MEMS器件和电子设备的制作方法

本公开属于微机电系统，具体涉及一种mems器件和电子设备。

背景技术：

1、本部分旨在为权利要求书中陈述的实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。

2、mems(micro-electro-mechanical system，微机电系统)器件中包含可以运动的机械部件(下文中称为可动结构)。对mems器件进行测试时，需要定量表征mems器件中可动结构的动作量(例如转动角度，伸缩长度等)。通常采用昂贵的测试仪器(例如集成电路自动测试机，简称ate设备)和复杂的测试过程。

技术实现思路

1、本公开提供一种mems器件和电子设备。

2、本公开采用如下技术方案：一种mems器件，包括衬底、设置在所述衬底上的可动结构和结构色单元，所述可动结构的机械动作能够带动所述结构色单元所处方位的变化和/或带动所述结构色单元产生形变，以产生可观测的色度值变化,其中，观测方相对于所述衬底的方位固定不变。

3、可选地，所述结构色单元设置在所述可动结构的上表面中靠近支撑锚点的区域。

4、可选地，所述结构色单元设置在所述可动结构的下表面中靠近支撑锚点的区域。

5、可选地，所述结构色单元包括：阵列排布的微凹槽，所述阵列排布的微凹槽设置在所述可动结构的能够被观测到的表面上。

6、可选地，所述结构色单元包括：设置在所述可动结构的能够被观测到的表面上的独立膜层，所述独立膜层的能够被观测到的表面上设置有阵列排布的微凹槽。

7、可选地，所述微凹槽的直径为1～2μm，相邻微凹槽之间的间距为1～3.4μm。

8、本公开采用如下技术方案：一种mems器件，包括衬底、设置在所述衬底上的可动结构和结构色单元，所述可动结构包括观测窗口，所述可动结构的机械动作能够使得透过所述观测窗口观测所述结构色单元的视角发生变化，以产生可观测的色度值变化。

9、可选地，所述结构色单元包括：阵列排布的微凹槽，所述阵列排布的微凹槽设置在所述衬底的朝向所述观测窗口的表面上。

10、可选地，所述结构色单元包括：设置在所述衬底的朝向所述观测窗口的表面上的独立膜层，所述独立膜层朝向所述观测窗口的表面上设置有阵列排布的微凹槽。

11、可选地，所述微凹槽的直径为1～2μm，相邻微凹槽之间的间距为1～3.4μm。

12、可选地，所述观测窗口包括设置在所述可动结构上的单个通孔或通孔阵列。

13、本公开采用如下技术方案：一种电子设备，包括前述的mems器件。

技术特征：

1.一种mems器件，其特征在于，包括衬底、设置在所述衬底上的可动结构和结构色单元，所述可动结构的机械动作能够带动所述结构色单元所处方位变化和/或带动所述结构色单元产生形变，以产生可观测的色度值变化，其中，观测方相对于所述衬底的方位固定不变。

2.根据权利要求1所述的mems器件，其特征在于，所述结构色单元设置在所述可动结构的上表面中靠近支撑锚点的区域。

3.根据权利要求1所述的mems器件，其特征在于，所述结构色单元设置在所述可动结构的下表面中靠近支撑锚点的区域。

4.根据权利要求1所述的mems器件，其特征在于，所述结构色单元包括：阵列排布的微凹槽，所述阵列排布的微凹槽设置在所述可动结构的能够被观测到的表面上。

5.根据权利要求1所述的mems器件，其特征在于，所述结构色单元包括：设置在所述可动结构的能够被观测到的表面上的独立膜层，所述独立膜层的能够被观测到的表面上设置有阵列排布的微凹槽。

6.根据权利要求4或5所述的mems器件，其特征在于，所述微凹槽的直径为1～2μm，相邻微凹槽之间的间距为1～3.4μm。

7.一种mems器件，其特征在于，包括衬底、设置在所述衬底上的可动结构和结构色单元，所述可动结构包括观测窗口，所述可动结构的机械动作能够使得透过所述观测窗口观测所述结构色单元的视角发生变化，以产生可观测的色度值变化。

8.根据权利要求7所述的mems器件，其特征在于，所述结构色单元包括：阵列排布的微凹槽，所述阵列排布的微凹槽设置在所述衬底的朝向所述观测窗口的表面上。

9.根据权利要求7所述的mems器件，其特征在于，所述结构色单元包括：设置在所述衬底的朝向所述观测窗口的表面上的独立膜层，所述独立膜层朝向所述观测窗口的表面上设置有阵列排布的微凹槽。

10.根据权利要求8或9所述的mems器件，其特征在于，所述微凹槽的直径为1～2μm，相邻微凹槽之间的间距为1～3.4μm。

11.根据权利要求7所述的mems器件，其特征在于，所述观测窗口包括设置在所述可动结构上的单个通孔或通孔阵列。

12.一种电子设备，其特征在于，包括根据权利要求1至11中任一项所述的mems器件。

技术总结本公开提供一种MEMS器件和电子设备。该MEMS器件包括衬底、设置在所述衬底上的可动结构和结构色单元，所述可动结构的机械动作能够带动所述结构色单元所处方位的变化和/或带动所述结构色单元产生形变，以产生可观测的色度值变化,其中，观测方相对于所述衬底的方位固定不变。技术研发人员：周超,史迎利,梁魁,王迎姿受保护的技术使用者：北京京东方技术开发有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/6