光刻图形矫正方法、装置和设备与流程

本技术实施例涉及半导体，尤其涉及一种光刻图形矫正方法、装置和设备。

背景技术：

1、随着集成电路设计和制造技术的不断进步，特征尺寸已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波波长，因此光刻过程中，由于光的衍射和干涉现象，实际晶圆上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差，这种误差直接影响电路性能和生产成品率。

2、光学邻近效应矫正方法(opc)通过改变掩膜版上图形的形状来弥补光刻工艺中产生的光刻图形的变形，使得晶圆上得到的图形和预期的图形基本符合，是消除这种误差的一种有效方法，其中，最有效果的是基于模型的opc矫正方法。

3、但是，基于模型的opc矫正方法中，利用矫正模型得到的最终光刻图形的矫正结果并不精确，矫正效果不理想。

4、因此，如何提高矫正模型矫正光刻图形的精准度，就成为亟需解决的技术问题。

技术实现思路

1、本技术实施例解决的技术问题是如何提高矫正模型矫正光刻图形的精准度。

2、为解决上述问题，本技术实施例提供一种光刻图形矫正方法，包括：

3、获取目标基准图像信息和测试图像信息，所述目标基准图像信息用于指示掩膜版的目标层上，基准光刻图像的测量图形以及对应的坐标，所述测试图像信息为基于所述掩膜版得到的测试光刻图形的测试图像信息，所述测试图像信息中的测试光刻图形的坐标与所述测量图形的坐标具有映射关系；

4、基于所述目标基准图像信息和所述测试图像信息，得到对应所述测试光刻图形的轮廓信息，所述轮廓信息包括所述测试光刻图形的二维特征信息；

5、根据所述测试光刻图形的轮廓信息构建矫正模型，利用所述矫正模型对掩膜版上的待矫正光刻图形进行矫正。

6、可选地，所述基于所述目标基准图像信息和所述测试图像信息，得到对应所述测试光刻图形的轮廓信息，包括：

7、根据所述测试图像信息的灰度值，提取所述测试图像信息中所述测试光刻图形的轮廓，得到对应所述测试光刻图形的第一测试轮廓信息，所述第一测试轮廓信息包括所述测试光刻图形的二维特征信息；

