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有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体、复合膜及其制备与应用

  • 国知局
  • 2024-08-02 17:37:32

本发明属于光致发光和辐射探测领域,具体涉及一种有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体、复合膜及其制备与应用。

背景技术:

1、闪烁材料是一类可以将高能射线或粒子(例如x射线、γ射线、α粒子等)转化为低能光子的功能材料,已被广泛应用于医疗诊断、计算机层析成像、质量和安全检查等领域。目前商用的x射线闪烁体包括掺铊碘化铯(csi:tl)晶体/薄膜、硫氧化钆(gd2o2s:pr)和钨酸镉(cdwo4)单晶等,它们具有高光产额和高能量分辨率,但是这些材料一般存在制造工艺复杂、高余辉、毒性和高制造成本等问题。

2、近年来,由于有机-无机杂化金属卤化物具有高的光致发光量子产率(plqy)、高的稳定性和低制备成本,并具有高x射线闪烁效率,在涉及x射线探测和成像等辐射探测领域受到了广泛的关注。多种高性能的卤化铅杂化材料,如甲胺三溴化铅(mapbbr3)在x射线成像中被证明是很有前景的材料,但其毒性、低闪烁光产额和长期稳定性差等缺点严重制约了其进一步发展。因此,探索无铅金属卤化物杂化材料具有十分重要的意义。

3、环保型无铅锰基卤化物材料作为一类新兴的发光材料,因其优异的光学性能,如高的plqy、大斯托克斯位移和窄带发射,已经引起了人们极大的关注。虽然大量的有机-无机杂化锰基材料已经被成功制备和研究,但大多都聚焦在光学性能、照明和发光二极管等领域,对其在x射线探测方面的性能研究较少。因此,研究和制备具有x射线响应的有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体单晶和薄膜在医学影像及安检设备等x射线成像领域具有重要意义。

技术实现思路

1、针对上述问题,本发明旨在提供一种具有x射线响应的有机-无机杂化锰基卤化物单晶闪烁体及生长方法,并提供利用所述杂化锰基卤化物单晶或者原位法制备有机-无机杂化锰基卤化物复合膜的手段,实现其在x射线成像中的应用。

2、第一方面,本发明提供了一种有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体,所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体的化学通式为axmnyxz,1≤x≤6,1≤y≤3,3≤z≤12,且x、y、z均为整数;

3、其中,a为有机阳离子基团,mn为二价锰离子,x为卤素;所述有机阳离子基团a为季膦基r1、r2、r3、r4各自独立为苯基(—c6h5)或含烷基链的苄基结构,且r1、r2、r3、r4不同时为苯基;优选地,所述含烷基链的苄基结构为n-甲基苄基(—[ch2]n—c6h5),n为正整数。

4、第二方面,本发明提供了一种上述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体的制备方法,所述制备方法包括缓慢蒸发法、降温结晶法。

5、较佳地,所述缓慢蒸发法的步骤包括:按照化学通式axmnyxz称取原料ax和mnx2,加入原料的良性溶剂后密封搅拌或超声条件下混合,直至原料完全溶解,得到澄清的前驱体溶液;过滤,将滤液静置蒸发析晶;固液分离后,洗涤固体、真空干燥,得到所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体。

6、较佳地,所述原料的良性溶剂选自乙醇、甲醇、异丁醇、叔丁醇、丙酮、n,n-二甲基甲酰胺(dmf)、二氯甲烷(dcm)、氯化氢(hcl)水溶液或者溴化氢(hbr)水溶液中的至少一种;

7、所述滤液静置蒸发析晶的温度为室温至60℃。

8、较佳地,所述降温结晶法的步骤包括:按照化学通式axmnyxz称取原料ax和mnx2,加入降温结晶溶剂后在高温下搅拌使原料完全溶解,得到澄清的前驱体溶液;然后,将前驱体溶液逐渐冷却至室温,使闪烁体析晶;固液分离后,洗涤固体、真空干燥,得到所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体。

9、较佳地,所述原料高温溶解的温度为70-120℃;搅拌溶解时间为0.5-2h;所述逐渐冷却至室温的速率为0.5-10℃/h。

10、第三方面,本发明提供了一种有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,所述复合膜通过上述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体为原料制备或通过原位法制备得到。

11、较佳地,通过有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体为原料制备所述复合膜的工艺包括:将所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体研磨成粉末并过筛;然后,加入基体树脂、固化剂以及稀释用溶剂进行混合,得到混合前体;经超声后取上层均匀的混合前体倒入到模具中;将所述模具置于真空烘箱中抽真空脱泡;加热固化,得到所述有机-无机杂化锰基卤化物复合膜。

12、较佳地,所述基体树脂为聚二甲基硅氧烷、聚苯乙烯、聚乙烯甲苯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙二醇、环氧树脂或热塑性聚酰亚胺;所述固化剂为过氧化物、有机铵类或者有机硅类;所述稀释用溶剂为正己烷、乙醚、甲基叔丁基醚或dmf;

13、所述混合前体中有机-无机杂化锰基卤化物粉末占基体树脂和固化剂总质量的5%-40%。

14、较佳地,所述加热固化的方式为45-100℃下放置4-12h。

15、较佳地,通过原位法制备所述复合膜的工艺包括:按照化学通式axmnyxz称取原料ax和mnx2,连同聚合物颗粒一并加入到原料的良性溶剂中;溶解形成前驱体溶液;然后,将所述前驱体溶液加入到模具中,将所述模具置于烘箱中加热固化,得到有机-无机杂化锰基卤化物复合膜。

