一种高等级公路的超高路段高位侧路面排水结构的制作方法
- 国知局
- 2024-07-09 16:55:24
本技术涉及道路超高路段排水,具体为一种高等级公路的超高路段高位侧路面排水结构。
背景技术:
1、在道路建设中,为了抵消在道路曲线上行驶车辆的离心力,会在该路段横断面上设置外侧路面高于内侧路面的单向坡道,这属于超高路段。同时,在高等级道路中,道路径向的中部均会设置分隔带,雨水汇集于内侧的中央分隔带附近会形成积水,影响行车安全。
2、中国专利“申请号:cn201920864058.9”公开了“一种挖方边坡超高路段路面排水系统”,该专利提供的方案中,混凝土护栏外侧设置有纵向排水沟和超高内侧边沟,纵向排水沟内沿纵向间隔开有若干排水沟集水井,超高内侧边沟内开有与排水沟集水井横向位置一一对应的边沟集水井,每一对位置对应的排水沟集水井和边沟集水井之间均设置有与两者连通且倾斜布置的横向排水管,横向排水管外侧高度低于内侧高度,以对超高路段高位侧的路面水收集,并导引至道路一侧的排水沟内。
3、但还是会存在以下弊端,为了降低排水对道路超高路段的结构影响,排水管的管径不会太大,且排水管内不是每时每刻都有流水通过,使得路面水中携带颗粒物会部分滞留在排水管内,长时间的累计会导致排水管排水不畅甚至堵塞。
技术实现思路
1、本实用新型的主要目的在于提供一种高等级公路的超高路段高位侧路面排水结构,旨在解决上述的技术问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
3、一种高等级公路的超高路段高位侧路面排水结构,包括高等级公路和排水结构,所述排水结构应用于所述高等级公路的超高路段,其特征在于,所述排水结构包括:集水井、集水管、过滤组件和排水管;
4、所述高等级公路的超高路段沿其径向等距排布至少两个集水井,相邻的两个集水井之间通过一个集水管连接,每个集水井、以及每个集水管均埋设于所述高等级公路的超高路段高位侧路面之下并靠近所述高等级公路中部的分隔带;所述高等级公路的路面对应每个集水管均设置至少一个下水口,每个集水管内均设置有过滤组件;每个集水井均与至少一个埋设于所述高等级公路之下的排水管一端连接,每个排水管的另一端均连接至所述高等级公路径向一侧的排水沟内。
5、作为本实用新型的进一步改进,所述过滤组件包括:雨水篦子、滤网和砾石层,所述集水管的每个下水口均设置一个雨水篦子,所述集水管的两端各设置一个滤网,所述集水管内部且位于两个滤网之间的空间填充有砾石层。
6、作为本实用新型的进一步改进,所述砾石层为颗粒大小均匀,所述滤网的孔径小于所述砾石层的最小粒径。
7、作为本实用新型的进一步改进,每个排水管连接所述高等级公路一侧排水沟的一端的水平高度均低于其连接所述集水井一端的水平高度。
8、作为本实用新型的进一步改进,所述高等级公路的路面对应每个集水井均开设一个检查口,每个检查口均安装有密封盖。
9、本实用新型的有益效果:
10、在本实用新型中,高等级公路超高路段高位侧的路面水在重力作用下流向道路中部的分隔带,分隔带附近的路面水会透过下水口进入到集水管内,集水管汇集的路面水在重力的作用下会流入其两端的集水井内,集水井内蓄积的水会透过排水管流入至道路径向一侧的排水沟内;由于集水管内设置过滤组件,可滤出将流入集水井内水中携带的大部份颗粒物,避免排水管在长期使用后泥沙堆积其内而引起的排水不畅,甚至堵塞。
技术特征:1.一种高等级公路的超高路段高位侧路面排水结构,包括高等级公路和排水结构,所述排水结构应用于所述高等级公路的超高路段,其特征在于,所述排水结构包括:集水井、集水管、过滤组件和排水管;
2.根据权利要求1所述的排水结构,其特征在于,所述过滤组件包括:雨水篦子、滤网和砾石层,所述集水管的每个下水口均设置一个雨水篦子,所述集水管的两端各设置一个滤网,所述集水管内部且位于两个滤网之间的空间填充有砾石层。
3.根据权利要求2所述的排水结构,其特征在于,所述砾石层为颗粒大小均匀,所述滤网的孔径小于所述砾石层的最小粒径。
4.根据权利要求1所述的排水结构,其特征在于,每个排水管连接所述高等级公路一侧排水沟的一端的水平高度均低于其连接所述集水井一端的水平高度。
5.根据权利要求1所述的排水结构,其特征在于,所述高等级公路的路面对应每个集水井均开设一个检查口,每个检查口均安装有密封盖。
技术总结本技术涉及道路超高路段排水技术领域,具体为一种高等级公路的超高路段高位侧路面排水结构,包括高等级公路和排水结构,所述排水结构应用于所述高等级公路的超高路段,其特征在于,所述排水结构包括:集水井、集水管、过滤组件和排水管。在本技术中,分隔带附近的水会通过集水管流入至集水井内,集水井内的水透过排水流入至道路一侧的排水沟内,集水管内设置有过滤组件,可滤出将流入集水井内水中携带的大部份颗粒物,避免排水管在长期使用后泥沙堆积其内而引起的排水不畅,甚至堵塞。技术研发人员:魏云波,武生彪,王洪祥,万军,尹正文,何成滔,林梦,刘若慨,余继慧受保护的技术使用者:中国电建集团昆明勘测设计研究院有限公司技术研发日:20231109技术公布日:2024/6/5本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240617/55716.html
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