一种用于二氧化硅厚膜退火装置

本发明涉及半导体硅片，具体为一种用于二氧化硅厚膜退火装置。

背景技术：

1、二氧化硅厚膜一种无定形玻璃状结构的电解质膜，为近程有序网状结构；禁带宽度8.1ev，密度2.2g/cm3，介电系数3.9，折射率1.45～1.47，电阻率1013～1015ω·m，熔点1700℃；采用在硅片上热氧化、阳极氧化、化学气相沉积法制备，是半导体硅器件的优良的表面保护膜和表面钝化膜。

2、如公开号为：cn202211440782.1，公开日期为：2023年3月14日，名称为：《一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉》，包括设备箱，所述设备箱的底端固定连接有底座，所述底座的底端固定连接有支撑脚，所述设备箱的表面固定安装有控制面板，所述设备箱的表面固定安装有紧急开关，所述设备箱的顶端固定安装有加工台，所述加工台上固定安装有下箱体，所述下箱体的后侧铰接有合页，所述合页的另一侧铰接在上箱体上，所述上箱体上固定连接有把手。

3、诸如包含上述的现有技术中，对硅片进行退火时，需要将硅片放置到退火炉内，由退火炉的内部结构，或者专门的支撑机构对硅片进行支撑，使硅片在退火炉内被持续加热一定的时间；现有技术的不足之处在于：1、在第一批次的硅片完成退火以后，打开炉门取出硅片，并将另一批次的硅片放入到退火炉内的过程中，会由于炉门的打开，导致退火炉温度流失，重新进行硅片退火作业时，需要退火炉先升温，以将流失的热量补足，如此一来，不能对能源进行有效利用；2、硅片在退火炉内进行退火的过程中，硅片的底部始终被支撑，无法进行支撑点的调节，导致硅片底部被支撑的位置发生退火不均匀的情况。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种用于二氧化硅厚膜退火装置，以解决上述现有技术中的不足之处。

2、为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于二氧化硅厚膜退火装置，包括：炉体；两保温门，其呈对称的滑动连接在炉体内，并将炉体内的空间分隔为退火腔和缓冲腔，炉体上开设有投料口，投料口位置处铰接有封堵门；

3、转动机构，其包括转动连接在退火腔内的转轴，转轴上共轴固定连接有转盘，转盘上呈圆周阵列地开设有多个放置槽；

4、多个支撑机构，各支撑机构分别一一对应地设置在各放置槽，每个支撑机构均包括转动连接在放置槽内的第一支撑环，第一支撑环的内周面上开设有波浪槽，放置槽内固定连接有固定座，固定座上竖向滑动连接有第二支撑环，第二支撑环上固定连接有第一抵接杆，抵接杆与波浪槽滑动抵接配合，第一支撑环上共轴固定连接有蜗轮，放置槽内转动连接有与蜗轮啮合的蜗杆，蜗杆上共轴固定连接有齿轮，退火腔内固定连接有第一齿条和第二齿条，齿轮分别与第一齿条和第二齿条啮合配合；

5、移动平台，其设置在炉体内，并沿炉体的长度方向直线滑动，移动平台沿第一方向滑动的行程，驱使两保温门呈相互背离的滑动打开；移动平台沿第二方向滑动的行程，驱使两保温门呈相互靠近的滑动关闭。

6、进一步在于，炉体内开设有平移槽，移动平台滑动连接在平移槽内，炉体内转动连接有螺杆，螺杆与移动平台螺接。

7、进一步在于，两保温门的底部均固定连接有第二抵接杆，移动平台的两侧均固定连接有导向框，两导向框上均开设有缺口，两第二抵接杆分别一一对应地与两导向框滑动抵接配合。

8、进一步在于，还包括趋升机构，其包括滑动杆，炉体的内壁上开设有滑槽，滑动杆滑动连接在滑槽内，滑动杆与滑槽之间设置有弹簧，滑动杆上固定连接有抵接板，抵接板上开设有抵接槽，移动平台上固定连接有竖板，竖板上竖向滑动连接有送料板，送料板上贴靠配合有硅片，送料板上固定间接有第三抵接杆，第三抵接杆与抵接槽抵接配合。

9、进一步在于，还包括单向传动机构，其包括转动连接在转轴上的棘轮，棘轮的周面上呈圆周阵列地固定连接有多个齿牙，转轴上弹性转动连接有棘爪，棘爪与棘轮卡接配合，竖板上固定连接有第三齿条，第三齿条与各齿牙啮合配合。

