技术新讯 > 电解电泳工艺的制造及其应用技术 > 一种LAM电镀设备中对Wafer进行密封的装置的制作方法  >  正文

一种LAM电镀设备中对Wafer进行密封的装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-27 11:36:51

本技术涉及lam电镀设备相关,具体为一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置。

背景技术:

1、电镀指的是根据零件的要求,选择一种或多种单一金属或合金电镀工艺对零件进行加工,如电镀或浸镀,以达到防腐、耐磨、美观的目的,并且在对产品进行电镀作业时,需要借助于相应的电镀设备上来完成,并且在电镀设备中,在对wafer薄片进行加工时,需要保障其密封性;

2、但是,现有技术中存在通常对wafer薄片进行密封时,密封圈在使用时容易发生移位,稳定性不佳,而且密封圈在长期使用过程中易发生形变,影响整体的密封效果的问题;

3、为此我们提出了一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,用来解决上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,以解决上述背景技术中提出的现有技术中存在通常对wafer薄片进行密封时,密封圈在使用时容易发生移位,稳定性不佳,而且密封圈在长期使用过程中易发生形变,影响整体的密封效果的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,包括下层密封圈和贴合设置在所述下层密封圈上端的上层密封圈;

3、其中,所述上层密封圈的上端固定连接有固定拉条;

4、还包括:

5、不锈钢圈,所述不锈钢圈设置在下层密封圈与上层密封圈之间,且不锈钢圈卡合连接在安装腔的中部,并且安装腔分别开设于下层密封圈和上层密封圈的中部;

6、固定凸块,所述固定凸块固定连接在上层密封圈下端的边缘处,且固定凸块在上层密封圈的下端呈等角度设置,并且固定凸块与固定连接槽之间呈一一对应设置。

7、优选的,所述不锈钢圈的左右两端均开设有通孔,且通孔的中部贯穿连接有用于定位的定位销。

8、优选的,所述定位销的上下两端均卡合连接有定位槽中,且定位槽开设于安装腔的底部。

9、优选的,所述固定凸块卡合连接在固定连接槽的中部,且固定凸块与固定连接槽之间为过盈配合。

10、优选的,所述固定连接槽在下层密封圈上端的边缘处呈等角度设置,且下层密封圈的下端固定连接有固定凸起,并且固定凸起等角度设置在下层密封圈的下端。

11、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,在实际使用过程中,通过不锈钢圈卡合在安装腔中,能够提升密封圈在使用过程中的强度,防止在长期使用过程中发生变形,影响实际的密封效果,结合定位销的设置,便于对下层密封圈、上层密封圈和安装腔之间进行定位,结合固定凸块对下层密封圈和上层密封圈之间进行组装,而且通过固定凸起与wafer薄片之间进行卡合,便于对密封圈进行定位,防止密封圈在使用过程中发生偏移;

12、1、设有下层密封圈、上层密封圈和不锈钢圈,下层密封圈和上层密封圈的中部开设有安装腔,不锈钢圈卡合在安装腔中,进而大大提升了密封圈在使用过程中的强度,防止密封圈在长期使用过程中发生变形,影响实际的密封效果;

13、2、设有通孔、定位销和定位槽,定位销贯穿连接在通孔中,同时定位销卡合安装在定位槽的中部,从而便于对不锈钢圈与下层密封圈和上层密封圈之间进行定位;

14、3、设有固定凸块、固定连接槽和固定凸起,通过固定凸块与固定连接槽之间过盈配合,便于对下层密封圈和上层密封圈之间进行连接和定位,通过固定凸起和wafer薄片之间进行卡合,便于对密封圈进行定位,防止密封圈在使用过程中发生偏移。

技术特征:

1.一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,包括下层密封圈(1)和贴合设置在所述下层密封圈(1)上端的上层密封圈(2);

2.根据权利要求1所述的一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,其特征在于:所述不锈钢圈(4)的左右两端均开设有通孔(5),且通孔(5)的中部贯穿连接有用于定位的定位销(6)。

3.根据权利要求2所述的一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,其特征在于:所述定位销(6)的上下两端均卡合连接有定位槽(7)中,且定位槽(7)开设于安装腔(3)的底部。

4.根据权利要求1所述的一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,其特征在于:所述固定凸块(9)卡合连接在固定连接槽(10)的中部,且固定凸块(9)与固定连接槽(10)之间为过盈配合。

5.根据权利要求4所述的一种lam电镀设备中对wafer进行密封的装置,其特征在于:所述固定连接槽(10)在下层密封圈(1)上端的边缘处呈等角度设置,且下层密封圈(1)的下端固定连接有固定凸起(11),并且固定凸起(11)等角度设置在下层密封圈(1)的下端。

技术总结本技术公开了一种LAM电镀设备中对Wafer进行密封的装置,包括下层密封圈和贴合设置在所述下层密封圈上端的上层密封圈,不锈钢圈,所述不锈钢圈设置在下层密封圈与上层密封圈之间,且不锈钢圈卡合连接在安装腔的中部,并且安装腔分别开设于下层密封圈和上层密封圈的中部,固定凸块,所述固定凸块固定连接在上层密封圈下端的边缘处,且固定凸块在上层密封圈的下端呈等角度设置。该LAM电镀设备中对Wafer进行密封的装置,不锈钢圈卡合在安装腔中,能够提升密封圈在使用过程中的强度,防止在长期使用过程中发生变形,而且通过固定凸起与Wafer薄片之间进行卡合,便于对密封圈进行定位,防止密封圈在使用过程中发生偏移。技术研发人员:武斌,盛伟,方童受保护的技术使用者:亚赛(无锡)半导体科技有限公司技术研发日:20230911技术公布日:2024/5/29

本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240726/118883.html

版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至 YYfuon@163.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。