一种大米加工用大米表面磨光装置的制作方法

本发明涉及大米加工，具体为一种大米加工用大米表面磨光装置。

背景技术：

1、碾白后的白米由储料斗流下并在输送绞龙的作用下进入抛光室，同时由控温式水箱将已加热（室温低于15℃时使用）的水通过流量计，经橡胶管和喷嘴进入绞龙内部和喷风管道，水雾与喷风气流混合后进入抛光室，水雾附着在米粒表面，使米粒表面糠粉凝聚，同时使米粒表面湿润、软化。通过抛光室内辊筒的回转运动，使米粒在抛光室内不断运动，在运动过程中，米粒之间、米粒与抛光辊筒之间及米粒与米筛之间产生相对运动、相对摩擦。由于米粒表面湿润软化，这种摩擦将去除米粒表面的糠粉和粉刺，提高表面光洁度，从而使米粒洁净光亮，达到大米表面抛光的要求。抛光过程中产生的细米糠和纸屑通过筛网由吸糠风机吸出。

2、大米抛光机主要由机体、进料装置、抛光辊、驱动装置和出料装置等组成。机体是大米抛光机的基本骨架，它由坚固的钢板焊接而成，以确保稳定的运行。进料装置是将未经处理的大米送入机体内的装置。通常，它由一个斗形的漏斗和一个输送带组成，可以将大米自动地输送到抛光辊处。抛光辊是大米抛光机的核心部件，它是由一根圆柱形的滚筒组成。当大米通过进料装置进入抛光辊时，抛光辊会以一定的速度旋转，使大米与抛光辊表面摩擦，从而去除大米表面的糠皮。驱动装置则是提供动力给抛光辊的装置。一般来说，它由一个电动机和一个传动系统组成。电动机通过传动系统将动力传递给抛光辊，使其旋转。出料装置是将经过抛光的大米从机体中排出的装置。一般来说，它由一个斗形的漏斗和一个输送带组成，可以将抛光后的大米自动地输送到指定的容器或储存装置中。大米抛光机的工作过程如下：首先，将未经处理的大米放入进料装置，并通过输送带送入抛光辊内。然后，开启驱动装置，使抛光辊开始旋转。在旋转的过程中，大米与抛光辊表面摩擦，糠皮逐渐被去除。最后，经过抛光的大米通过出料装置排出，完成整个抛光过程。

3、现有技术中的抛光机还包括着水装置，着水装置即用于向大米喷射水雾，一般着水装置安装在抛光辊内，抛光辊的进料端内安装有注水管，出料室安装辅注水管，水雾通过抛光辊向外喷出。这种着水方式抛光辊中间部位的水量偏大，使得抛光辊中间部位的米糠较为潮湿，容易堵住筛网孔，两端的着水量较少，导致大米着水不均，影响米粒的抛光质量。还有的着水装置是在大米进入抛光腔前一次性喷射水雾，这种方式则会导致在抛光辊的前端米粒上的水雾量过多，而到抛光辊的后端米粒上则几乎没有水雾，也造成米粒的着水不均的问题。

4、由于靠近抛光辊的米层的阻碍，远离抛光辊的大米难以着水，加剧了大米着水不均的问题。

5、现有技术中，大米在抛光时，向心加速度的抛光作用是米粒均匀抛光的重要条件，就是借助抛光机抛光辊所具有一定的向心加速度对米粒产生抛光作用。试验表明，抛光能力随着抛光机抛光辊的圆周线速度的增加而直线上升。抛光腔内的大米越靠近抛光辊，抛光辊旋转对大米形成的向心力越大，大米的流动性越高，受到的摩擦越多，抛光的速度越快；而远离抛光辊的大米不仅所能接收到的抛光辊的旋转作用力越小，大米的流动性越低，受到的摩擦越少，从而导致在抛光辊的径向方向上，越靠近抛光辊的大米抛光程度越高，越远离抛光辊的大米的抛光程度越低，由此造成大米抛光不均匀。

6、另外，由于水雾的影响，还会使残留的糠粉聚集黏附在抛光辊上，即所谓的“结糠”，不仅影响抛光的糠粉的排出，还影响抛光过程的散热，以及大米在抛光过程中易产生碎米，严重影响抛光效果和操作的稳定性。

技术实现思路

1、本技术提出了一种大米加工用大米表面磨光装置，具备大米抛光均匀、着水均匀且着水量可控、刮除抛光辊表面糠粉层的优点，用以解决大米从主轴喷射水雾导致的着水不均匀的问题，解决抛光腔中大米由于距离抛光辊位置不一致造成的抛光不均匀的问题以及抛光辊结糠的问题。

2、为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：一种大米加工用大米表面磨光装置，包括主箱体，所述主箱体的前端连接有进料箱，所述主箱体的内部设置有集糠箱，所述集糠箱的内部安装有筛糠筒，所述筛糠筒同轴装配有抛光辊，所述筛糠筒、抛光辊之间形成抛光腔，所述抛光辊的前端连接有进米绞龙，所述进米绞龙位于进料箱的内部，所述抛光辊的外周设置有散料箱，所述散料箱的顶面连接在筛糠筒上，以散料箱为基准将抛光腔分成右腔和左腔，大米通过散料箱在左右腔内进行交换。

3、进一步，所述散料箱包括单元散料盒，所述散料箱由若干个单元散料盒一体式组合而成，所述单元散料盒包括盒体，所述盒体两侧的中部设有分料板，以分料板的弧形延长线为基准将抛光腔分隔成外腔和内腔，所述盒体的内部开设有上散槽和下散槽，所述上散槽的入口端位于右侧分料板的上方，所述上散槽的出口端位于左侧分料板的下方，所述下散槽的入口端位于右侧分料板的上方，所述下散槽的出口端位于左侧分料板的下方，所述抛光腔中的米粒通过上散槽、下散槽流动，所述上散槽用于将抛光腔的左外腔处的米粒转移至右内腔处，所述下散槽用于将抛光腔的右内腔处的米粒转移至左外腔处。

