光学成像模块、相机模块与电子装置的制作方法

本揭示内容是关于一种光学成像模块与相机模块，且特别是一种应用在可携式电子装置上的光学成像模块与相机模块。

背景技术：

1、近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板计算机等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的相机模块与其光学成像模块也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于光学成像模块的品质要求也愈来愈高。因此，发展一种转折式的光学成像模块并通过光路转折元件来减少光学成像模块的体积遂成为产业上重要且急欲解决的问题。

技术实现思路

1、本揭示内容提供一种光学成像模块、相机模块及电子装置，通过光路转折元件来减少光学成像模块的体积，以适用在摄远的成像系统上。

2、依据本揭示内容一实施方式提供一种光学成像模块，包含一光学成像透镜组、一光路转折元件及一遮光元件。光学成像透镜组包含至少一光学透镜元件，光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面，且光路转折元件设置于光学成像透镜组的像侧。遮光元件设置于至少一光学透镜元件和光路转折元件中的其中一者上，且遮光元件包含一开孔以及一遮光面。开孔与光路转折元件的入光面和出光面中的其中一者对应设置，遮光面与开孔相邻设置，且遮光面设置有一抗反射遮光膜层。抗反射遮光膜层的表面具有多个纳米微结构，且纳米微结构呈现无规则的形式排列，而遮光面与光路转折元件的入光面、出光面和至少一光学反射面中的至少一者相对设置。

3、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可与光路转折元件的入光面相对设置。

4、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可与光路转折元件的出光面相对设置。

5、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可与光路转折元件的至少一光学反射面相对设置。

6、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中光路转折元件的至少一光学反射面可通过一光学全反射现象来反射一成像光线。

7、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中光路转折元件的至少一光学反射面可通过一高反射镀膜来反射一成像光线。

8、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的结构形状可呈现一球状凸起结构。

9、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的球状凸起结构的大小为bs，其可满足下列条件：12nm<bs<138nm。

10、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的结构形状可呈现一脊状凸起结构。

11、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的脊状凸起结构的大小为rs，其可满足下列条件：60nm<rs<360nm。

12、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中光路转折元件的至少一光学反射面的数量可大于或等于二。

13、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光元件的开孔可为一非圆开孔。

14、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面与光路转折元件之间的间距为d，其可满足下列条件：0mm<d<1.8mm。

15、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面与光路转折元件之间的间距为d，其可满足下列条件：0mm<d<1.2mm。

16、依据本揭示内容一实施方式提供一种光学成像模块，包含一光学成像透镜组、一光路转折元件及一遮光元件。光学成像透镜组包含至少一光学透镜元件，光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面，且光路转折元件设置于光学成像透镜组的像侧。遮光元件设置于至少一光学透镜元件和光路转折元件中的其中一者上，且遮光元件包含一遮光面。遮光面朝向光路转折元件设置，且遮光面设置有一抗反射遮光膜层。抗反射遮光膜层的表面具有多个纳米微结构，且纳米微结构呈现无规则的形式排列，而遮光面与光路转折元件的入光面、出光面和至少一光学反射面中的至少一者相对设置。

17、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可与光路转折元件的入光面相对设置。

18、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可与光路转折元件的出光面相对设置。

19、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可与光路转折元件的至少一光学反射面相对设置。

20、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中光路转折元件的至少一光学反射面可通过一光学全反射现象来反射一成像光线。

21、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中光路转折元件的至少一光学反射面可通过一高反射镀膜来反射一成像光线。

22、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的结构形状可呈现一球状凸起结构。

23、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的球状凸起结构的大小为bs，其可满足下列条件：12nm<bs<138nm。

24、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的结构形状可呈现一脊状凸起结构。

25、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中各纳米微结构的脊状凸起结构的大小为rs，其可满足下列条件：60nm<rs<360nm。

26、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中光路转折元件的至少一光学反射面的数量可大于或等于二。

27、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面可设置于至少一光学透镜元件和光路转折元件之间。

28、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面与光路转折元件之间的间距为d，其可满足下列条件：0mm<d<1.8mm。

29、依据前段所述实施方式的光学成像模块，其中遮光面与光路转折元件之间的间距为d，其可满足下列条件：0mm<d<1.2mm。

30、依据本揭示内容一实施方式提供一种相机模块，包含前述的光学成像模块以及一电子感光元件。

31、依据本揭示内容一实施方式提供一种电子装置，包含前述的相机模块。

技术特征：

1.一种光学成像模块，其特征在于，包含：

2.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件的该入光面相对设置。

3.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件的该出光面相对设置。

4.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件的该至少一光学反射面相对设置。

5.如权利要求4所述的光学成像模块，其特征在于，该光路转折元件的该至少一光学反射面是通过一光学全反射现象来反射一成像光线。

6.如权利要求4所述的光学成像模块，其特征在于，该光路转折元件的该至少一光学反射面是通过一高反射镀膜来反射一成像光线。

7.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的结构形状呈现一球状凸起结构。

8.如权利要求7所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的该球状凸起结构的大小为bs，其满足下列条件：

9.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的结构形状呈现一脊状凸起结构。

10.如权利要求9所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的该脊状凸起结构的大小为rs，其满足下列条件：

11.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，该光路转折元件的该至少一光学反射面的数量大于或等于二。

12.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光元件的该开孔为一非圆开孔。

13.如权利要求1所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件之间的间距为d，其满足下列条件：

14.如权利要求13所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件之间的间距为d，其满足下列条件：

15.一种光学成像模块，其特征在于，包含：

16.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件的该入光面相对设置。

17.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件的该出光面相对设置。

18.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件的该至少一光学反射面相对设置。

19.如权利要求18所述的光学成像模块，其特征在于，该光路转折元件的该至少一光学反射面是通过一光学全反射现象来反射一成像光线。

20.如权利要求18所述的光学成像模块，其特征在于，该光路转折元件的该至少一光学反射面是通过一高反射镀膜来反射一成像光线。

21.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的结构形状呈现一球状凸起结构。

22.如权利要求21所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的该球状凸起结构的大小为bs，其满足下列条件：

23.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的结构形状呈现一脊状凸起结构。

24.如权利要求23所述的光学成像模块，其特征在于，各该纳米微结构的该脊状凸起结构的大小为rs，其满足下列条件：

25.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，该光路转折元件的该至少一光学反射面的数量大于或等于二。

26.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面设置于该至少一光学透镜元件和该光路转折元件之间。

27.如权利要求15所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件之间的间距为d，其满足下列条件：

28.如权利要求27所述的光学成像模块，其特征在于，该遮光面与该光路转折元件之间的间距为d，其满足下列条件：

29.一种相机模块，其特征在于，包含：

30.一种电子装置，其特征在于，包含：

技术总结一种光学成像模块、相机模块与电子装置，光学成像模块包含一光学成像透镜组、一光路转折元件及一遮光元件。光学成像透镜组包含至少一光学透镜元件，光路转折元件具有一入光面、一出光面以及至少一光学反射面，且光路转折元件设置于光学成像透镜组的像侧。遮光元件设置于光学透镜元件和光路转折元件中的其中一者上，且遮光元件包含一开孔以及一遮光面。遮光面设置有一抗反射遮光膜层，抗反射遮光膜层的表面具有多个纳米微结构，且纳米微结构呈现无规则的形式排列。借此，通过光路转折元件来减少光学成像模块的体积，以适用在摄远的成像系统上。技术研发人员：童伟哲,张临安,刘思欣,蔡温祐受保护的技术使用者：大立光电股份有限公司技术研发日：20240112技术公布日：2024/8/27