遮光膜及其制作方法

本公开涉及x射线探测，尤其涉及一种遮光膜及其制作方法。

背景技术：

1、起源于天体上的高能物理过程的x射线，与极端物理条件如高温、高密度、强引力场、强磁场等有关，因此空间探测x射线是研究黑洞、中子星等天体性质的主要手段；x射线望远镜是用于观测太空中辐射x射线天体的仪器，对未来的x射线天文学至关重要；空间x射线望远镜在探测过程中会受到紫外、可见以及红外光等杂散光的辐照，影响探测器的精度和性能，为了保障探测器的正常工作，需要增加一层能透过x射线，同时阻挡杂散光的遮光膜。

2、目前国内用于探测x射线遮光膜多为聚酰亚胺膜镀铝膜，传统工艺是在自支撑聚酰亚胺薄膜上通过磁控溅射镀铝，这种方法制备的铝膜晶粒较大，致密性差导致厚度不均匀，使遮光膜的光学性能差。

3、需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、本公开提供一种遮光膜及其制作方法，至少在一定程度上克服相关技术中遮光膜致密性差的问题。

2、本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

3、根据本公开的一个方面，提供一种遮光膜，包括：镁膜，具有相对的第一表面及第二表面；支撑聚酰亚胺膜，设置于所述镁膜的第一表面；铝膜，设置于所述镁膜的第二表面。

4、在本公开的一个实施例中，所述镁膜的厚度为5-20纳米。

5、在本公开的一个实施例中，所述铝膜的厚度为60-75纳米。

6、在本公开的一个实施例中，所述镁膜和所述铝膜的总厚度为80纳米。

7、在本公开的一个实施例中，所述自支撑聚酰亚胺薄膜为400纳米。

8、根据本公开的一个方面，提供一种遮光膜的制作方法，包括：利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜；在所述自支撑聚酰亚胺薄膜上镀镁膜；在所述镁膜上镀铝膜。

9、在本公开的一个实施例中，还包括：将对苯二胺及二甲基乙酰胺磁力搅拌至完全溶解；加入联苯四甲酸二酐，得到聚酰胺酸溶液；将稀释后的聚酰胺酸溶液在基底表面旋涂得到所述聚酰胺酸膜；将所述聚酰胺酸膜高温环化得到所述聚酰亚胺薄膜。

10、在本公开的一个实施例中，所述利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜包括：将所述聚酰胺酸膜涂覆光刻胶并烘烤得到光刻胶薄膜；去除所述光刻胶薄膜中的溶剂并曝光所述光刻胶薄膜；利用显影液浸泡曝光后的光刻胶薄膜得到与所述镍框图案互补的第一光刻胶层；在所述第一光刻胶层及暴露的聚酰亚胺膜表面形成导电种子层；去除所述第一光刻胶层及所述第一光刻胶层表面的导电种子层，形成图案与所述镍框一致的导电种子层。

11、在本公开的一个实施例中，所述利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜包括：光刻胶旋涂于所述聚酰亚胺薄膜及所述导电种子层表面形成第二光刻胶层；烘烤去除所述光刻胶中的溶剂，得到第二光刻胶层；基于套刻技术，使掩膜版图案与导电种子层图案精确对齐，曝光并通过显影液浸泡显影后将所述导电种子层上方的所述第二光刻胶层去除，使导电种子层暴露出来进行微电铸，得到镍框。

12、在本公开的一个实施例中，所述利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜包括：将有所述基底的并带有镍框的酰亚胺薄膜置于去离子水中浸泡；沿镍框边缘将带有镍框的酰亚胺薄膜揭下，得到所述自支撑聚酰亚胺膜。

13、在本公开的一个实施例中，所述微电铸中的镍电镀液包括：氨基磺酸镍、氯化镍、硼酸。

14、本公开的实施例所提供的遮光膜及其制作方法，遮光膜包括：镁膜，具有相对的第一表面及第二表面；自支撑聚酰亚胺膜，设置于镁膜的第一表面；铝膜，设置于镁膜的第二表面，镁膜作为过渡层改善了铝膜直接沉积在聚酰亚胺膜上的岛状结构，增强了铝膜的致密性，提高了遮光膜的光学性能。

15、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

技术特征：

1.一种遮光膜，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的遮光膜，其特征在于，所述镁膜的厚度为5-20纳米。

3.根据权利要求1所述的遮光膜，其特征在于，所述铝膜的厚度为60-75纳米。

4.根据权利要求1所述的遮光膜，其特征在于，所述镁膜和所述铝膜的总厚度为80纳米。

5.根据权利要求1所述的遮光膜，其特征在于，所述自支撑聚酰亚胺薄膜为400纳米。

6.一种遮光膜的制作方法，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的遮光膜的制作方法，其特征在于，还包括：

8.根据权利要求7所述的遮光膜的制作方法，其特征在于，所述利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜包括：

9.根据权利要求8所述的遮光膜的制作方法，其特征在于，所述利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜包括：

10.根据权利要求9所述的遮光膜的制作方法，其特征在于，所述利用微电铸方法在聚酰亚胺薄膜上制备镍框得到自支撑聚酰亚胺膜包括：

技术总结本公开提供了一种遮光膜及其制作方法，涉及X射线探测技术领域。遮光膜包括：镁膜，具有相对的第一表面及第二表面；自支撑聚酰亚胺膜，设置于镁膜的第一表面；铝膜，设置于镁膜的第二表面。本公开实施例中镁膜作为过渡层改善了铝膜直接沉积在聚酰亚胺膜上的岛状结构，增强了铝膜的致密性，提高了遮光膜的光学性能。技术研发人员：高娜,陈田祥,曹杰葳,徐玉朋,何会林受保护的技术使用者：中国科学院高能物理研究所技术研发日：技术公布日：2024/5/27