,范协诚,冯留建,何隆,穆凯代斯·太外库力受保护的技术使用者：新特能源股份有限公司技术研发日：20231026技术公布日：2024/5/27