显示装置和制造显示装置的方法与流程

本公开的一些实施方式的方面涉及显示装置和制造显示装置的方法。

背景技术：

1、随着信息技术的发展，作为用户和信息之间的连接媒介的显示装置的重要性已经被突出。显示装置可以包括发光元件。

2、同时，用于改善外部可见性的结构对于显示装置可能是可取的。例如，调节外部光反射率以改善外部可见性可能是可取的。

3、在本背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对背景技术的理解，并且因此在本背景技术部分中讨论的信息不一定构成现有技术。

技术实现思路

1、本公开的一些实施方式的方面可以包括具有相对改善的可见性的显示装置和制造该显示装置的方法。

2、根据本公开的一些实施方式，显示装置可以包括：显示部分，包括在显示基础层上的发光元件；以及传感器部分，在显示部分上，并且包括导电图案和无机层，导电图案包括上导电图案，无机层覆盖上导电图案。根据一些实施方式，无机层可以包括具有第一折射率的第一无机层和具有比第一折射率小的第二折射率的第二无机层。根据一些实施方式，第二无机层可以相对于显示基础层在第一无机层外部。

3、根据一些实施方式，显示装置还可以包括：有机层，包括在传感器部分上的有机材料，并且在平面图中与无机层重叠。

4、根据一些实施方式，有机层的折射率可以小于第二折射率。

5、根据一些实施方式，无机层还可以包括第三无机层，该第三无机层在第二无机层外部，并且具有小于第二折射率并且大于有机层的第四折射率的第三折射率。

6、根据一些实施方式，有机层可以包括反射调节层，该反射调节层包括能够选择性地吸收一个波长带的光的染料和颜料中的至少一种。

7、根据一些实施方式，反射调节层可以包括四氮杂卟啉化合物、卟啉化合物、噁嗪化合物、方酸菁化合物、三芳基甲烷化合物、聚甲基(氰)化合物、蒽醌化合物、酞菁化合物、偶氮化合物、苝化合物、呫吨化合物、二亚铵化合物和二吡咯亚甲基化合物的组中的至少一种。

8、根据一些实施方式，有机层可以包括选择性地透射一种颜色的光的滤色器层。

9、根据一些实施方式，发光元件可以包括第一电极、第二电极和在第一电极和第二电极之间的发射层。根据一些实施方式，显示部分还可以包括在第二电极上的低反射无机层和在低反射无机层上的薄膜封装层。根据一些实施方式，低反射无机层可以包括金属和金属化合物中的至少一种。

10、根据一些实施方式，传感器部分还可以包括下导电图案以及在下导电图案和上导电图案之间的绝缘层。根据一些实施方式，绝缘层可以包括有机材料。

11、根据一些实施方式，显示装置还可以包括：第一子像素，形成提供第一颜色的光的第一子像素区域；第二子像素，形成提供第二颜色的光的第二子像素区域；以及第三子像素，形成提供第三颜色的光的第三子像素区域。根据一些实施方式，绝缘层可以包括滤色器，该滤色器包括选择性地透射第一颜色的光的着色剂。根据一些实施方式，在平面图中，绝缘层可以与第一子像素区域重叠并且可以不与第二子像素区域和第三子像素区域重叠。

12、根据一些实施方式，至少一个层可以插置在第一无机层和有机层之间。

13、根据一些实施方式，第一无机层和第二无机层可以包括彼此不同的材料。

14、根据一些实施方式，第一无机层和第二无机层可以包括具有彼此不同的组分的相同材料。

15、根据一些实施方式，显示装置还可以包括在显示基础层上在焊盘区域中的焊盘。根据一些实施方式，焊盘可以包括第一焊盘层和在第一焊盘层上的第二焊盘层。根据一些实施方式，第二焊盘层可以与上导电图案在相同的层上。

16、根据本公开的一些实施方式，显示装置可以包括：像素电路层；发光元件层，在像素电路层上，并且包括包含第一电极、发射层和第二电极的发光元件、在发光元件上的低反射无机层和在低反射无机层上的薄膜封装层；传感器部分，包括在薄膜封装层上的第一导电图案、在第一导电图案上的绝缘层、在绝缘层上的第二导电图案以及在第二导电图案上的无机层；以及上层部分，在传感器部分上并且包括在平面图中与无机层重叠的反射调节层。根据一些实施方式，无机层可以包括具有第一折射率的第一无机层和具有比第一折射率小的第二折射率的第二无机层。根据一些实施方式，第二折射率可以大于反射调节层的折射率。

17、根据本公开的一些实施方式，制造显示装置的方法可以包括：制造像素电路层；在显示区域中在像素电路层上形成发光元件层，并且在焊盘区域中在像素电路层上形成第一焊盘层；在显示区域中在发光元件层上图案化第一导电图案；在显示区域中在第一导电图案上形成绝缘层，并且在焊盘区域中形成焊盘绝缘层；在显示区域中在绝缘层上图案化第二导电图案，并且在焊盘区域中在焊盘绝缘层上形成第二焊盘层；在显示区域中在第二导电图案上形成无机层，并且在焊盘区域中在第二焊盘层上形成焊盘无机层；以及在显示区域中在无机层上图案化有机层。根据一些实施方式，无机层可以包括具有第一折射率的第一无机层和具有比第一折射率小的第二折射率的第二无机层。

18、根据一些实施方式，无机层可以通过化学气相沉积(cvd)工艺来沉积。

19、根据一些实施方式，有机层的折射率可以小于第二折射率。

20、根据一些实施方式，有机层可以是反射调节层、滤色器层或外涂层。

21、根据一些实施方式，该方法还可以包括通过使用有机层作为蚀刻掩模来去除焊盘区域中的焊盘无机层。

22、根据本公开的一些实施方式，可以提供具有相对改善的可见性的显示装置和制造该显示装置的方法。

技术特征：

1.一种显示装置，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述有机层的第三折射率小于所述第二折射率。

4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述无机层还包括第三无机层，所述第三无机层在所述第二无机层外部，并且具有小于所述第二折射率并且大于所述有机层的第四折射率的第三折射率。

5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述有机层包括反射调节层，所述反射调节层包括能够选择性地吸收一个波长带的光的染料和颜料中的至少一种，以及

6.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述有机层包括滤色器层，所述滤色器层配置成选择性地透射一种颜色的光。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述发光元件包括第一电极、第二电极和在所述第一电极和所述第二电极之间的发射层，

8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述传感器部分还包括下导电图案和在所述下导电图案和所述上导电图案之间的绝缘层，

9.根据权利要求2所述的显示装置，其中，至少一个层插置在所述第一无机层和所述有机层之间，以及

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一无机层和所述第二无机层包括具有彼此不同的组分的相同材料。

11.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

12.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述无机层通过化学气相沉积工艺来沉积。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述有机层的折射率小于所述第二折射率，以及

15.根据权利要求12所述的方法，还包括：

技术总结本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法。显示装置包括：显示部分，包括在显示基础层上的发光元件；以及传感器部分，在显示部分上，并且包括包含上导电图案的导电图案和覆盖上导电图案的无机层，其中：无机层包括具有第一折射率的第一无机层和具有比第一折射率小的第二折射率的第二无机层，并且第二无机层相对于显示基础层在第一无机层外部。技术研发人员：姜慧智,权五正,金泰昊,郑承娟,李美禾,李泓燃受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/15