一种半导体湿法工艺的废气处理装置的制作方法

本发明涉及废气处理，具体为一种半导体湿法工艺的废气处理装置。

背景技术：

1、半导体湿法工艺是半导体制造过程中的一种重要工艺，也被称为湿法腐蚀或湿法刻蚀。该工艺通过使用化学腐蚀剂(如酸、碱等)来将材料表面的一层或多层材料去除，以达到改变该物质表面性质的目的。

2、半导体湿法工艺在生产加工的过程中会产生大量的有机废气和酸碱废气，因此需要通过废气处理装置来对废气进行吸收；

3、但是现有的废气处理装置在使用时仍然存在以下技术问题：

4、现有的废气处理装置内部盛装有大量的活性炭，但是在活性炭长时间使用后，其对废气的吸附能力下降，此时需要对其进行更换，但是目前的废气处理装置无法有效设置多个活性炭过滤筒，在其中一个活性炭过滤筒的过滤效果下降后，无法立即就可以重新更换新的活性炭过滤筒，影响废气的处理。

5、为此，现提出一种半导体湿法工艺的废气处理装置来解决上述提出的问题。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种半导体湿法工艺的废气处理装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体湿法工艺的废气处理装置，包括处理箱，所述处理箱的上侧壁固定设置有废气排入管，所述废气排入管的下端滑动设置有第一套管，所述第一套管与所述处理箱的上侧壁滑动连接，所述废气排入管的管壁固定设置有限位板，所述废气排入管的外部套接设置有第一弹簧，所述第一弹簧的上端与所述限位板的下侧壁固定连接，所述第一弹簧的下端与所述第一套管的上侧壁固定连接，所述处理箱右侧壁的下端固定设置有第一连接管，所述第一连接管的左端固定设置有第二套管，所述处理箱的左侧壁开设有腔口，所述处理箱的内部设置有移动机构，所述移动机构的上端固定设置有对称的环形板，两个所述环形板的内部均设置有夹持机构，两个所述环形板的内部通过夹持机构设置有吸收筒，所述吸收筒的内部设置有活性炭，所述吸收筒的上端通过安装机构设置有密封盖，所述密封盖的侧壁固定设置有第一插管，所述第一插管与所述第一套管的内壁滑动连接，所述吸收筒的下侧壁固定设置有第二插管，所述第二插管与所述第二套管插接；

3、所述处理箱的右端固定设置有碱液盛装箱，所述碱液盛装箱的右端固定设置有酸液盛装箱，所述第一连接管的右端延伸至碱液盛装箱的内部，所述碱液盛装箱的右侧壁固定设置有第二连接管，所述第二连接管的右端延伸至酸液盛装箱的内部，所述酸液盛装箱右侧壁的上端固定设置有横管。

4、优选的，所述移动机构包括条形板，所述条形板横向固定设置在处理箱的内部，所述条形板的上侧壁开设有滑槽，所述滑槽的内部固定设置有限位杆，所述限位杆的外部滑动设置有滑块，所述滑块的上端转动设置有旋转台，所述旋转台的内部开设有对称的空腔，两个所述空腔的内部均滑动设置有移动块，两个所述移动块的上侧壁均固定设置有固定杆，两个所述固定杆的上端均与所述环形板的侧壁固定连接，两个所述固定杆的外部均套接设置有第二弹簧，两个所述第二弹簧的下端均与所述移动块的上侧壁固定连接，两个所述第二弹簧的上端均与所述空腔的内壁固定连接。

5、优选的，所述夹持机构包括两个螺杆，两个所述螺杆均与所述环形板的侧壁螺纹连接，两个所述螺杆相靠近的一端均转动设置有夹板，两个所述夹板背离的一侧均固定设置有移动杆，所述移动杆与所述环形板的侧壁滑动连接。

6、优选的，所述安装机构包括限位架，所述限位架与所述密封盖的上侧壁固定连接，所述限位架的内部滑动设置有插板，所述吸收筒的内壁开设有插槽，所述插板与所述插槽插接，所述插板的上侧壁固定设置有拉块，所述限位架的上侧壁螺纹设置有紧固螺栓，所述紧固螺栓的下端与所述插板的上侧壁卡接。

7、优选的，所述碱液盛装箱和酸液盛装箱的内部均设置有搅拌机构，所述搅拌机构包括机箱，所述机箱分别与所述碱液盛装箱和酸液盛装箱的上侧壁固定连接，所述机箱的内部固定设置有电机，所述电机的输出端固定设置有搅拌杆。

8、优选的，所述碱液盛装箱和酸液盛装箱的上侧壁均固定设置有添加管，所述碱液盛装箱和酸液盛装箱的右侧壁下端均固定设置有排出管。

9、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

10、本申请在对通过活性炭对有机废气和酸碱废气进行吸收时，设置了两个吸收筒，在一个吸收筒内部的活性炭吸附能力较差的时候，直接通过将两个吸收筒移动到处理箱的外部并转动旋转台，使另一个旋转至右端的位置并快速安装在第一套管和第二套管之间，操作简单且不会影响废气的过滤。

