一种有机发光显示面板及其制备方法、显示装置与流程

本发明涉及显示面板领域，特别涉及一种有机发光显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术：

1、漏光问题是oled(有机电致发光二极管)显示屏产品设计时经常面临的问题，这是由于oled本身具有发散角大的特点，像素容易产生漏光，例如子像素的光照射到相邻子像素(如图1所示)，产生串色，进而影响色彩。相关技术中采用具有遮光效果的pdl(像素定义层)进行覆盖，漏光问题得以解决(如图2，相较图1避免了漏光)。但是，这种技术存在的问题是：由于遮光pdl的覆盖，该显示屏相较于透明pdl的显示屏将不能采用光学检测工艺缺陷的方式管控工艺，导致工艺缺陷不能被及时拦截。

2、为此，提出本发明。

技术实现思路

1、本发明的主要目的在于提供一种有机发光显示面板及其制备方法、显示装置，解决了像素间漏光的问题以及采用遮光pdl导致器件缺陷不易被拦截的问题。

2、为了实现以上目的，本发明提供了以下技术方案。

3、本发明的第一方面提供了一种有机发光显示面板，其包括：

4、衬底；

5、有源层阵列，位于所述衬底上；

6、平坦化层，位于所述有源层阵列上；所述平坦化层包括显示区和非显示区；所述显示区的平坦化层的表面呈向所述衬底方向凹陷的微腔结构，所述微腔结构包括外围区域和被外围层包围的内部区域，外围区域的底表面为平面，内部区域的底表面为弧面；

7、第一电极，位于所述显示区的平坦化层上；

8、像素定义层，位于所述第一电极上，界定出所述显示区和所述非显示区；

9、电致发光层，位于所述第一电极上；

10、第二电极，位于所述电致发光层上。

11、由此，本发明在显示区的平坦化层上形成外围底面为平面、内部底面为弧面的微腔结构，在这样的平坦化层上依次形成的第一电极、电致发光层(el)必然呈现出：微腔外围厚度大、微腔内部厚度小的结构特点，由此在外围的el难以激发发光，内部的el容易发光，进而解决了显示区外周漏光的问题，并且不影响内部的发光效率及亮度。在此基础上，因微腔结构解决了漏光问题，pdl可以采用透明材料，进而不影响光学检测缺陷。

12、在此基础上还可以进一步改进，例如以下列举。

13、进一步地，所述外围区域包括多个梯形凹陷部，所述内部区域包括多个弧形凹陷部，所述梯形凹陷部的最大开口直径≥所述弧形凹陷部的最大开口直径的1.6倍，这样可以更大程度兼顾低漏光和高亮度显示的性能。

14、进一步地，所述梯形凹陷部的坡度大于所述弧形凹陷部的坡度。

15、进一步地，所述弧面包括波浪形弧面。

16、波浪形弧面有利于使显示区域的像素亮度尽可能均匀一致。

17、进一步地，所述微腔结构的坡度为15°～60°。

18、进一步地，在所述显示区和非显示区的交界处，所述像素定义层的边沿与所述微腔结构的边沿至少有1.0μm宽度的重叠区。

19、这样可以防止膜层之间的对位偏差。

20、进一步地，所述有机发光显示面板为顶发射显示面板，所述第二电极采用透明材料。

21、进一步地，所述有机发光显示面板为底发射显示面板，所述第一电极采用透明材料。

22、本发明的第二方面提供了一种有机发光显示面板的制备方法，其包括：

23、在衬底上形成有源层阵列；

24、在有源层阵列上方形成平坦化层，所述平坦化层被划分为显示区和所述非显示区；

25、对所述显示区的平坦化层的表面进行图形化处理，使其形成向所述衬底方向凹陷的微腔结构，并且微腔结构包括外围区域和被外围层包围的内部区域，使外围区域的底表面为平面，使内部区域的底表面为弧面；

