一种铝箔馈电化成系统的制作方法

本申请涉及铝箔化成制备，具体涉及一种铝箔馈电化成系统。

背景技术：

1、低压铝箔化成是利用电化学原理,将铝箔进行阳极氧化,使水中氧原子与铝原子结合。从而在铝箔表面形成一层能耐特定电压的氧化模介质层。

2、目前,低压化成产线常规使用的化成制程,受设备及工艺制约,生产箔速及化成箔氧化膜界电性能提升空间小,化成箔产品特性相对较差。同时也造成液体馈电时对化成皮膜破坏大,导致铝箔漏电流偏高现象。

3、为此，研究一种可增加产速及提升化成箔特性的化成系统，成为本领域技术人员亟待解决的问题。

技术实现思路

1、为了克服上述现有技术的缺陷，本申请提供一种四级化成的铝箔馈电化成系统，以改善铝箔化成的质量和效率。

2、具体的，本申请提供一种铝箔馈电化成系统，用于对铝箔进行化成处理，其特征在于：所述铝箔馈电化成系统包括依次设置并供所述铝箔依次通过的一级化成槽、二级化成槽、一级液馈槽、二级液馈槽、三级化成槽、磷化处理槽、热处理器、四级化成槽。

3、其中，所述一级化成槽内部容置有化成液，用于对所述铝箔进行第一级化成处理；所述二级化成槽内部容置有化成液，用于对所述铝箔进行第二级化成处理；所述一级液馈槽内部容置有化成液，用于对所述铝箔进行第一级液体馈电处理；所述二级液馈槽内部容置有化成液，用于对所述铝箔进行第二级液体馈电处理；所述三级化成槽内部容置有化成液，用于对所述铝箔进行第三级化成处理；所述磷化处理槽内部容置有磷酸溶液，用于对所述铝箔进行磷化处理；所述热处理器内部设置有加热单元，用于对所述铝箔进行加热退火处理；所述四级化成槽内部均容置有化成液，用于对所述铝箔进行第四级化成处理。

4、在一种可选择的实现方式中，所述一级液馈槽内部设置有用于对所述铝箔进行馈电的第一馈电器，所述第一馈电器包括第一馈电板及分别设置于所述第一馈电板表面两侧的第一遮蔽板，所述第一馈电板表面设置有铱金属镀层。

5、在一种可选择的实现方式中，所述二级液馈槽内部设置有用于对所述铝箔进行馈电的第二馈电器，所述第二馈电器包括第二馈电板及分别设置于所述第二馈电板表面两侧的第二遮蔽板，所述第二馈电板表面设置有铱金属镀层。

6、根据前述实现方式所提供的技术方案，所述铝箔馈电化成系统至少具有以下优点：

7、（1）通过在四级化成工艺中采用二级液馈电相邻设置的方式，可降低化成箔在液馈电中氧化皮膜层馈电破坏产生缺陷。

8、（2）通过在第一馈电器和/或第二馈电器采用对馈电板进行遮流设计,使液馈电电流不会过度集中破坏化成箔氧化皮膜,解决了导致化成特性不良产品质量下降的问题。

9、（3）通过改善化成系统,可提升铝箔氧化皮膜致密性、特性均一性,提升产能,满足高比容化成箔产品需求。

技术特征：

1.一种铝箔馈电化成系统，用于对铝箔进行化成处理，其特征在于：所述铝箔馈电化成系统包括依次设置并供所述铝箔依次通过的一级化成槽、二级化成槽、一级液馈槽、二级液馈槽、三级化成槽、磷化处理槽、热处理器、四级化成槽；

2.根据权利要求1所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述一级液馈槽内部设置有用于对所述铝箔进行馈电的第一馈电器，所述第一馈电器包括第一馈电板及分别设置于所述第一馈电板表面两侧的第一遮蔽板，所述第一馈电板表面设置有铱金属镀层。

3.根据权利要求2所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述第一馈电板的宽度w1与所述第一馈电板的长度l1的尺寸比例为0.5:1，所述第一遮蔽板的宽度a与所述第一馈电板的宽度w1尺寸比例为0.2:1，所述第一遮蔽板的长度与所述第一馈电板的长度相等。

4.根据权利要求3所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述第一馈电板的宽度w1为450-550mm，所述第一馈电板的长度l1为900-1100mm，所述第一遮蔽板的宽度a为90-110mm，所述铱金属镀层的镀覆密度为（30-50）g/m2。

5.根据权利要求4所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述第一馈电板的厚度为15mm。

6.根据权利要求4所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述二级液馈槽内部设置有用于对所述铝箔进行馈电的第二馈电器，所述第二馈电器包括第二馈电板及分别设置于所述第二馈电板表面两侧的第二遮蔽板，所述第二馈电板表面设置有铱金属镀层。

7.根据权利要求6所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述第二馈电板的宽度w2与所述第二馈电板的长度l2的尺寸比例为2:3，所述第二遮蔽板的宽度b与所述第二馈电板的宽度w2尺寸比例为0.1:1，所述第二遮蔽板的长度与所述第二馈电板的长度相等。

8.根据权利要求7所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述第二馈电板的宽度w2为450-550mm，所述第二馈电板的长度l2为675-825mm，所述第二遮蔽板的宽度b为45-55mm，所述铱金属镀层的镀覆密度为（30-50）g/m2。

9.根据权利要求8所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述第一馈电板的厚度为15mm。

10.根据权利要求1所述的铝箔馈电化成系统，其特征在于：所述四级化成槽后端还设置有后处理设备，所述后处理设备为清洗槽、箔面修复槽、或干燥器。

技术总结本申请提供一种铝箔馈电化成系统，用于对铝箔进行化成处理，所述铝箔馈电化成系统包括依次设置并供所述铝箔依次通过的一级化成槽、二级化成槽、一级液馈槽、二级液馈槽、三级化成槽、磷化处理槽、热处理器、四级化成槽。所述铝箔馈电化成系统通过在四级化成工艺中采用二级液馈电相邻设置的方式，可降低化成箔在液馈电中氧化皮膜层馈电破坏产生缺陷，提升铝箔氧化皮膜致密性、特性均一性,提升产能,满足高比容化成箔产品需求。技术研发人员：石俊威,王家明受保护的技术使用者：立敦电子科技（惠州）有限公司技术研发日：20231103技术公布日：2024/5/19