表圈滚镶设备的制作方法

【】本技术涉及手表，具体涉及表圈滚镶设备。

背景技术

0、背景技术：

1、手表镶石通常分为爪镶和滚镶两种方式。滚镶是通过对表圈的逼压，达到镶石的效果。但是目前的逼压工艺主要采用人工进行转动表盘，由于转速不稳定，导致逼压效果不够均匀。

技术实现思路

0、技术实现要素：

1、为了解决表圈逼压效果不够均匀的技术问题，本实用新型提供了表圈滚镶设备。

2、本实用新型是通过以下技术方案实现的：

3、表圈滚镶设备，包括机架，设于所述机架上的定位机构，用于对位于所述定位机构上的表圈进行滚镶的顶压机构，以及用于驱动所述定位机构旋转的转动机构，所述顶压机构包括顶压座，与所述顶压座铰接的顶压件，以及用于调节所述顶压件与所述定位机构相对位置的调节组件，所述转动机构包括转动电机，以及设于所述转动电机上的爪盘，所述定位机构设于所述爪盘上。

4、如上所述的表圈滚镶设备，所述调节组件包括高度调节柱，以及设于所述高度调节柱上的紧固件，所述顶压座与所述高度调节柱插接配合并沿所述高度调节柱周向方向转动，所述紧固件用于顶压在所述顶压座上以限制其相对所述高度调节柱旋转。

5、如上所述的表圈滚镶设备，所述调节组件包括串接所述顶压件与所述顶压座的预紧件，所述预紧件用于供所述顶压件与所述顶压座铰接，并用于固定两者的相对角度。

6、如上所述的表圈滚镶设备，所述调节组件包括水平设于所述所述顶压座上的调节件，所述调节件相对所述顶压座往靠近或远离所述顶压件的方向水平移动，以使所述顶压件在顶压表圈时对所述顶压件进行限位。

7、如上所述的表圈滚镶设备，所述调节组件还包括与所述调节件螺纹配合的螺母，所述调节件与所述顶压座螺纹配合，所述螺母用于限制所述调节件与所述顶压座之间的相对位置。

8、如上所述的表圈滚镶设备，所述调节件的调节端位于所述顶压座外侧，所述螺母位于所述顶压座内侧。

9、如上所述的表圈滚镶设备，所述定位机构包括供所述爪盘夹持的定位底座，以及与所述定位底座配合的定位盖，所述定位盖插入所述定位底座上，以将位于两者之间的表圈夹持固定。

10、如上所述的表圈滚镶设备，所述顶压座上凹设有调节平面，所述预紧件的旋转轴垂直于所述调节平面。

11、如上所述的表圈滚镶设备，所述顶压座上凹设有调节平面，所述调节件的旋转轴与所述调节平面平行，且垂直于所述顶压座的旋转轴。

12、如上所述的表圈滚镶设备，顶压座的旋转轴、所述顶压件与所述调节件的接触点依次沿所述定位机构上的表圈径向方向依次分布。

13、与现有技术相比，本实用新型的有如下优点：

14、本实用新型的通过使用转动电机，带动爪盘上的定位机构转动，从而带动表盘转动，使得顶压件在对表圈进行逼压时，表圈受到均匀的逼压力度，避免转速不一，导致对表圈的逼压时间过短或过快，导致逼压效果不均匀。

技术特征：

1.表圈滚镶设备，其特征在于：包括机架(1)，设于所述机架(1)上的定位机构(2)，用于对位于所述定位机构(2)上的表圈进行滚镶的顶压机构(3)，以及用于驱动所述定位机构(2)旋转的转动机构(4)，所述顶压机构(3)包括顶压座(31)，与所述顶压座(31)铰接的顶压件(32)，以及用于调节所述顶压件(32)与所述定位机构(2)相对位置的调节组件(33)，所述转动机构(4)包括转动电机(41)，以及设于所述转动电机(41)上的爪盘(42)，所述定位机构(2)设于所述爪盘(42)上。

2.根据权利要求1所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述调节组件(33)包括高度调节柱(331)，以及设于所述高度调节柱(331)上的紧固件(332)，所述顶压座(31)与所述高度调节柱(331)插接配合并沿所述高度调节柱(331)周向方向转动，所述紧固件(332)用于顶压在所述顶压座(31)上以限制其相对所述高度调节柱(331)旋转。

3.根据权利要求1所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述调节组件(33)包括串接所述顶压件(32)与所述顶压座(31)的预紧件(333)，所述预紧件(333)用于供所述顶压件(32)与所述顶压座(31)铰接，并用于固定两者的相对角度。

4.根据权利要求1所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述调节组件(33)包括水平设于所述顶压座(31)上的调节件(334)，所述调节件(334)相对所述顶压座(31)往靠近或远离所述顶压件(32) 的方向水平移动，以使所述顶压件(32)在顶压表圈时对所述顶压件(32)进行限位。

5.根据权利要求4所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述调节组件(33)还包括与所述调节件(334)螺纹配合的螺母(335)，所述调节件(334)与所述顶压座(31)螺纹配合，所述螺母(335)用于限制所述调节件(334)与所述顶压座(31)之间的相对位置。

6.根据权利要求5所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述调节件(334)的调节端位于所述顶压座(31)外侧，所述螺母(335)位于所述顶压座(31)内侧。

7.根据权利要求1所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述定位机构(2)包括供所述爪盘(42)夹持的定位底座(21)，以及与所述定位底座(21)配合的定位盖(22)，所述定位盖(22)插入所述定位底座(21)上，以将位于两者之间的表圈夹持固定。

8.根据权利要求3所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述顶压座(31)上凹设有调节平面(34)，所述预紧件(333)的旋转轴垂直于所述调节平面(34)。

9.根据权利要求4所述的表圈滚镶设备，其特征在于：所述顶压座(31)上凹设有调节平面(34)，所述调节件(334)的旋转轴与所述调节平面(34)平行，且垂直于所述顶压座(31)的旋转轴。

10.根据权利要求4所述的表圈滚镶设备，其特征在于：顶压座(31)的旋转轴、所述顶压件(32)与所述调节件(334)的接触点依次沿所述定位机构(2)上的表圈径向方向依次分布。

技术总结本技术涉及手表技术领域，具体是表圈滚镶设备，包括机架，设于所述机架上的定位机构，用于对位于所述定位机构上的表圈进行滚镶的顶压机构，以及用于驱动所述定位机构旋转的转动机构，所述顶压机构包括顶压座，与所述顶压座铰接的顶压件，以及用于调节所述顶压件与所述定位机构相对位置的调节组件，所述转动机构包括转动电机，以及设于所述转动电机上的爪盘，所述定位机构设于所述爪盘上。本技术的通过使用转动电机，带动爪盘上的定位机构转动，从而带动表盘转动，使得顶压件在对表圈进行逼压时，表圈受到均匀的逼压力度，避免转速不一，导致对表圈的逼压时间过短或过快，导致逼压效果不均匀。技术研发人员：李成效,赵子辉,万勇,陈善庆受保护的技术使用者：中山金汇金属制造有限公司技术研发日：20220715技术公布日：2024/1/11