26、在所述平坦化层上形成第一电极；

27、在所述第一电极上形成像素定义层，再进行图形化处理，使其覆盖所述非显示区的第一电极，以及使显示区的第一电极外露；

28、在所述第一电极上形成电致发光层；

29、在所述电致发光层上形成第二电极。

30、由此，本发明通过调整平坦化层的图形化处理步骤中的手段和条件等，即可或者外围底面为平面、内部底面为弧面的微腔结构，相比现有的oled器件制作流程没有增加复杂步骤，容易实现。

31、进一步地，采用光刻手段对所述显示区的平坦化层的表面进行图形化处理，并且该过程包括：

32、先进行第一次光刻，使平坦化层的表面形成第一微腔结构；

33、然后对第一微腔结构第二次光刻，形成第二微腔结构，所述第二微腔结构的开口直径为第一微腔结构的开口直径的1.6倍以上。

34、通过两次光刻，并且控制两次光刻的曝光区尺寸差异(即第一微腔和第二微腔的尺寸)，就可以使第二次光刻在相同曝光条件下，形成外围底面为平面、内部底面为弧面的第二微腔结构。

35、进一步地，在所述显示区和非显示区的交界处，所述像素定义层的边沿与所述微腔结构的边沿至少有1.0μm宽度的重叠区，以此防止膜层之间的对位偏差。

36、本发明的第三方面提供了一种显示装置，其包括第一方面的有机发光显示面板或者第二方面的制备方法制成的有机发光显示面板。

37、综上，与现有技术相比，本发明达到了以下技术效果：

38、(1)通过控制平坦化层上微腔结构的形貌改善了像素漏光问题，并通过微腔结构提升发光效率；

39、(2)通过两次光刻结合两次微腔尺寸的比例可以更高效率地形成所需的微腔结构。

40、(3)通过像素定义层的边沿与所述微腔结构的边沿的重叠改善了膜层之间对位偏差的问题。

41、(4)本发明的oled适用的器件类型范围广，不限定驱动电路的具体结构，既可以用于顶部发光器件，又可以用于底部发光器件。

技术特征：

1.一种有机发光显示面板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述外围区域包括多个梯形凹陷部，所述内部区域包括多个弧形凹陷部，所述梯形凹陷部的最大开口直径≥所述弧形凹陷部的最大开口直径的1.6倍。

3.根据权利要求2所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述梯形凹陷部的坡度大于所述弧形凹陷部的坡度。

4.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述弧面包括波浪形弧面。

5.根据权利要求1或4所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述微腔结构的坡度为15°～60°。

6.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，在所述显示区和非显示区的交界处，所述像素定义层的边沿与所述微腔结构的边沿至少有1.0μm宽度的重叠区。

7.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述有机发光显示面板为顶发射显示面板，所述第二电极包括透明材料。

8.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述有机发光显示面板为底发射显示面板，所述第一电极包括透明材料。

9.一种有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，采用光刻手段对所述显示区的平坦化层的表面进行图形化处理，并且该过程包括：

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的有机发光显示面板或者权利要求9-10任一项所述的制备方法制成的有机发光显示面板。

技术总结本发明涉及一种有机发光显示面板及其制备方法、显示装置。一种有机发光显示面板，其包括：衬底；有源层阵列，位于所述衬底上；平坦化层，位于所述有源层阵列上；所述平坦化层包括显示区和非显示区；所述显示区的平坦化层的表面呈向所述衬底方向凹陷的微腔结构，所述微腔结构包括外围区域和被外围层包围的内部区域，外围区域的底表面为平面，内部区域的底表面为弧面；第一电极，位于所述显示区的平坦化层上；像素定义层，位于所述第一电极上，界定出所述显示区和所述非显示区；电致发光层，位于所述第一电极上；第二电极，位于所述电致发光层上。本发明解决了像素间漏光的问题以及采用遮光PDL导致器件缺陷不易被拦截的问题。技术研发人员：程磊磊,徐浩,周斌,刘宁,苏同上,黄勇潮受保护的技术使用者：合肥鑫晟光电科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/25