16、较佳地,所述聚合物颗粒选自聚二甲基硅氧烷、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚甲基丙烯酸甲酯、热塑性聚氨酯、聚乙二醇或者热塑性聚酰亚胺颗粒。

17、较佳地,所述原位法中的原料的良性溶剂选自n,n-二甲基甲酰胺(dmf)和二氯甲烷(dcm)中的一种;所述加热固化的工艺为:在60-100℃下放置10-20h。

18、第四方面,本发明提供了一种上述有机-无机杂化锰基卤化物复合膜在医学影像或安检设备x射线成像领域中的应用。

19、有益效果

20、通过本发明所述溶液法制备的有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体具有明亮的绿色发射,并且在x射线辐射下表现出辐照发光响应的特性;

21、本发明制备得到的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜可应用于医学影像及安检设备等x射线成像领域。

技术特征:

1.一种有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体,其特征在于,所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体的化学通式为axmnyxz,1≤x≤6,1≤y≤3,3≤z≤12,且x、y、z均为整数;

2.一种权利要求1所述的有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括缓慢蒸发法、降温结晶法。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述缓慢蒸发法的步骤包括:按照化学通式axmnyxz称取原料ax和mnx2,加入原料的良性溶剂后密封搅拌或超声条件下混合,直至原料完全溶解,得到澄清的前驱体溶液;过滤,将滤液静置蒸发析晶;固液分离后,洗涤固体、真空干燥,得到所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述原料的良性溶剂选自乙醇、甲醇、异丁醇、叔丁醇、丙酮、n,n-二甲基甲酰胺(dmf)、二氯甲烷(dcm)、氯化氢(hcl)水溶液或者溴化氢(hbr)水溶液中的至少一种;

5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述降温结晶法的步骤包括:按照化学通式axmnyxz称取原料ax和mnx2,加入降温结晶溶剂后在高温下搅拌使原料完全溶解,得到澄清的前驱体溶液;然后,将前驱体溶液逐渐冷却至室温,使闪烁体析晶;固液分离后,洗涤固体、真空干燥,得到所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体。

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述原料高温溶解的温度为70-120℃;搅拌溶解时间为0.5-2h;所述逐渐冷却至室温的速率为0.5-10℃/h。

7.一种有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,所述复合膜通过权利要求1所述的有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体为原料制备或通过原位法制备得到。

8.根据权利要求7所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,通过有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体为原料制备所述复合膜的工艺包括:将所述有机-无机杂化锰基卤化物闪烁体研磨成粉末并过筛;然后,加入基体树脂、固化剂以及稀释用溶剂进行混合,得到混合前体;经超声后取上层均匀的混合前体倒入到模具中;将所述模具置于真空烘箱中抽真空脱泡;加热固化,得到所述有机-无机杂化锰基卤化物复合膜。

9.根据权利要求8所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,所述基体树脂为聚二甲基硅氧烷、聚苯乙烯、聚乙烯甲苯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙二醇、环氧树脂或热塑性聚酰亚胺;所述固化剂为过氧化物、有机铵类或者有机硅类;所述稀释用溶剂为正己烷、乙醚、甲基叔丁基醚或dmf;

10.根据权利要求8所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,所述加热固化的方式为45-100℃下放置4-12h。

11.根据权利要求7所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,通过原位法制备所述复合膜的工艺包括:按照化学通式axmnyxz称取原料ax和mnx2,连同聚合物颗粒一并加入到原料的良性溶剂中;溶解形成前驱体溶液;然后,将所述前驱体溶液加入到模具中,将所述模具置于烘箱中加热固化,得到有机-无机杂化锰基卤化物复合膜。

12.根据权利要求11所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,所述聚合物颗粒选自聚二甲基硅氧烷、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚甲基丙烯酸甲酯、热塑性聚氨酯、聚乙二醇或者热塑性聚酰亚胺颗粒。

13.根据权利要求12所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜,其特征在于,所述原位法中的原料的良性溶剂选自n,n-二甲基甲酰胺(dmf)和二氯甲烷(dcm)中的一种;所述加热固化的工艺为:在60-100℃下放置10-20h。

14.一种权利要求7-13中任一项所述的有机-无机杂化锰基卤化物复合膜在医学影像或安检设备x射线成像领域中的应用。

技术总结本发明涉及有机‑无机杂化锰基卤化物闪烁体、复合膜及其制备与应用。所述有机‑无机杂化锰基卤化物闪烁体的化学通式为A<subgt;x</subgt;Mn<subgt;y</subgt;X<subgt;z</subgt;,1≤x≤6,1≤y≤3,3≤z≤12,且x、y、z均为整数;其中,A为有机阳离子基团,Mn为二价锰离子,X为卤素;所述有机阳离子基团A为季膦基,与所述季膦基中P<supgt;+</supgt;相连的基团R<subgt;1</subgt;、R<subgt;2</subgt;、R<subgt;3</subgt;、R<subgt;4</subgt;各自独立为苯基(—C<subgt;6</subgt;H<subgt;5</subgt;)或含烷基链的苄基结构,且R<subgt;1</subgt;、R<subgt;2</subgt;、R<subgt;3</subgt;、R<subgt;4</subgt;不同时为苯基。技术研发人员:李雯,李云云,吴云涛受保护的技术使用者:中国科学院上海硅酸盐研究所技术研发日:技术公布日:2024/6/18

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