4、进一步，所述上散槽的数量有两个且分别位于下散槽的两侧，两个上散槽的截面积之和与下散槽的截面积相同。

5、进一步，环绕所述上散槽的槽壁开设有上雾风槽，环绕所述下散槽的槽壁开设有下雾风槽，所述上雾风槽和下雾风槽的结构相同，所述上雾风槽的出风口的方向与米粒在上散槽中移动的方向一致，所述下雾风槽的出风口的方向与米粒在下散槽中移动的方向一致，所述盒体上开设有雾风通道，所述上雾风槽、下雾风槽与雾风通道相连通，所述雾风通道连接有雾风管，所述雾风管连接有雾化器，所述雾化器的入口端连接有水箱。

6、进一步，所述抛光辊的外周套设有刮环，所述刮环包括环板和斜铲边，所述环板呈环形，斜铲边连接在环板的两侧，所述斜铲边的外边缘与抛光辊的外壁相接触。

7、进一步，所述抛光辊的外壁上开设有螺旋轨，所述环板的内壁上连接有轨槽导柱，所述轨槽导柱沿着螺旋轨移动，所述螺旋轨包括正向轨槽和反向轨槽，所述正向轨槽、反向轨槽在抛光辊的轴向上呈螺旋状延伸，所述抛光辊的前端和后端分别开设有初始定位槽和终点定位槽，所述初始定位槽和终点定位槽的结构相同，所述正向轨槽、反向轨槽的前端圆滑交汇于初始定位槽，所述正向轨槽、反向轨槽的后端圆滑交汇于终点定位槽，所述轨槽导柱沿初始定位槽、正向轨槽、终点定位槽、反向轨槽循环滑动，所述刮环的外壁和散料箱的底面上设置有滑轨组件，所述刮环通过滑轨组件沿着散料箱轴向移动。

8、进一步，所述正向轨槽包括正向大径槽和正向小径槽，所述反向轨槽包括反向大径槽和反向小径槽，所述正向大径槽与反向大径槽的直径相同，所述正向小径槽与反向小径槽的直径相同，所述正向大径槽、反向小径槽靠近抛光辊的边缘，所述正向小径槽连接在正向大径槽靠近抛光辊圆心的一端，所述反向大径槽连接在反向小径槽靠近抛光辊圆心的一端，所述初始定位槽和终点定位槽的中部呈圆筒状，所述初始定位槽、终点定位槽的内径与正向大径槽、反向大径槽的直径相同，所述初始定位槽和终点定位槽的底壁上分别设有上移磁环和下移磁环。

9、进一步，所述轨槽导柱包括中心柱，所述中心柱的一端连接在环板的内壁上，所述中心柱上依次设有上小径导柱和下小径导柱，所述上小径导柱和下小径导柱的直径相同，所述上小径导柱、下小径导柱的直径大于中心柱，所述中心柱上套接有大径导柱，所述大径导柱的直径大于上小径导柱、下小径导柱的直径，所述大径导柱的上下两端开设有环开口，所述环开口的直径大于上小径导柱、下小径导柱的直径，大径导柱沿着中心柱上下移动而交替罩设在上小径导柱、下小径导柱的外周，所述正向大径槽、反向大径槽的直径与大径导柱的外径相匹配，所述正向小径槽和反向小径槽的直径与上小径导柱、下小径导柱的直径相匹配，所述大径导柱的底端连接有定位磁环，所述定位磁环与上移磁环相互排斥，所述定位磁环与下移磁环相互吸引。

10、本发明具备以下有益效果：

11、1、本技术提供的一种大米加工用大米表面磨光装置，通过在筛糠筒、抛光辊之间设置散料箱，利用上散槽、下散槽将抛光腔左腔的外腔、内腔处的米粒转移至右腔的内腔、外腔处，实现米粒在抛光辊径向线方向位置远近的转移，实现米粒交替靠近抛光辊，且防止抛光腔中的米粒量大而导致米粒在外腔、内腔之间不转移的情况，解决米粒持续远离或者靠近抛光辊造成的米粒抛光不均匀的问题，实现提高抛光腔中米粒抛光均匀性的效果。

12、2、本技术提供的一种大米加工用大米表面磨光装置，通过在上散槽、下散槽中开设上雾风槽、下雾风槽，并利用雾化器将水雾通过雾风管输送至雾风通道内，水雾沿着雾风通道进入上雾风槽、下雾风槽中并从出风口喷出，从而使得上散槽、下散槽内的米粒外表面沾附有水雾，实现了给米粒增加水雾的功能，且通过使用水管可以连接每个上雾风槽、下雾风槽，控制进入不同位置的上雾风槽、下雾风槽中的水雾量，实现控制米粒沾附的水雾量的目的，避免米粒上的水雾过多或者过少，提高大米着水的均匀性，从而达到提高米粒抛光质量的目的。

13、3、本技术提供的一种大米加工用大米表面磨光装置，通过在抛光辊上套设刮环，驱动刮环往复移动而使得斜铲边可以刮除抛光辊表面黏附的糠粉层，避免影响大米抛光效果，另外通过轨槽导柱与螺旋轨的配合导向作用，实现了利用抛光辊的持续旋转带动刮环沿着抛光辊往复移动的功能，无需额外施加驱动刮环往复移动的设备，达到了降低了能耗的目的。