多层复合高耐磨烫印膜的制作方法

本技术涉及烫印膜，具体涉及一种多层复合高耐磨烫印膜。

背景技术：

1、烫印膜已广泛应用于包装领域，相对于传统的印刷技术，烫印膜色彩绚丽且极具动感，并具有一定的防伪力度。烫印膜的背面设有与物体粘接的背胶层，当背胶层与物体粘接固定后，剥离烫印膜正面的pet薄膜层，即可露出设有防伪图案的成像层。现有烫印膜的成像层直接与外界环境接触，可能会受到外界的磕碰、撞击而摩擦受损、磨损掉色，且容易受到温度影响，进而影响烫印膜的成像质量。

2、另外，现有的烫印膜由于结构设计不合理，反射层的反射效果不好，从而导致整个烫印膜光泽差，实用性差。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种结构设计合理、耐磨性能好、成像质量好、光泽好且实用性好的多层复合高耐磨烫印膜。

2、为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种多层复合高耐磨烫印膜，包括基膜层，所述基膜层的上表面上设置有离型层，所述离型层的上表面上设置有耐磨涂层，所述耐磨涂层的上表面上固定设置有弹性层，所述弹性层的上表面上固定设置有着色涂层，所述着色涂层的上表面上固定设置有成像层，所述成像层的上表面上固定设置有纳米反光涂层，所述纳米反光涂层的上表面上固定设置有金属反射层，所述金属反射层的上表面上固定设置有定位层，所述定位层的上表面上固定设置有背胶层；

3、所述耐磨涂层为纳米耐磨涂层，且耐磨涂层内设置有多个金属耐磨颗粒，耐磨涂层的厚度为0.5—15μm；

4、所述纳米反光涂层的厚度为0.3-350μm。

5、本实用新型进一步设置为：所述纳米反光涂层为光学高漫反射纳米涂层，且纳米反光涂层的厚度制成0.5μm。

6、本实用新型还进一步设置为：所述弹性层为tpu薄膜，且弹性层的厚度为0.01-0.5mm。

7、本实用新型还进一步设置为：所述着色涂层为纳米陶瓷涂料层，且着色涂层的厚度为0.2—3μm。

8、本实用新型还进一步设置为：所述金属反射层为镀铝层，且金属反射层的厚度为0.01—1μm。

9、本实用新型还进一步设置为：所述成像层为uv模压层，且成像层的厚度为3—150μm。

10、本实用新型的有益效果是：与现有技术相比，本实用新型结构设置合理，耐磨涂层为纳米耐磨涂层耐磨性能好；弹性层为tpu薄膜，弹性好、物性佳、各种机械强度都很好；耐磨涂层和弹性层相结合，能够对着色涂层和成像层起到防护作用，有效防止着色涂层和成像层受外界的磕碰、撞击而摩擦受损、磨损掉色；纳米反光涂层和金属反射层相结合的结构，纳米反光涂层的纳米颗粒分布均匀，细密，反射率高；金属反射层为镀铝层，与纳米反光涂层一起能让烫印膜发出闪闪发亮的金属光泽，使着色涂层颜色增光添彩，成像质量好、光泽好且实用性好。

11、下面结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

技术特征：

1.一种多层复合高耐磨烫印膜，包括基膜层(1)，所述基膜层(1)的上表面上设置有离型层(2)，其特征在于：所述离型层(2)的上表面上设置有耐磨涂层(3)，所述耐磨涂层(3)的上表面上固定设置有弹性层(4)，所述弹性层(4)的上表面上固定设置有着色涂层(5)，所述着色涂层(5)的上表面上固定设置有成像层(6)，所述成像层(6)的上表面上固定设置有纳米反光涂层(7)，所述纳米反光涂层(7)的上表面上固定设置有金属反射层(8)，所述金属反射层(8)的上表面上固定设置有定位层(9)，所述定位层(9)的上表面上固定设置有背胶层(10)；

2.根据权利要求1所述的一种多层复合高耐磨烫印膜，其特征在于：所述纳米反光涂层(7)为光学高漫反射纳米涂层，且纳米反光涂层(7)的厚度制成0.5μm。

3.根据权利要求2所述的一种多层复合高耐磨烫印膜，其特征在于：所述弹性层(4)为tpu薄膜，且弹性层(4)的厚度为0.01-0.5mm。

4.根据权利要求3所述的一种多层复合高耐磨烫印膜，其特征在于：所述着色涂层(5)为纳米陶瓷涂料层，且着色涂层(5)的厚度为0.2—3μm。

5.根据权利要求4所述的一种多层复合高耐磨烫印膜，其特征在于：所述金属反射层(8)为镀铝层，且金属反射层(8)的厚度为0.01—1μm。

6.根据权利要求5所述的一种多层复合高耐磨烫印膜，其特征在于：所述成像层(6)为uv模压层，且成像层(6)的厚度为3—150μm。

技术总结本技术公开了一种多层复合高耐磨烫印膜，包括基膜层，所述基膜层的上表面上设置有离型层，所述离型层的上表面上设置有耐磨涂层，所述耐磨涂层的上表面上固定设置有弹性层，所述弹性层的上表面上固定设置有着色涂层，所述着色涂层的上表面上固定设置有成像层，成像层的上表面上固定设置有纳米反光涂层，所述纳米反光涂层的上表面上固定设置有金属反射层，所述金属反射层的上表面上固定设置有定位层，所述定位层的上表面上固定设置有背胶层；所述耐磨涂层为纳米耐磨涂层，耐磨涂层内设置有多个金属耐磨颗粒，耐磨涂层的厚度为0.5—15μm；纳米反光涂层的厚度为0.3‑350μm。上述技术方案，结构设计合理、耐磨性能好、成像质量好、光泽好且实用性好。技术研发人员：方铁辉,林章簿,林晓,林定安受保护的技术使用者：浙江宇狮包装材料有限公司技术研发日：20231107技术公布日：2024/6/13