层叠膜、光学层叠体以及图像显示装置的制作方法

本发明涉及层叠膜、光学层叠体以及图像显示装置。

背景技术：

1、在以有机电致发光(el)显示装置为代表的图像显示装置中，为了抑制由外部光的反射导致的可视性降低，已知使用圆偏振板等可提升防反射性能[例如，日本特开2020－134934号公报(专利文献1)]。圆偏振板为包含直线偏振板和相位差层的光学层叠体。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2020－134934号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、圆偏振板通常配置于有机el显示元件等图像显示元件的观察侧。通过以这种方式配置圆偏振板，能够抑制入射至图像显示元件的外部光通过该元件具有的内部电极等进行反射而出射至外部的内部反射光。在像圆偏振板这样的配置于图像显示元件观察侧的光学构件中，需要能够一边维持低反射率，一边根据需求对反射色调进行调整。

3、本发明的目的在于，提供一种通过配置于圆偏振板的观察侧而与圆偏振板一同构成光学层叠体的层叠膜，且该层叠膜能够一边维持该光学层叠体的低反射率，一边调整该光学层叠体的反射色调。本发明的其他目的在于，提供包含该层叠膜和圆偏振板的光学层叠体，以及包含该光学层叠体的图像显示装置。

4、用于解决课题的手段

5、本发明提供了以下的层叠膜、光学层叠体以及图像显示装置。

6、[1]一种层叠膜，其包含基材膜和层叠于其上的光学功能层(a)，

7、上述层叠膜的视感反射率y为9.0％以下，反射色调a*为0.3以上且7.0以下，反射色调b*为－10.0以上且0以下。

8、[2]根据[1]所述的层叠膜，其中，上述光学功能层(a)的折射率为1.55以上且1.68以下。

9、[3]根据[1]或[2]所述的层叠膜，其中，上述光学功能层(a)的折射率与上述基材膜的折射率之差为0.05以上且0.20以下。

10、[4]根据[1]～[3]中任一项所述的层叠膜，其中，上述光学功能层(a)的光学膜厚为150nm以上且200nm以下。

11、[5]根据[1]～[4]中任一项所述的层叠膜，其中，上述光学功能层(a)包含氧化锆粒子，

12、上在述氧化锆粒子的一次粒径分布中，粒径为0.1nm以上且15nm的范围占90％以上。

13、[6]根据[1]～[5]中任一项所述的层叠膜，其中，上述基材膜为环状聚烯烃系树脂膜、纤维素酯系树脂膜、聚酯系树脂膜或(甲基)丙烯酸系树脂膜。

14、[7]根据[1]～[6]中任一项所述的层叠膜，其进一步包含配置于上述光学功能层(a)的与上述基材膜相反一侧的树脂层。

15、[8]根据[1]～[7]中任一项所述的层叠膜，其中，上述基材膜与上述光学功能层(a)之间具有选自底漆层和硬涂层的夹层。

16、[9]根据[8]所述的层叠膜，其中，上述夹层包含紫外线吸收剂。

17、[10]一种光学层叠体，其包含[1]～[9]中任一项所述的层叠膜以及圆偏振板。

18、[11]一种图像显示装置，其包含[10]所述的光学层叠体。

19、发明效果

20、能够提供一种通过配置于圆偏振板的观察侧而与圆偏振板一同构成光学层叠体的层叠膜，且该层叠膜能够一边维持该光学层叠体的低反射率，一边调整该光学层叠体的反射色调，并提供了包含该层叠膜和圆偏振板的光学层叠体，以及包含该光学层叠体的图像显示装置。

技术特征：

1.一种层叠膜，其包含基材膜和层叠于其上的光学功能层a，

2.根据权利要求1所述的层叠膜，其中，所述光学功能层a的折射率为1.55以上且1.68以下。

3.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，所述光学功能层a的折射率与所述基材膜的折射率之差为0.05以上且0.20以下。

4.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，所述光学功能层a的光学膜厚为150nm以上且200nm以下。

5.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，所述光学功能层a包含氧化锆粒子，

6.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，所述基材膜为环状聚烯烃系树脂膜、纤维素酯系树脂膜、聚酯系树脂膜或(甲基)丙烯酸系树脂膜。

7.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其进一步包含配置于所述光学功能层a的与所述基材膜相反一侧的树脂层。

8.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，在所述基材膜与所述光学功能层a之间具有选自底漆层和硬涂层的夹层。

9.根据权利要求8所述的层叠膜，其中，所述夹层包含紫外线吸收剂。

10.一种光学层叠体，其包含权利要求1或2所述的层叠膜以及圆偏振板。

11.一种图像显示装置，其包含权利要求10所述的光学层叠体。

技术总结本发明提供了一种层叠膜、包含该层叠膜和圆偏振板的光学层叠体以及包含该光学层叠体的图像显示装置，上述层叠膜包含基材膜和层叠于该基材膜上的光学功能层(A)，上述层叠膜的视感反射率Y为9.0％以下，反射色调a*为0.3以上且7.0以下，反射色调b*为－10.0以上且0以下。技术研发人员：祖父江彰二,白石贵志受保护的技术使用者：住友化学株式会社技术研发日：技术公布日：2024/5/16