一种硅片热环境调节辅助装置的制作方法

本技术涉及硅片加工，具体为一种硅片热环境调节辅助装置。

背景技术：

1、虽然现有的改善气体的进气方法或者增加匀流装置以均匀扩散炉中气体的技术可以在一定程度上提升硅片方阻的均匀性，但忽略了磷扩散受多种因素的影响。扩散炉通过热运动把原子从一个位置输运到另一个位置，使基体原子与杂质原子不断地相互混合，从而实现杂质原子和基体原子之间的输运过程。硅片所处的热环境是决定扩散运动快慢及扩散均匀性的重要因素。同时，在扩散炉管的运行过程中，石英舟附近的磷源量会出现分布不均的问题，从而导致方阻的均匀差。因此，如何控制硅片周围热环境和磷源量的均一性是提升方阻均匀性的关键。现有的技术单单考虑控制炉中通入气体的流量或均匀程度以提高方阻均匀性，这种思路对纵深较大的扩散炉存在控制难度。

技术实现思路

1、对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片热环境调节辅助装置，解决了现有的技术单单考虑控制炉中通入气体的流量或均匀程度以提高方阻均匀性，这种思路对纵深较大的扩散炉存在控制难度的问题。本实用新型增强了硅片在扩散炉内的热环境调节性。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅片热环境调节辅助装置，包括扩散炉，扩散炉内间隔有用于装载辅助装置的内腔，扩散炉单一内腔中放置有用于承载硅片装载板，所述装载板下端的扩散炉内腔中安装有用于带动转载板运动的滑件，滑件与装载板之间安装有用于辅助装载板提升高度以及水平运动的调节件。

3、优化的，所述调节件包括有安装于装载板下端且置于滑件上端的中位套，中位套内部安装有用于向上顶升的顶推件，顶推件的下端安装有用于同步顶推件向单一方向推送的推送块；

4、所述推送块包括有安装于中位套内壁上且前后对称的两个导向块，两个导向块之间的中位套内壁上安装有于两个导向块围绕区域内水平运动的运动块，运动块的一端安装有用于推动运动块水平方向往复运动的推动组件；

5、所述顶推件包括有安装于运动块上端的延伸杆，延伸杆下端连接有安装于运动块内的顶推控制组件。

6、优化的，所述扩散炉的内腔形成通过间隔板隔断，于间隔板上等距的开设有与延伸杆适配的推动槽，推动槽上滑动的安装有用于导向推送方向的导向件。

7、优化的，所述滑件包括有安装于扩散炉内壁上的滑道，滑道上滑动连接有衔接臂，衔接臂与中位套连接以带动中位套整体水平方向运动。

8、优化的，所述推动槽与左右方向上的延伸长度适配于推动组件对运动块的推动距离。

9、优化的，所述导向件包括有安装于间隔板下端的导向滑板，导向滑板上滑动的连接有置于推动槽内的用于扩散延伸杆施力面积的同步板。

10、与现有技术相比，本实用新型提供了一种硅片热环境调节辅助装置，具备以下有益效果：

11、本实用新型所公开的技术方案中，利用在扩散炉中间隔有内腔，便于在承载硅片的基础上将加热环境与辅助装置放置区域分隔，进一步的利用辅助装置包括有的顶推件以及推动块对装载板进行垂直方向上的提升以及水平方向上带动，从而增强对于硅片在扩散炉内的热量切换以及热量适应。

12、通过本实用新型滑道上滑动连接有衔接臂，衔接臂与中位套连接以带动中位套整体水平方向运动，从而在扩散炉内具有多组装载板时，利用滑道驱动衔接臂到达指定位置，从而对指定的装载板进行位置更换。

技术特征：

1.一种硅片热环境调节辅助装置，包括扩散炉(1)，扩散炉(1)内间隔有用于装载辅助装置的内腔，扩散炉(1)单一内腔中放置有用于承载硅片装载板(2)，其特征在于：所述装载板(2)下端的扩散炉(1)内腔中安装有用于带动转载板运动的滑件(3)，滑件(3)与装载板(2)之间安装有用于辅助装载板(2)提升高度以及水平运动的调节件(4)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片热环境调节辅助装置，其特征在于：所述调节件(4)包括有安装于装载板(2)下端且置于滑件(3)上端的中位套(41)，中位套(41)内部安装有用于向上顶升的顶推件(42)，顶推件(42)的下端安装有用于同步顶推件(42)向单一方向推送的推送块(43)；

3.根据权利要求1所述的一种硅片热环境调节辅助装置，其特征在于：所述扩散炉(1)的内腔形成通过间隔板(5)隔断，于间隔板(5)上等距的开设有与延伸杆(421)适配的推动槽，推动槽上滑动的安装有用于导向推送方向的导向件(6)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片热环境调节辅助装置，其特征在于：所述滑件(3)包括有安装于扩散炉(1)内壁上的滑道(31)，滑道(31)上滑动连接有衔接臂(32)，衔接臂(32)与中位套(41)连接以带动中位套(41)整体水平方向运动。

5.根据权利要求3所述的一种硅片热环境调节辅助装置，其特征在于：所述推动槽与左右方向上的延伸长度适配于推动组件(433)对运动块(432)的推动距离。

6.根据权利要求3所述的一种硅片热环境调节辅助装置，其特征在于：所述导向件(6)包括有安装于间隔板(5)下端的导向滑板(61)，导向滑板(61)上滑动的连接有置于推动槽内的用于扩散延伸杆(421)施力面积的同步板(62)。

技术总结本技术涉及硅片加工技术领域，解决了现有的技术单单考虑控制炉中通入气体的流量或均匀程度以提高方阻均匀性，这种思路对纵深较大的扩散炉存在控制难度的问题。具体为一种硅片热环境调节辅助装置，包括扩散炉，扩散炉内间隔有用于装载辅助装置的内腔，扩散炉单一内腔中放置有用于承载硅片装载板，所述装载板下端的扩散炉内腔中安装有用于带动转载板运动的滑件，滑件与装载板之间安装有用于辅助装载板提升高度以及水平运动的调节件，调节件包括有安装于装载板下端且置于滑件上端的中位套，中位套内部安装有用于向上顶升的顶推件。本技术增强了硅片在扩散炉内的热环境调节性。技术研发人员：江巧巧,韩泽平,潘少聪,钟敏娟,黄猛受保护的技术使用者：淮安捷泰新能源科技有限公司技术研发日：20231107技术公布日：2024/6/5