显示设备的制作方法

本发明涉及一种用于显示图像的显示设备。

背景技术：

1、由于有机发光显示设备具有高响应速度和低功耗，不需要单独的光源(不同于液晶显示设备)，并且自发光以对于每个像素进行单独驱动，所以有机发光显示设备可实现完美黑色，由此有机发光显示设备作为下一代平板显示设备受到关注。

2、这种显示设备经由发光元件层的发光来显示图像，其中发光元件层包括插置在两个电极之间的发光层。

3、同时，显示设备的光提取效率随着从发光元件层发射的一些光由于在发光元件层与电极之间和/或在基板和空气层之间的界面上的全反射未发射到外部而降低。

技术实现思路

1、本发明提供一种改善从发光元件层发射的光的光提取效率的显示设备。

2、本发明的另一目的是提供一种可使光提取效率最大化的显示设备。

3、本发明的又一目的是提供一种显示设备，其中光提取效率可通过来自非发光区的光提取而得到进一步改善。

4、本发明的又一目的是提供一种可降低功耗的显示设备。

5、除了上述本发明的目的之外，本发明的附加目的和特征对于所属领域的普通技术人员来说根据本发明的下文描述将清楚地理解。

6、根据本发明的一个方面，上述和其他目的可通过提供一种显示设备来实现，所述显示设备包括：基板，所述基板具有包括多个子像素的多个像素；图案部，所述图案部设置在所述基板上并且被形成为在所述多个子像素之间凹入；以及在所述图案部上的反射部，其中所述多个子像素包括：在所述基板上具有第一层的涂覆层；以及与所述反射部相邻的光提取部，所述光提取部具有形成在所述第一层上的多个凹部，所述凹部的最佳半径rbest满足rbest＝0.15sin4π(ar+0.05)+1.5noc+0.5m–0.59，其中π是圆周率，ar是所述凹部的纵横比，noc是所述第一层的折射率，m是基于所述多个凹部的形成工艺的可变值。

7、根据本发明的另一方面，上述和其他目的可通过提供一种显示设备来实现，所述显示设备包括：基板，所述基板具有包括多个子像素的多个像素；图案部，所述图案部设置在所述基板上并且被形成为在所述多个子像素之间凹入；以及在所述图案部上的反射部，其中所述多个子像素包括：在所述基板上具有第一层的涂覆层；以及与所述反射部相邻的光提取部，所述光提取部具有形成在所述第一层上的多个凹部，所述凹部的最佳半径与所述第一层的折射率成比例。

技术特征：

1.一种显示设备，包括：

2.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述涂覆层包括位于所述第一层上的第二层，

3.根据权利要求1所述的显示设备，其中基于所述多个凹部的形成工艺的可变值在所述凹部的半径大于等于2μm且小于等于2.35μm时是1，并且在所述凹部的半径大于2.35μm且小于等于2.9μm时是2。

4.根据权利要求2所述的显示设备，其中所述第一层的折射率小于所述第二层的折射率。

5.根据权利要求4所述的显示设备，其中所述第一层的折射率与所述第二层的折射率之差是0.16或更大。

6.根据权利要求2所述的显示设备，其中所述多个子像素包括白色子像素、红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，

7.根据权利要求2所述的显示设备，其中所述多个子像素包括白色子像素、红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，

8.根据权利要求2所述的显示设备，其中所述多个子像素包括位于所述光提取部上的发光层，

9.根据权利要求8所述的显示设备，其中随着所述凹部的纵横比变小，所述第一提取光的光效率提高率变大。

10.根据权利要求9所述的显示设备，其中随着亮度视角变小，所述第一提取光的光效率提高率变大。

11.根据权利要求8所述的显示设备，其中在亮度视角是25或更小时，随着所述凹部的纵横比增大，所述第二提取光的光效率提高率变大。

12.根据权利要求8所述的显示设备，其中在亮度视角是70或更大时，随着所述凹部的纵横比减小，所述第二提取光的光效率提高率变大。

13.根据权利要求2所述的显示设备，其中所述多个子像素包括：与所述光提取部交叠的发光区，所述发光区具有发光元件层；以及与所述发光区相邻的非发光区，

14.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述多个子像素包括发光区以及与所述发光区相邻的非发光区，

15.根据权利要求14所述的显示设备，其中所述图案部在所述第一层中被形成为凹入的，并且所述图案部以狭缝或沟槽的形式围绕所述发光区。

16.根据权利要求14所述的显示设备，其中所述图案部被设置为与所述发光区分隔开。

17.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述图案部的宽度从所述反射部朝着所述基板减小。

18.根据权利要求13所述的显示设备，其中所述图案部包括底表面以及倾斜并且连接至所述底表面的倾斜表面，

19.根据权利要求18所述的显示设备，其中所述图案部的倾斜表面与所述底表面形成钝角。

20.根据权利要求18所述的显示设备，还包括覆盖所述像素电极的边缘的堤部，

21.根据权利要求20所述的显示设备，其中位于所述图案部的底表面上的堤部和第二层的每一个是断开的。

22.根据权利要求13所述的显示设备，其中所述第二层与所述发光区部分地交叠，

23.一种显示设备，包括：

24.根据权利要求23所述的显示设备，其中所述凹部的最佳半径rbest满足rbest＝0.15sin4π(ar+0.05)+1.5noc+0.5m–0.59，

25.根据权利要求24所述的显示设备，其中所述涂覆层包括位于所述第一层上的第二层，

26.根据权利要求25所述的显示设备，其中所述第一层的折射率小于所述第二层的折射率。

27.根据权利要求26所述的显示设备，其中所述第一层的折射率与所述第二层的折射率之差是0.16或更大。

28.根据权利要求23所述的显示设备，其中所述图案部的深度等于或高于所述凹部的深度。

29.根据权利要求23所述的显示设备，其中所述多个子像素包括发光区以及与所述发光区相邻的非发光区，

30.根据权利要求29所述的显示设备，其中所述多个子像素包括发光元件层，

31.根据权利要求25所述的显示设备，其中所述图案部包括底表面以及倾斜并且连接至所述底表面的倾斜表面，

32.根据权利要求31所述的显示设备，其中所述第二层在部分地覆盖所述图案部的倾斜表面的同时与所述图案部的底表面的一部分接触。

33.根据权利要求32所述的显示设备，还包括覆盖所述像素电极的边缘的堤部，

34.根据权利要求33所述的显示设备，其中位于所述图案部的底表面上的堤部和第二层的每一个是断开的。

技术总结提供一种显示设备，可改善从发光元件层发射的光的光提取效率。所述显示设备包括：基板，所述基板具有包括多个子像素的多个像素；图案部，所述图案部设置在所述基板上并且被形成为在所述多个子像素之间凹入；以及在所述图案部上的反射部，其中所述多个子像素包括：在所述基板上具有第一层的涂覆层；以及与所述反射部相邻的光提取部，所述光提取部具有形成在所述第一层上的多个凹部，所述凹部的最佳半径R<subgt;BEST</subgt;满足R<subgt;BEST</subgt;＝0.15sin4π(AR+0.05)+1.5n<subgt;oc</subgt;+0.5m–0.59，其中π是圆周率，AR是所述凹部的纵横比，n<subgt;oc</subgt;是所述第一层的折射率，m是基于所述多个凹部的形成工艺的可变值。技术研发人员：朴世鸿,金垣来,崔仁爱,成世宗,南瑞现受保护的技术使用者：乐金显示有限公司技术研发日：技术公布日：2024/7/25