埚托、坩埚装置和单晶炉的制作方法
- 国知局
- 2024-09-11 15:04:09
本申请涉及晶体生长,尤其是一种埚托、坩埚装置和单晶炉。
背景技术:
1、随着光伏行业的快速发展,给人们的生活带来了诸多便利;但是目前的产能远远不能满足工业、生活的需求,因此,为了追求高产能,单晶炉的材料越做越大,在单晶的制备过程中,也存在着许多风险。
2、目前,单晶硅制造业正逐步朝着大尺寸、大装料量以及多次加料方向发展,随着装料量的增加,单晶炉在晶体生长过程中的危险系数也不断提高,特别是由于硅料泄露所导致的危险往往会造成严重损失。
3、因此,亟需一种能够处理泄露的硅料的装置。
技术实现思路
1、本申请提供一种埚托、坩埚装置和单晶炉,能够收集泄露的硅料,降低生产过程中的物料损失。
2、为了实现上述目的,本申请采用以下技术方案:
3、本申请提供一种埚托,包括:
4、壳体,所述壳体具有回转腔,所述壳体的顶壁具有多个凹槽,所述凹槽连通所述壳体的内外两侧;
5、多个所述凹槽形成多个槽组,多个所述槽组绕所述回转腔的轴线依次间隔设置;每个所述槽组具有至少一个所述凹槽。
6、作为一种可能的实施方式,所述槽组具有多个所述凹槽,多个所述凹槽沿所述顶壁的延伸方向依次间隔设置。
7、作为一种可能的实施方式,相邻的两个所述槽组的所述凹槽在同一回转面内。
8、作为一种可能的实施方式,相邻的两个所述槽组的所述凹槽沿所述顶壁的延伸方向相互错位。
9、作为一种可能的实施方式,相邻的两个所述槽组的所述凹槽具有重叠部分;和/或,
10、相邻的两个所述凹槽相对的端部平齐。
11、作为一种可能的实施方式,所述壳体包括壳盖和本体,所述本体的一侧开口,所述壳盖通过所述开口盖设于所述本体,形成所述回转腔;
12、所述壳盖形成所述顶壁。
13、作为一种可能的实施方式,所述壳盖相对所述本体凹陷设置;所述凹槽为弧形槽。
14、作为一种可能的实施方式,所述本体具有连接孔,所述连接孔位于所述本体背离所述壳盖的一端,所述连接孔为盲孔。
15、本申请提供埚托,壳体的顶壁用于支撑坩埚。壳体的顶壁具有多个槽组,每个槽组具有至少一个连通壳体内外的凹槽。如此,在实际使用的过程中,从坩埚中泄露的物料沿着坩埚的外壁面,流动至壳体的顶壁,并从壳体的顶壁的凹槽进入壳体的回转腔中,实现了对泄露的物料的收集,收集后的物料可继续使用,减少了生产过程中的物料损失,降低生产成本。另外,还能减少泄露的物料影响生产设备的运行,提高生产设备的稳定性和安全性,提高生产效率。
16、第二方面,本申请提供一种坩埚装置,包括坩埚和第一方面所述的埚托,所述坩埚设置于所述埚托的顶部。
17、本申请提供的坩埚装置,由于包括了前述任一实施方式中的坩埚,能够收集泄露的物料,以减少物料的损失,降低物料成本,提高生产设备的稳定性和安全性。
18、第三方面,本申请提供一种单晶炉,包括支撑杆和第二方面所述的坩埚装置,所述坩埚装置连接于所述支撑杆的端部。
19、本申请提供的单晶炉,由于包括了上述坩埚装置,能够减少物料的损失,降低物料成本。
技术特征:1.一种埚托,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的埚托,其特征在于,所述槽组具有多个所述凹槽,多个所述凹槽沿所述顶壁的延伸方向依次间隔设置。
3.根据权利要求2所述的埚托,其特征在于,相邻的两个所述槽组的所述凹槽在同一回转面内。
4.根据权利要求2所述的埚托,其特征在于,相邻的两个所述槽组的所述凹槽沿所述顶壁的延伸方向相互错位。
5.根据权利要求4所述的埚托,其特征在于,相邻的两个所述槽组的所述凹槽具有重叠部分;和/或,
6.根据权利要求1-5任一项所述的埚托,其特征在于,所述壳体包括壳盖和本体,所述本体的一侧开口,所述壳盖通过所述开口盖设于所述本体,形成所述回转腔;
7.根据权利要求6所述的埚托,其特征在于,所述壳盖相对所述本体凹陷设置;所述凹槽为弧形槽。
8.根据权利要求6所述的埚托,其特征在于,所述本体具有连接孔,所述连接孔位于所述本体背离所述壳盖的一端,所述连接孔为盲孔。
9.一种坩埚装置,其特征在于,包括坩埚和权利要求1-8任一项所述的埚托,所述坩埚设置于所述埚托的顶部。
10.一种单晶炉,其特征在于,包括支撑杆和权利要求9所述的坩埚装置,所述坩埚装置连接于所述支撑杆的端部。
技术总结本申请涉及晶体生长技术领域,提供了一种埚托、坩埚装置和单晶炉。埚托包括壳体。壳体具有回转腔,壳体的顶壁具有多个凹槽,凹槽连通壳体的内外两侧。多个凹槽形成多个槽组,多个槽组绕回转腔的轴线间隔设置;每个槽组具有至少一个凹槽。如此,在实际使用的过程中,从坩埚中泄露的物料沿着坩埚的外壁面,流动至壳体的顶壁,并从壳体的顶壁的凹槽进入壳体的回转腔中,实现了对泄露的物料的收集,收集后的物料可继续使用,减少了生产过程中的物料损失,降低生产成本。另外,还能减少泄露的物料影响生产设备的运行,提高生产设备的稳定性和安全性,提高生产效率。技术研发人员:马勇,金霞,徐凯旋,赵国伟受保护的技术使用者:青海高景太阳能科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/9/9本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240911/293075.html
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