8、将所述第一测试轮廓信息与对应坐标处的所述测量图形的边缘重叠，得到第一对齐轮廓信息，得到所述对应所述测试光刻图形的轮廓信息。

9、可选地，所述将所述第一测试轮廓信息与对应坐标处的所述目标基准图像信息的图形边缘重叠，得到第一对齐轮廓信息，包括：

10、根据所述测试光刻图形的坐标，确定所述目标基准图像信息中，包含对应坐标处的测量图形的剪辑视图，得到目标剪辑视图；

11、将所述第一测试轮廓信息与所述目标剪辑视图中，对应坐标处的测量图形的边缘重叠，得到所述第一对齐轮廓信息。

12、可选地，所述根据所述测试光刻图形的坐标，确定所述目标基准图像信息中，包含对应坐标处的测量图形的剪辑视图，得到目标剪辑视图，包括：

13、获取所述测试光刻图形的坐标；

14、以所述测试光刻图形的坐标为中心，按照预定尺寸对所述目标基准图像信息进行剪辑，得到包含有对应坐标处的测量图形的视图，得到所述目标剪辑视图。

15、可选地，所述将所述第一测试轮廓信息与所述目标剪辑视图中，对应坐标处的测量图形的边缘重叠，得到所述第一对齐轮廓信息，包括：

16、确定所述目标剪辑视图的预定移动坐标范围；

17、在所述预定移动坐标范围内，移动所述第一测试轮廓信息，确定所述第一测试轮廓信息与所述目标剪辑视图中，对应坐标处的侧量图形的重叠率；

18、当所述重叠率达到预设重叠值时，得到所述第一测试轮廓信息。

19、可选地，所述得到第一对齐轮廓信息的步骤之后，得到所述对应所述测试光刻图形的轮廓信息的步骤之前，还包括：

20、获取包含所述第一对齐轮廓信息的测试图像信息；

21、根据所述测试图像信息的强度信号，提取所述测试光刻图形的目标轮廓强度信号，得到第二测试轮廓信息；

22、将所述第二测试轮廓信息与对应坐标处的所述测量图形的边缘拟合，得到第二对齐轮廓信息。

23、可选地，所述根据所述测试图像信息的强度信号，提取对应所述测试光刻图形的目标轮廓强度信号，得到第二测试轮廓信息，包括：

24、获取包含有所述第一测试轮廓信息的测试图像信息，确定所述测试图像信息的强度信号；

25、确定所述强度信号中满足目标轮廓强度信号阈值的强度信号，得到目标轮廓强度信号；

26、提取所述目标轮廓强度信号对应的轮廓坐标，得到对应的所述第二测试轮廓信息。

27、可选地，所述将所述第二测试轮廓信息与对应坐标处的所述测量图形的边缘拟合，得到第二对齐轮廓信息，包括：

28、根据所述第二测试轮廓信息的坐标，确定所述目标基准图像信息的目标剪辑视图中，对应坐标处的测量图形，得到目标测量图形；

29、获取所述第二测试轮廓信息的各个轮廓坐标和所述目标测量图形的各个目标轮廓坐标；

30、在第一方向上，确定所述轮廓坐标和所述目标轮廓坐标的第一边缘平均误差；

31、在第二方向上，确定所述轮廓坐标和所述目标轮廓坐标的第二边缘平均误差，所述第二方向与所述第一方向相互垂直；

32、根据各所述第一边缘平均误差获得第一移动均值，根据各所述第二边缘平均误差获得第二移动均值；

33、根据所述第一移动均值，在所述第一方向上移动所述第二测试轮廓信息，根据所述第二移动均值，在所述第二方向上移动所述第二测试轮廓信息，以使所述第二测试轮廓信息与所述目标测量图形的边缘拟合，得到所述第二对齐轮廓信息。

34、可选地，所述目标基准图像信息包括有各个测量图形的特征尺寸信息，所述得到第二对齐轮廓信息的步骤之后，还包括：

35、对所述第二对齐轮廓信息的特征尺寸进行测量，得到轮廓特征尺寸信息；

36、利用所述第二对齐轮廓信息的坐标，确定对应坐标位置处，所述测量图形的特征尺寸信息；

37、利用所述轮廓特征尺寸信息和所述特征尺寸信息，完成对所述第二对齐轮廓信息的匹配。

38、可选地，所述利用所述轮廓特征尺寸信息和所述特征尺寸信息，完成对所述第二对齐轮廓信息的匹配，包括：

39、确定所述轮廓特征尺寸信息和所述特征尺寸信息的各个特征误差，得到特征尺寸信息误差均值；

40、当所述特征尺寸信息误差均值大于预定特征尺寸信息误差值时，调整所述轮廓特征尺寸信息，直至所述特征尺寸信息误差均值满足预定特征尺寸信息误差值，完成对所述第二对齐轮廓信息的匹配。

41、可选地，所述调整所述轮廓特征尺寸信息，包括：

42、以所述特征尺寸信息误差均值的一半，减小所述轮廓特征尺寸信息。

43、可选地，所述得到第二对齐轮廓信息的步骤之后，还包括：

44、确定所述第二对齐轮廓信息对应的测试图像信息中各个其他第二对齐轮廓信息；

45、获取所述第二对齐轮廓信息和各个所述其他第二对齐轮廓信息之间的距离，以及所述第二对齐轮廓信息与目标基准图像信息中，对应坐标处的测量图形的边缘之间的距离，得到距离向量；

