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显示装置及其制造方法和电子设备与流程

  • 国知局
  • 2024-08-02 15:43:36

本公开涉及显示装置、用于制造该显示装置的方法以及包括该显示装置的电子设备。

背景技术:

1、近年来,有机发光二极管(oled)显示装置得到了广泛的应用。在oled显示装置中,为了提高光提取效率,已经提出了在发光元件的周围设置反射器结构的技术(例如,参见专利文献1)。

2、引用列表

3、专利文献

4、专利文献1:日本专利申请公开号第2016-45979号。

技术实现思路

1、本发明要解决的问题

2、然而,在设置有反射器结构的oled显示装置中,由于反射器结构的倾斜表面上的oled层(包括发光层的有机层)比反射器结构之间的发光元件中的oled层薄,所以显示装置的特性可能劣化。

3、本公开的目的是提供能够在抑制显示装置的特性劣化的同时提高光提取效率的显示装置、用于制造该显示装置的方法以及包括该显示装置的电子设备。

4、问题的解决方案

5、为了解决上述问题,根据本公开的显示装置包括:

6、基板;

7、多个发光元件,布置在基板上;

8、层叠体,覆盖多个发光元件并且在平面图中在每个发光元件的周围具有凹槽;以及

9、树脂材料,设置在凹槽中,其中,

10、层叠体依次包括第一保护层、第一金属氧化物层、第二保护层和第二金属氧化物层,

11、凹槽设置在第二金属氧化物层和第二保护层上,并且

12、树脂材料的折射率低于第二保护层的折射率。

13、根据本公开的电子设备包括根据本公开的显示装置。

14、一种用于制造显示装置的方法,包括:

15、在基板上形成多个发光元件;

16、在多个发光元件上依次层叠第一保护层、第一金属氧化物层、第二保护层和第二金属氧化物层;

17、在平面图中,在第二金属氧化物层中的发光元件的周围形成开口;

18、以第二金属氧化物层为掩膜蚀刻第二保护层并形成凹槽;以及

19、用折射率低于第二保护层的折射率的树脂材料填充凹槽。

技术特征:

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述凹槽设置至所述第二金属氧化物层的表面。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层各自包括沉积的单分子层。

4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,

5.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:

6.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:

7.根据权利要求6所述的显示装置,其中,所述透镜的边缘部分位于所述凹槽的上方。

8.根据权利要求1所述的显示装置,其中,

9.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述凹槽的侧面平行于所述基板的厚度方向或相对于所述基板的厚度方向倾斜。

10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,

11.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述凹槽在平面图中围绕所述发光元件。

12.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述凹槽在平面图中位于所述发光元件的周边的一部分中。

13.一种电子设备,包括:根据权利要求1所述的显示装置。

14.一种用于制造显示装置的方法,所述方法包括:

15.根据权利要求14所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层通过原子层沉积形成。

技术总结提供了一种显示装置,该显示装置可以在抑制显示装置的特性降低的同时提高光提取效率。该显示装置包括:基板;多个发光元件,设置在基板上;层叠体,覆盖多个发光元件并且在平面图中在每个发光元件的周围具有凹槽;以及树脂材料,设置在凹槽中。层叠体按照所示顺序包括第一保护层、第一金属氧化物层、第二保护层和第二金属氧化物层。凹槽设置在第二金属氧化物层和第二保护层上。树脂材料的折射率低于第二保护层的折射率。技术研发人员:元山阳介受保护的技术使用者:索尼半导体解决方案公司技术研发日:技术公布日:2024/7/25

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