用于光掩模表面处理的系统、方法和程序产品与流程

本发明总体上涉及光掩模的制造，尤其涉及在平板显示器(fpd)和集成电路(ic)光刻中使用的光掩模的制造。

背景技术：

1、光掩模通常由具有不透明光阻挡区域的光学透明基板(substrate)组成，该不透明光阻挡区域选择性地组合来阻挡或通过光波长以形成光刻投影系统要成像的关注的电路图案。这些光掩模通常用在集成电路(ic)和平板显示器(fpd)制造的光刻和生产中，特别是通过在基板(例如ic制造情况下的硅晶片或fpd制造情况下的玻璃面板)上产生图案。光掩模的光学透明基板通常是高度抛光的熔融硅板，在其上沉积例如铬金属吸收膜，并随后在掩模制造过程中图案化。沉积在基板上用于图案化的其他膜可以包括用于相移应用的crox、cron和mosi或sin。光掩模的典型工作波长包括但不限于436nm、365nm、248nm和193nm。光掩模对ic和fpd制造的能力和生产力做出了巨大贡献。

2、光掩模是制造过程中高度敏感的部件，因为光掩模的图像出现在ic或fpd图案转移过程中的每个曝光场中。因此，在光刻过程中，光掩模上的单个缺陷会破坏大量的ic和fpd器件。缺陷可能以各种方式(例如在掩模的图案化期间、嵌入在沉积到掩模上的膜中、以及来自添加剂污染和/或嵌入在基板材料中的缺陷)出现。存在于光掩模的透明基板材料内的埋藏的缺陷通常被称为“夹杂物”。这些夹杂物可能在基板制造过程中由熔凝硅材料本身中的气泡或杂质等产生。夹杂物可以存在于基板内的任何地方，并且因为它们一旦形成就嵌入在坚硬的熔融硅材料中，因此极难修复。为此，基板制造商花费大量时间和金钱来生产基本上没有夹杂物的基板。

3、不断需要改进技术以最小化光掩模基板中的缺陷。

技术实现思路

1、本发明的一个目的是最小化存在于光掩模的透明基板材料内的埋藏的缺陷(夹杂物)的影响。

2、本发明的另一个目的是提供一种处理基板的方法，以将平版成像中夹杂物的影响最小化到可接受的水平，从而对基板制造时间、成本和可用性限制产生积极效果。在实施例中，进行表面处理以降低夹杂物对成像的影响，从而实现低得多的成本和更广泛可用的基板材料。

3、根据本发明的示例性实施例，制造光掩模的方法包括：(a)提供光掩模基座(blank)；(b)检查光掩模基座以确定光掩模基座中一个或更多个缺陷的存在，其中，一个或更多个缺陷包括一个或更多个光掩模基板(substrate)缺陷；以及(c)通过将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化来补偿一个或更多个光掩模基板缺陷。

4、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过打磨或抛光中的至少一种将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

5、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过氧化工艺将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

6、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过薄膜涂覆工艺将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

7、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过颗粒涂覆工艺将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

8、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过使用酸性蚀刻剂进行湿法蚀刻来将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

9、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过电离将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

10、在示例性实施例中，补偿步骤包括通过溅射将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

11、在示例性实施例中，光掩模是在制造平板显示器(fpd)的光刻工艺中使用的大尺寸光掩模。

12、在示例性实施例中，制造平板显示器的方法包括在光刻工艺中将来自光能源的光透过大尺寸光掩模照射到玻璃板基板上，使至少一个电路图案从大尺寸光掩模转移到玻璃板基板上，其中，大尺寸光掩模的制造工艺包括：a)提供光掩模基座；(b)检查光掩模基座以确定光掩模基座中一个或更多个缺陷的存在，其中，一个或更多个缺陷包括一个或更多个光掩模基板缺陷；以及(c)通过将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化来补偿一个或更多个光掩模基板缺陷。

13、在示例性实施例中，平板显示器是液晶显示器、有源矩阵液晶显示器、有机发光二极管、发光二极管、等离子体显示面板或有源矩阵有机发光二极管。

14、本发明的这些及其他特征和优点将在以下详细说明和附图中详细介绍，附图以示例方式说明了本发明的原理。

技术特征：

1.一种制造光掩模的方法，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过打磨或抛光中的至少一种将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过氧化工艺将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过薄膜涂覆工艺将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过颗粒涂覆工艺将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过使用酸性蚀刻剂进行湿法蚀刻将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过电离将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，补偿步骤包括通过溅射将所述玻璃基板的一个或更多个表面部分粗糙化。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光掩模是在制造平板显示器(fpd)的光刻工艺中使用的大尺寸光掩模。

10.根据权利要求1所述的方法，还包括加工所述光掩模基座的步骤。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，加工步骤包括蚀刻所述光掩模基座或曝光所述光掩模基座于电子束或激光能量中的至少一种。

12.一种制造平板显示器的方法，包括在光刻工艺中将来自光能源的光通过根据权利要求10的方法制造的大尺寸光掩模照射到玻璃板基板上，使得至少一个电路图案从所述大尺寸光掩模转移到所述玻璃板基板上。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述平板显示器是液晶显示器、有源矩阵液晶显示器、有机发光二极管、发光二极管、等离子体显示面板或有源矩阵有机发光二极管。

技术总结一种制造光掩模的方法，包括以下步骤：提供光掩模基座(blank)；检查光掩模基座以确定光掩模基座中一个或更多个缺陷的存在，其中一个或更多个缺陷包括一个或更多个光掩模基板(substrate)缺陷；以及通过将光掩模基板的一个或更多个表面部分粗糙化来补偿一个或更多个光掩模基板缺陷。技术研发人员：克里斯托弗·普罗格勒,杨·莫格·汉姆受保护的技术使用者：美商福昌公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29