10、进一步在于，第二齿条与第一齿条均为弧形，且第二齿条与第一齿条的轴线与转轴的轴线重合。

11、进一步在于，第二齿条的弧长是第一齿条弧长的两倍。

12、进一步在于，第一支撑环上呈圆周阵列地开设有多个第一通槽，第二支撑环上呈圆周阵列地开设有多个第二通槽，且第一通槽与第二通槽相互交错设置。

13、进一步在于，滑槽由水平开设的第一段和斜向上方开设的第二段连通组成。

14、进一步在于，送料板呈半圆形。

15、在上述技术方案中，本发明提供的一种用于二氧化硅厚膜退火装置：

16、1、通过移动平台的移动，一方面带动两保温门的开启或者关闭，以及封堵门的开关，在两扇门的配合下，使在硅片的取料放料过程中，尽可能减少退火腔的温度流失；同时通过转盘在转动的过程中，通过齿轮与第一齿条、第二齿条啮合配合，被动的带动第二支撑环反复的进行升降，从而实现多次第一支撑环、第二支撑环交替对硅片进行支撑，实现对硅片被支撑的位置进行调节，减少了退火死角，使硅片退火更均匀。

17、2、通过设置趋升机构，使得移动平台在移动的过程中，通过第三抵接杆与抵接槽抵接配合，带动滑动杆在滑槽内滑动，使滑动杆的水平高度增高，进一步带动送料板在竖板上竖直向上移动，使送料板具有一上移行程，通过该上移行程与单向传动机构配合，使得通过该上移行程，能够同时完成送料、和取料动作。

18、3、通过第二齿条的弧长为第一齿条的两倍，当齿轮与第一齿条啮合时，产生一个行程，即：第二支撑环向上升起，那么当齿轮与第二齿条啮合时，就会产生两个行程，即：第二支撑环先下降，随后再升起，如以此来，当转盘再次旋转，使齿轮再次与第一齿条啮合时，第二支撑环就会有升起转变为下降状态，从而与具有一上升行程的送料板进行配合，对硅片进行交接，由送料板将第二支撑环上的硅片取下，完成取料动作。

技术特征：

1.一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，炉体(1)内开设有平移槽(15)，移动平台(5)滑动连接在平移槽(15)内，炉体(1)内转动连接有螺杆(6)，螺杆(6)与移动平台(5)螺接。

3.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，两保温门(2)的底部均固定连接有第二抵接杆(21)，移动平台(5)的两侧均固定连接有导向框(51)，两导向框(51)上均开设有缺口(511)，两第二抵接杆(21)分别一一对应地与两导向框(51)滑动抵接配合。

4.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，还包括趋升机构(8)，其包括滑动杆(81)，炉体(1)的内壁上开设有滑槽(16)，滑动杆(81)滑动连接在滑槽(16)内，滑动杆(81)与滑槽(16)之间设置有弹簧(84)，滑动杆(81)上固定连接有抵接板(82)，抵接板(82)上开设有抵接槽(83)，移动平台(5)上固定连接有竖板(52)，竖板(52)上竖向滑动连接有送料板(53)，送料板(53)上贴靠配合有硅片，送料板(53)上固定间接有第三抵接杆(54)，第三抵接杆(54)与抵接槽(83)抵接配合。

5.根据权利要求4所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，还包括单向传动机构(7)，其包括转动连接在转轴(31)上的棘轮(71)，棘轮(71)的周面上呈圆周阵列地固定连接有多个齿牙(73)，转轴(31)上弹性转动连接有棘爪(72)，棘爪(72)与棘轮(71)卡接配合，竖板(52)上固定连接有第三齿条(55)，第三齿条(55)与各齿牙(73)啮合配合。

6.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，第二齿条(48)与第一齿条(47)均为弧形，且第二齿条(48)与第一齿条(47)的轴线与转轴(31)的轴线重合。

7.根据权利要求6所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，第二齿条(48)的弧长是第一齿条(47)弧长的两倍。

8.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，第一支撑环(41)上呈圆周阵列地开设有多个第一通槽(411)，第二支撑环(42)上呈圆周阵列地开设有多个第二通槽(421)，且第一通槽(411)与第二通槽(421)相互交错设置。

9.根据权利要求4所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，滑槽(16)由水平开设的第一段(161)和斜向上方开设的第二段(162)连通组成。

10.根据权利要求4所述的一种用于二氧化硅厚膜退火装置，其特征在于，送料板(53)呈半圆形。

技术总结本发明公开了一种用于二氧化硅厚膜退火装置，涉及半导体硅片技术领域，包括：炉体；两保温门，其呈对称的滑动连接在炉体内，并将炉体内的空间分隔为退火腔和缓冲腔，投料口位置处铰接有封堵门；转动机构；多个支撑机构；移动平台；通过移动平台的移动，一方面带动两保温门的开启或者关闭，以及封堵门的开关，在两扇门的配合下，使在硅片的取料放料过程中，尽可能减少退火腔的温度流失；同时通过转盘在转动的过程中，通过齿轮与第一齿条、第二齿条啮合配合，被动的带动第二支撑环反复的进行升降，从而实现多次第一支撑环、第二支撑环交替对硅片进行支撑，实现对硅片被支撑的位置进行调节，减少了退火死角，使硅片退火更均匀。技术研发人员：翟华,刘伟,汪凯博,彭世云受保护的技术使用者：合肥工业大学技术研发日：技术公布日：2024/6/11