一种泥浆处理沉淀池的制作方法

本技术涉及沉淀池，具体为一种泥浆处理沉淀池。

背景技术：

1、沉淀池是应用沉淀作用去除水中悬浮物的一种构筑物，净化水质的设备。利用水的自然沉淀或混凝沉淀的作用来除去水中的悬浮物。沉淀池按水流方向分为水平沉淀池和垂直沉淀池。沉淀效果决定于沉淀池中水的流速和水在池中的停留时间。

2、现有的泥浆处理沉淀池在使用过程中内部的滤网会被泥浆所堵塞，从而降低了水流通过的速度，造成沉淀效果降低。

3、为此特提出一种泥浆处理沉淀池。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种泥浆处理沉淀池，以解决上述背景技术中提出的问题，为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种泥浆处理沉淀池，包括沉淀池主体和固定板一，所述沉淀池主体的两侧分别安装有液压升降杆，所述液压升降杆的顶端安装有连接块，所述连接块的一侧安装有固定板二，两个所述固定板二之间安装有两个支撑滑杆，所述固定板一的顶端安装有滑块，所述固定板一的顶端安装有控制腔，所述控制腔内部的上下两侧分别安装有一个齿条，所述支撑滑杆的一侧安装有电机，两个所述支撑滑杆之间活动安装有传动轴，所述传动轴的外侧安装有半尺齿轮，所述控制腔的两侧分别开设有一个滑槽。

2、优选的，所述固定板一顶端的两侧分别安装有两个滑块，且固定板一顶端两侧的两个滑块分别滑动套设在支撑滑杆的外侧。

3、优选的，所述固定板一的底端安装有滤网框，且固定板一顶端的两侧分别开设有一个注入口。

4、优选的，所述沉淀池主体的底端呈漏斗状，且沉淀池主体的底端安装有排水阀，所述排水阀与沉淀池主体的内部相连通。

5、优选的，所述半尺齿轮位于传动轴的中间位置，且半尺齿轮与齿条之间通过齿牙啮合连接。

6、优选的，所述电机的输出端贯穿支撑滑杆的内部，且电机的输出端与传动轴一端相连接。

7、与现有技术相比，本实用新型提供了一种泥浆处理沉淀池，具备以下有益效果：

8、通过设置有电机、传动轴、半尺齿轮、控制腔、支撑滑杆、齿条和滤网框，通过电机输出端的旋转即可带动传动轴发生旋转，通过传动轴的旋转即可带动半尺齿轮发生旋转，通过半尺齿轮的旋转即可带动控制腔沿着支撑滑杆的安装方向进行来回移动，经过长时间的使用后，通过整个固定板一的来回移动可以带动滤网框内部的固定物进行晃动，避免滤网框的网孔被堵塞，保证滤网框泥浆中含有的水分能顺着滤网框的网孔流出滤网框的内部，提高了沉淀中的沉淀效果。

技术特征：

1.一种泥浆处理沉淀池,包括沉淀池主体（1）和固定板一（4），其特征在于：所述沉淀池主体（1）的两侧分别安装有液压升降杆（9），所述液压升降杆（9）的顶端安装有连接块（8），所述连接块（8）的一侧安装有固定板二（10），两个所述固定板二（10）之间安装有两个支撑滑杆（7），所述固定板一（4）的顶端安装有滑块（6），所述固定板一（4）的顶端安装有控制腔（5），所述控制腔（5）内部的上下两侧分别安装有一个齿条（14），所述支撑滑杆（7）的一侧安装有电机（12），两个所述支撑滑杆（7）之间活动安装有传动轴（11），所述传动轴（11）的外侧安装有半尺齿轮（15），所述控制腔（5）的两侧分别开设有一个滑槽（13）。

2.根据权利要求1所述的一种泥浆处理沉淀池，其特征在于：所述固定板一（4）顶端的两侧分别安装有两个滑块（6），且固定板一（4）顶端两侧的两个滑块（6）分别滑动套设在支撑滑杆（7）的外侧。

3.根据权利要求2所述的一种泥浆处理沉淀池，其特征在于：所述固定板一（4）的底端安装有滤网框（3），且固定板一（4）顶端的两侧分别开设有一个注入口。

4.根据权利要求1所述的一种泥浆处理沉淀池，其特征在于：所述沉淀池主体（1）的底端呈漏斗状，且沉淀池主体（1）的底端安装有排水阀（2），所述排水阀（2）与沉淀池主体（1）的内部相连通。

5.根据权利要求1所述的一种泥浆处理沉淀池，其特征在于：所述半尺齿轮（15）位于传动轴（11）的中间位置，且半尺齿轮（15）与齿条（14）之间通过齿牙啮合连接。

6.根据权利要求1所述的一种泥浆处理沉淀池，其特征在于：所述电机（12）的输出端贯穿支撑滑杆（7）的内部，且电机（12）的输出端与传动轴（11）一端相连接。

技术总结本技术涉及沉淀池技术领域，具体为一种泥浆处理沉淀池，包括沉淀池主体和固定板一，所述沉淀池主体的两侧分别安装有液压升降杆，所述液压升降杆的顶端安装有连接块，所述连接块的一侧安装有固定板二，两个所述固定板二之间安装有两个支撑滑杆，所述固定板一的顶端安装有滑块，所述固定板一的顶端安装有控制腔，两个所述支撑滑杆之间活动安装有传动轴，所述传动轴的外侧安装有半尺齿轮，所述控制腔的两侧分别开设有一个滑槽。本技术通过整个固定板一的来回移动可以带动滤网框内部的固定物进行晃动，避免滤网框的网孔被堵塞，保证滤网框泥浆中含有的水分能顺着滤网框的网孔流出滤网框的内部，提高了沉淀中的沉淀效果。技术研发人员：陈彩霞,王东东,张庆华,李伟,肖立伟,张钦禄受保护的技术使用者：中洁环淼（江苏）环境科技有限公司技术研发日：20231116技术公布日：2024/7/11