显示装置和制造显示装置的方法与流程

实施例涉及一种显示装置以及制造显示装置的方法。

背景技术：

1、随着信息技术的发展，作为用户和信息之间的连接媒介的显示装置的重要性正在显现。因此，诸如液晶显示(lcd)装置、有机发光显示(oled)装置和等离子显示装置(pdd)等的显示装置的使用正在增加。

2、显示装置的图像可以通过从像素发射的光的组合来实现。作为多种像素形成方法中的一种的精细金属掩模(fmm)方法是一种通过在真空腔室中对准掩模和基底并仅在期望的区中沉积有机材料来形成像素的方法。根据fmm方法，由于掩模的框架，限定像素的像素限定层之间的最小间隙可以是大约20微米(μm)。因此，fmm方法在制造高分辨率显示装置方面具有局限性。

3、另一方面，为了使用fmm方法，分隔件可以定位在基底上以支撑掩模。当分隔件和像素之间的距离由于冲压现象而不足时，在显示装置中可能出现暗点。结果，显示装置的质量可能恶化。

技术实现思路

1、实施例提供一种具有高分辨率的显示装置。

2、实施例提供一种制造显示装置的方法。

3、根据本公开的一个或多个实施例的显示装置包括：基底；第一电极，在基底上方；像素限定层，在基底上方，限定暴露第一电极的顶表面的一部分的开口，具有具备第一宽度的顶表面，并且包括无机材料；导电图案，在像素限定层上方，具有第一厚度，并且具有具备小于第一宽度的第二宽度的顶表面；悬垂层图案，在导电图案上方，具有不同于第一厚度的第二厚度，并且具有具备大于第一宽度的第三宽度的顶表面；有机层，包括与悬垂层图案的顶表面接触的第一部分、以及与第一电极和像素限定层两者接触的第二部分；以及第二电极，包括与有机层的第一部分的顶表面接触的第三部分、以及与第三部分间隔开并与有机层的第二部分的顶表面和导电图案的相对两侧两者接触的第四部分。

4、第二厚度可以小于第一厚度。

5、显示装置还可以包括保护图案，保护图案在导电图案和悬垂层图案之间，并且保护图案包括不同于导电图案的第一金属的第二金属。

6、第一金属可以包括铝(al)，并且第二金属可以包括钛(ti)。

7、导电图案的倾斜角可以基本上等于保护图案的倾斜角。

8、悬垂层图案可以包括无机材料。

9、悬垂层图案可以包括金属。

10、悬垂层图案可以包括多层结构，多层结构包括包含无机材料的第一层和包含金属的第二层。

11、根据本公开的一个或多个其他实施例的制造显示装置的方法包括：在基底上方形成第一电极；在基底上方形成像素限定层，像素限定层限定暴露第一电极的顶表面的一部分的开口，具有具备第一宽度的顶表面，并且包括无机材料；在像素限定层上方形成导电层；通过对导电层进行图案化来形成导电图案，导电图案具有第一厚度，并且具有具备小于第一宽度的第二宽度的顶表面；在导电层上方形成包含有机材料的牺牲层；使牺牲层平坦化；在牺牲层上方形成具有不同于第一厚度的第二厚度的初步悬垂层；通过对初步悬垂层进行图案化来形成悬垂层图案，悬垂层图案具有具备大于第一宽度的第三宽度的顶表面；去除牺牲层；形成有机层，有机层包括与悬垂层图案的顶表面接触的第一部分、以及与第一电极和像素限定层两者接触的第二部分；以及形成第二电极，第二电极包括与有机层的第一部分的顶表面接触的第三部分、以及与第三部分间隔开并与有机层的第二部分的顶表面和导电图案的相对两侧两者接触的第四部分。

12、第二厚度可以小于第一厚度。

13、方法还可以包括：在形成导电图案之前，在导电层上方形成保护层，保护层包括不同于导电图案的第一金属的第二金属。

14、第一金属可以包括铝(al)，并且第二金属可以包括钛(ti)。

15、保护层和导电层可以通过干法蚀刻工艺同时或基本上同时地被图案化。

16、牺牲层可以包括光致抗蚀剂。

17、初步悬垂层可以包括无机材料和/或金属。

18、初步悬垂层可以包括多层结构，多层结构具有包括无机材料的第一层和包括金属的第二层。

19、可以通过化学机械抛光(cmp)工艺和光刻工艺中的一种的工艺来使牺牲层平坦化。

20、可以通过干法蚀刻工艺来对初步悬垂层进行图案化。

21、可以通过灰化工艺去除牺牲层。

22、第一电极可以包括阳极，其中，通过溅射工艺形成的第二电极包括阴极。

23、在根据本公开的实施例的显示装置中，显示装置可以包括具有比导电图案的顶表面的宽度大的宽度的悬垂层图案。悬垂层图案可以具有可以断开有机层的尖端，并且第二电极可以连接到导电图案的相对两侧。

24、在根据本公开的实施例的制造显示装置的方法中，方法可以包括形成包括有机材料的牺牲层，形成悬垂层图案，并且然后去除牺牲层。当形成悬垂层图案时，通过使用牺牲层而不是使用湿法蚀刻，像素限定层之间的间隙可以减小大约3微米，并且每英寸像素(ppi)的数量可以增加。

技术特征：

1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二厚度小于所述第一厚度。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括保护图案，所述保护图案在所述导电图案和所述悬垂层图案之间，并且所述保护图案包括不同于所述导电图案的第一金属的第二金属。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第一金属包括铝，并且所述第二金属包括钛。

5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述导电图案的倾斜角等于所述保护图案的倾斜角。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述悬垂层图案包括无机材料。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述悬垂层图案包括金属。

8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述悬垂层图案包括多层结构，所述多层结构包括包含无机材料的第一层和包含金属的第二层。

9.一种制造显示装置的方法，其中，所述方法包括：

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第二厚度小于所述第一厚度。

11.根据权利要求9所述的方法，其中，所述方法还包括：在形成所述导电图案之前，在所述导电层上方形成保护层，所述保护层包括不同于所述导电图案的第一金属的第二金属。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第一金属包括铝，并且所述第二金属包括钛。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述保护层和所述导电层通过干法蚀刻工艺同时被图案化。

14.根据权利要求9所述的方法，其中，所述牺牲层包括光致抗蚀剂。

15.根据权利要求9所述的方法，其中，所述初步悬垂层包括无机材料和/或金属。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述初步悬垂层包括多层结构，所述多层结构具有包括无机材料的第一层和包括金属的第二层。

17.根据权利要求9所述的方法，其中，通过化学机械抛光工艺和光刻工艺中的一种的工艺使所述牺牲层平坦化。

18.根据权利要求9所述的方法，其中，通过干法蚀刻工艺来对所述初步悬垂层进行图案化。

19.根据权利要求9所述的方法，其中，通过灰化工艺去除所述牺牲层。

20.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第一电极包括阳极，并且

技术总结本公开涉及一种显示装置和制造显示装置的方法。所述显示装置包括导电图案、悬垂层图案、有机层和第二电极。悬垂层图案的顶表面的宽度大于导电图案的顶表面的宽度。显示装置通过包括具有尖端的悬垂层图案来断开有机层，并且显示装置包括接触导电图案的侧壁的第二电极以连接到整个面板。技术研发人员：李东勋,金玄俊,朴京淳,李仙花,崔仙暎受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/1