技术特征：

1.一种半导体湿法工艺的废气处理装置，包括处理箱（1），其特征在于，所述处理箱（1）的上侧壁固定设置有废气排入管（2），所述废气排入管（2）的下端滑动设置有第一套管（3），所述第一套管（3）与所述处理箱（1）的上侧壁滑动连接，所述废气排入管（2）的管壁固定设置有限位板（4），所述废气排入管（2）的外部套接设置有第一弹簧（5），所述第一弹簧（5）的上端与所述限位板（4）的下侧壁固定连接，所述第一弹簧（5）的下端与所述第一套管（3）的上侧壁固定连接，所述处理箱（1）右侧壁的下端固定设置有第一连接管（6），所述第一连接管（6）的左端固定设置有第二套管（7），所述处理箱（1）的左侧壁开设有腔口，所述处理箱（1）的内部设置有移动机构，所述移动机构的上端固定设置有对称的环形板（8），两个所述环形板（8）的内部均设置有夹持机构，两个所述环形板（8）的内部通过夹持机构设置有吸收筒（9），所述吸收筒（9）的内部设置有活性炭（10），所述吸收筒（9）的上端通过安装机构设置有密封盖（11），所述密封盖（11）的侧壁固定设置有第一插管（12），所述第一插管（12）与所述第一套管（3）的内壁滑动连接，所述吸收筒（9）的下侧壁固定设置有第二插管（14），所述第二插管（14）与所述第二套管（7）插接；

2.根据权利要求1所述的一种半导体湿法工艺的废气处理装置，其特征在于：所述移动机构包括条形板（18），所述条形板（18）横向固定设置在处理箱（1）的内部，所述条形板（18）的上侧壁开设有滑槽，所述滑槽的内部固定设置有限位杆（19），所述限位杆（19）的外部滑动设置有滑块（20），所述滑块（20）的上端转动设置有旋转台，所述旋转台的内部开设有对称的空腔，两个所述空腔的内部均滑动设置有移动块（21），两个所述移动块（21）的上侧壁均固定设置有固定杆（22），两个所述固定杆（22）的上端均与所述环形板（8）的侧壁固定连接，两个所述固定杆（22）的外部均套接设置有第二弹簧（23），两个所述第二弹簧（23）的下端均与所述移动块（21）的上侧壁固定连接，两个所述第二弹簧（23）的上端均与所述空腔的内壁固定连接。

3.要求1所述的一种半导体湿法工艺的废气处理装置，其特征在于：所述夹持机构包括两个螺杆（24），两个所述螺杆（24）均与所述环形板（8）的侧壁螺纹连接，两个所述螺杆（24）相靠近的一端均转动设置有夹板（25），两个所述夹板（25）背离的一侧均固定设置有移动杆（26），所述移动杆（26）与所述环形板（8）的侧壁滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体湿法工艺的废气处理装置，其特征在于：所述安装机构包括限位架（27），所述限位架（27）与所述密封盖（11）的上侧壁固定连接，所述限位架（27）的内部滑动设置有插板（28），所述吸收筒（9）的内壁开设有插槽，所述插板（28）与所述插槽插接，所述插板（28）的上侧壁固定设置有拉块（29），所述限位架（27）的上侧壁螺纹设置有紧固螺栓，所述紧固螺栓的下端与所述插板（28）的上侧壁卡接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体湿法工艺的废气处理装置，其特征在于：所述碱液盛装箱（15）和酸液盛装箱（16）的内部均设置有搅拌机构，所述搅拌机构包括机箱，所述机箱分别与所述碱液盛装箱（15）和酸液盛装箱（16）的上侧壁固定连接，所述机箱的内部固定设置有电机（30），所述电机（30）的输出端固定设置有搅拌杆（31）。

6.根据权利要求1所述的一种半导体湿法工艺的废气处理装置，其特征在于：所述碱液盛装箱（15）和酸液盛装箱（16）的上侧壁均固定设置有添加管（32），所述碱液盛装箱（15）和酸液盛装箱（16）的右侧壁下端均固定设置有排出管（13）。

技术总结本发明属于废气处理技术领域，具体为一种半导体湿法工艺的废气处理装置，包括处理箱，所述处理箱的上侧壁固定设置有废气排入管，所述废气排入管的下端滑动设置有第一套管，所述第一套管与所述处理箱的上侧壁滑动连接，所述废气排入管的管壁固定设置有限位板，所述废气排入管的外部套接设置有第一弹簧，本申请在对通过活性炭对有机废气和酸碱废气进行吸收时，设置了两个吸收筒，在一个吸收筒内部的活性炭吸附能力较差的时候，直接通过将两个吸收筒移动到处理箱的外部并转动旋转台，使另一个旋转至右端的位置并快速安装在第一套管和第二套管之间，操作简单且不会影响废气的过滤。技术研发人员：丘展富受保护的技术使用者：深圳市芯控源电子科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/9/2