46、利用所述距离向量判断所述第二对齐轮廓信息的可信度，得到可信轮廓，对所述可信轮廓进行轮廓平均，得到所述轮廓信息。

47、可选地，所述基于所述目标基准图像信息和所述测试图像信息，得到对应所述测试光刻图形的轮廓信息的步骤之前，还包括：

48、获取坐标关系，所述坐标关系为所述测试图像信息中测量光刻图形的坐标与所述测量图形的坐标建立的映射关系。

49、可选地，所述基于所述目标基准图像信息和所述测试图像信息，得到对应所述测试光刻图形的轮廓信息的步骤之后，还包括：

50、对所述轮廓信息进行剪辑，得到目标轮廓剪辑信息，所述目标轮廓剪辑信息包含用于有效矫正所述待矫正光刻图形的独立轮廓信息。

51、可选地，所述对所述轮廓信息进行剪辑，得到目标轮廓剪辑信息的步骤之后，还包括：

52、对所述目标轮廓剪辑信息进行对应的权重配置，得到目标剪辑轮廓权重信息，所述目标剪辑轮廓权重信息用于表示各个所述目标轮廓剪辑信息的矫正效果。

53、可选地，所述根据所述测试光刻图形的轮廓信息构建矫正模型，包括：

54、根据所述测试光刻图形的轮廓信息、所述目标轮廓剪辑信息、所述目标剪辑轮廓权重信息以及所述目标层上的目标基准图像信息构建所述矫正模型。

55、可选地，所述测试图像信息包括带有特征尺寸信息的特征测试图像信息，所述根据所述测试光刻图形的轮廓信息、所述目标轮廓剪辑信息、所述目标剪辑轮廓权重信息以及所述目标层上的目标基准图像信息构建所述矫正模型的步骤之后，还包括：

56、利用所述特征测试图像信息对所述矫正模型进行验证，当达到矫正预期值时，得到构建好的所述矫正模型；

57、所述利用所述矫正模型对掩膜版上的待矫正光刻图形进行矫正，包括：

58、利用构建好的所述矫正模型对掩膜版上的待矫正光刻图形进行矫正。

59、可选地，所述获取目标基准图像信息和测试图像信息，包括：

60、确定所述掩膜版的目标层；

61、对所述目标层上，对应坐标处的所述基准光刻图像进行测量扫描，得到所述目标层上的测量图形，得到所述目标基准图像信息；

62、对所述掩膜版上，包含有所述测试光刻图形的不同区域进行测量扫描，得到所述测试图像信息，所述测试图像信息中的测试光刻图形的坐标与所述测量图形的坐标对应。

63、可选地，所述对所述掩膜版上，包含有所述测试光刻图形的不同区域进行测量扫描，得到所述测试图像信息，包括：

64、将不合符图像信息提取要求的所述测试图像信息进行过滤，得到过滤测试图像信息，得到所述测试图像信息。

65、本技术实施例还提供一种光刻图形矫正装置，包括：

66、图像信息获取模块，适于获取目标基准图像信息和测试图像信息，所述目标基准图像信息用于指示掩膜版的目标层上，基准光刻图像的测量图形以及对应的坐标，所述测试图像信息为基于所述掩膜版得到的测试光刻图形的测试图像信息，所述测试图像信息中的测试光刻图形的坐标与所述测量图形的坐标具有映射关系；

67、轮廓信息获取模块，基于所述目标基准图像信息和所述测试图像信息，得到对应所述测试光刻图形的轮廓信息，所述轮廓信息包括所述测试光刻图形的二维特征信息；

68、矫正模块，适于根据所述测试光刻图形的轮廓信息构建矫正模型，利用所述矫正模型对掩膜版上的待矫正光刻图形进行矫正。

69、本技术实施例还提供一种光刻图形矫正设备，包括如前述实施例所述的光刻图形矫正装置。

70、与现有技术相比，本技术实施例的技术方案具有以下优点：

71、在本技术实施例提供的一种光刻图形矫正方法，包括：获取目标基准图像信息和测试图像信息，所述目标基准图像信息用于指示掩膜版的目标层上，基准光刻图形的测量图形以及对应的坐标，所述测试图像信息为基于所述掩膜版得到的测试光刻图形的测试图像信息，所述测试图像信息中的测试光刻图形的坐标与所述测量图形的坐标具有映射关系；基于所述目标基准图像信息和所述测试图像信息，得到对应所述测试光刻图形的轮廓信息，所述轮廓信息包括所述测试光刻图形的二维特征信息；根据所述测试光刻图形的轮廓信息构建矫正模型，利用所述矫正模型对掩膜版上的待矫正光刻图形进行矫正。

72、可以看出，本技术实施例所提供的光刻图形矫正方法，通过利用目标基准图像信息和测试图像信息，得到包含有对应测试光刻图形的二维特征信息的轮廓信息，二维特征信息可以增强获取到的测试光刻图形的轮廓完整性和可靠性，从而保证基于轮廓信息构建的矫正模型的矫正效果，提高矫正模型的轮廓矫正精准度和准确度，实现提高opc模型矫正光刻图形的精准度。