一种基于停机保护的放置结构的制作方法
- 国知局
- 2024-08-05 13:06:16
本申请涉及加湿器,特别涉及为一种基于停机保护的放置结构。
背景技术:
1、目前现有技术中的加湿器通常是内部有两个部分组成,一个是用于加水入内存储的水箱设备,另一个是用于处理水主机组件,将水雾化发散的机器,而在现有的加湿器中,加湿器会持续将水转换成雾气发散出去,但是当水消耗完了之后,没水了内部器件还在运作,导致加湿器内部的电子元器件持续干烧,影响内部设备的使用寿命,或者单相电极式加湿器,也会持续的放电震动,浪费较多电量资源;
2、在水箱与水槽分离的时候,水槽还是会继续进行工作,此时水槽继续工作会导致内部的水溢出溅射到外界,或者造成干烧的情况发生,因为有进雾和下水的相应组件,所以水箱底部不是平面,当水箱独立拿开的时候,水箱无法水平放置在平面上,容易倾倒。
技术实现思路
1、本申请旨在解决在水箱与水槽分离的时候,水槽还是会继续进行工作,此时水槽继续工作会导致内部的水溢出溅射到外界,或者造成干烧的情况发生,因为有进雾和下水的相应组件,所以水箱底部不是平面,当水箱独立拿开的时候,水箱无法水平放置在平面上,容易倾倒的技术问题,提供一种基于停机保护的放置结构。
2、本申请为解决技术问题采用如下技术手段:
3、一种基于停机保护的放置结构,包括水箱、水槽、进雾组件、下水组件、感应浮球、支撑件、磁块和电子元件;
4、所述水箱位于所述水槽的上方,所述水箱与所述水槽相适配;
5、所述感应浮球、支撑件、进雾组件和下水组件均设于所述水箱底部且露出;
6、所述支撑件为若干且设置在所述水箱底部;
7、所述磁块设于所述水箱底部,所述电子元件设于所述水槽顶面且与所述磁块相对齐。
8、进一步地,所述磁块和所述电子元件磁性感应。
9、进一步地,所述感应浮球套设在所述进雾组件上。
10、进一步地,所述感应浮球与所述进雾组件之间具有弹性件。
11、进一步地,所述支撑件为3个。
12、本申请提供了基于停机保护的放置结构,具有以下有益效果:通过水箱、水槽、进雾组件、下水组件、感应浮球、支撑件、磁块和电子元件;所述水箱位于所述水槽的上方,所述水箱与所述水槽相适配;所述感应浮球、支撑件、进雾组件和下水组件均设于所述水箱底部且露出;所述支撑件为若干且设置在所述水箱底部;所述磁块设于所述水箱底部,所述电子元件设于所述水槽顶面且与所述磁块相对齐;具备解决目前的在水箱与水槽分离的时候,水槽还是会继续进行工作,此时水槽继续工作会导致内部的水溢出溅射到外界,或者造成干烧的情况发生,因为有进雾和下水的相应组件,所以水箱底部不是平面,当水箱独立拿开的时候,水箱无法水平放置在平面上,容易倾倒的技术问题。
技术特征:1.一种基于停机保护的放置结构,其特征在于,包括水箱、水槽、进雾组件、下水组件、感应浮球、支撑件、磁块和电子元件;
2.根据权利要求1所述的基于停机保护的放置结构,其特征在于,所述磁块和所述电子元件磁性感应。
3.根据权利要求1所述的基于停机保护的放置结构,其特征在于,所述感应浮球套设在所述进雾组件上。
4.根据权利要求3所述的基于停机保护的放置结构,其特征在于,所述感应浮球与所述进雾组件之间具有弹性件。
5.根据权利要求1所述的基于停机保护的放置结构,其特征在于,所述支撑件为3个。
技术总结本申请提供了一种基于停机保护的放置结构,运用于加湿器领域,通过水箱、水槽、进雾组件、下水组件、感应浮球、支撑件、磁块和电子元件;水箱位于水槽的上方,水箱与水槽相适配;感应浮球、支撑件、进雾组件和下水组件均设于水箱底部且露出;支撑件为若干且设置在水箱底部;磁块设于水箱底部,电子元件设于水槽顶面且与磁块相对齐;具备解决目前的在水箱与水槽分离的时候,水槽还是会继续进行工作,此时水槽继续工作会导致内部的水溢出溅射到外界,或者造成干烧的情况发生,因为有进雾和下水的相应组件,所以水箱底部不是平面,当水箱独立拿开的时候,水箱无法水平放置在平面上,容易倾倒的技术问题。技术研发人员:任先柏,方威受保护的技术使用者:深圳纳优达电子制造有限公司技术研发日:20231218技术公布日:2024/7/23本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240725/265888.html
版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至 YYfuon@163.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。
下一篇
返回列表