一种纹理采样方法、电子设备及存储介质与流程

本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及一种纹理采样方法、电子设备及存储介质。

背景技术：

1、立方体映射是使用六张正方形的图片进行纹理映射，这六张图片分别对应了一个立方体中的六个面，这个立方体是轴对齐的，每个面用坐标系中的六个轴方向来惟一的表示：正x面，负x面，正y面，负y面，正z面，负z面。对应这六个面的六张纹理图称为“cubemap”。目前纹理采样是通过顶点上的纹理坐标(u,v)来进行的。对于一个二维纹理来说，(u,v)能惟一确定了纹理元素的位置。但由于cube map有六张纹理图，仅仅给出(u,v)坐标无法确定像素位置。因此，在cube mapping中，通过一个三维的向量实现映射，以一对一地确定纹理中对应的纹理元素。该三维向量是以立方体的中心为起点指向立方体外。该三维向量与立方体的交点对应的纹理元素就是映射结果对应的纹理元素。

2、在进行纹理采样时，目前一般采用内存寻址的方式进行处理，当请求在纹理内存范围内时是标准的情况，但当寻址请求超出了边界，一般将超出范围用零代替或者超出范围用边界值代替等。但是这些处理方式都是按照预设的规则进行的处理，并未获取超出边界落在相邻纹理面的实际采样点，进而导致边界采样具有严重的缝隙感，无法做到真正的无缝处理。因此亟需一种能够无缝处理边界采样点的纹理采样方法。

技术实现思路

1、针对上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种纹理采样方法，所述纹理采样方法包括软件执行的软件采样指令和硬件执行的通用采样指令，当硬件执行通用采样指令时实现以下步骤：

2、p100，获取软件采样指令发送的待采样的二维纹理坐标和采样地址afaceid，其中afaceid包括二维纹理坐标在立方体纹理中所属的原始纹理面编号。

3、p200，提取afaceid中的原始纹理面编号。

4、p300，将原始纹理面编号作为二维纹理坐标的第三个坐标分量得到立方体纹理的目标采样坐标。

5、p400，根据目标采样坐标进行对立方体纹理进行采样，得到n个采样点；其中，当采样点的二维纹理坐标超出纹理边界时，根据预设映射关系分别将采样点的二维纹理坐标转换为相邻纹理面上的坐标以及将采样点的原始纹理面编号转换为相邻纹理面的编号。

6、此外，本发明还提供了一种非瞬时性计算机可读存储介质，所述存储介质中存储有至少一条指令或至少一段程序，所述至少一条指令或所述至少一段程序由处理器加载并执行以实现上述方法。

7、此外，本发明还提供了一种电子设备，包括处理器和上述非瞬时性计算机可读存储介质。

8、本发明至少具有以下有益效果：

9、本发明提供了一种纹理采样方法、电子设备及存储介质，其通过软件将包括纹理面编号的采样地址传递给硬件，由硬件从采样地址中直接提取出原始的纹理面编号，进而根据纹理面编号获取相应的采样点，本发明根据采样坐标原始的纹理面编号得到实际的采样点，能够使采样点自然平滑的过渡到相邻纹理面得到实际采样点，而不是按照预设规则统一处理，进而得到无缝采样结果，解决了在边界采样时无法获取落在相邻纹理面的实际采样点导致边界采样具有严重的缝隙感的技术问题，同时减少了硬件资源的消耗。

技术特征：

1.一种纹理采样方法，其特征在于，所述纹理采样方法包括软件执行的软件采样指令和硬件执行的通用采样指令，当硬件执行通用采样指令时实现以下步骤：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，p100中，afaceid由纹理面编号和软件采样指令发送的其他指定信息按照预设排列规则组成，且纹理面编号和其他指定信息的数据位宽小于等于多线程寄存器的数据位宽。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述纹理面编号为afaceid的高k位或低k位。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，afaceid满足：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，p200还包括：提取afaceid的低k位得到face，提取afaceid的高位得到slice。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，p400中，所述预设映射关系包括预设纹理面映射关系和预设边界坐标映射关系；其中，所述预设纹理面映射关系为原始纹理面的编号与相邻纹理面的编号之间的映射关系，预设边界坐标映射关系为将原始纹理面的二维坐标转化为相邻纹理面的二维坐标的映射关系。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，当硬件执行通用采样指令时实现的步骤还包括：

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，p500中采样点在缓存中的索引编号满足：

9.一种非瞬时性计算机可读存储介质，所述存储介质中存储有至少一条指令或至少一段程序，其特征在于，所述至少一条指令或所述至少一段程序由处理器加载并执行以实现如权利要求1-8中任意一项的所述方法。

10.一种电子设备，其特征在于，包括处理器和权利要求9中所述的非瞬时性计算机可读存储介质。

技术总结本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及本发明涉及芯片设计领域，特别是涉及一种纹理采样方法、电子设备及存储介质，其通过硬件执行时实现以下步骤：获取软件采样指令发送的待采样的二维纹理坐标和采样地址；提取采样地址中的原始纹理面编号；将原始纹理面编号作为二维纹理坐标的第三个坐标分量得到立方体纹理的目标采样坐标；根据目标采样坐标进行对立方体纹理进行采样，得到N个采样点；其中，当采样点的二维纹理坐标超出纹理边界时，根据预设映射关系分别将采样点的二维纹理坐标转换为相邻纹理面上的坐标以及将采样点的原始纹理面编号转换为相邻纹理面的编号，能够使采样点自然平滑的过渡到相邻纹理面得到实际采样点，得到无缝采样结果。技术研发人员：吕正光受保护的技术使用者：沐曦集成电路（上海）有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/29