一种真空镀膜设备的加热器及镀膜设备的制作方法

本申请属于真空镀膜，涉及镀膜加热器，具体涉及一种真空镀膜设备的加热器及镀膜设备。

背景技术：

1、在硅片真空镀膜的过程中需要对硅片进行加热，使硅片处于预设的温度范围内，以此实现真空镀膜的顺利、有效实施。

2、现有的镀膜设备中的加热器，其加热板表面要么无氧化层要么整面阳极氧化，使得加热板整体的热辐射率是一致的。这种加热器在真空镀膜加热时，对硅片各位置辐射的热量是大致相同的。但大尺寸镀膜基板四周硅片相比于中间区域硅片散热速率是更快的，在辐射热量基本相同的情况下，这一散热速率的差异性会导致同一基板上硅片温度存在较大差异，从而在一定程度上不能满足大面积整版镀膜工艺的需求。

技术实现思路

1、本申请旨在至少在一定程度上解决上述相关技术中的技术问题之一。

2、为此，本申请的目的在于提供一种真空镀膜设备的加热器及镀膜设备，能够对大尺寸镀膜基板各位置进行差异性加热，有效缩小同一基板上硅片之间存在的温差，提高镀膜均匀性。

3、为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

4、本申请实施例提供了一种真空镀膜设备的加热器，包括加热板，其特征在于，所述加热板包括四周区域和中间区域；

5、所述四周区域的表面设置有用于调控加热板四周区域热辐射率的第一图案化层，所述中间区域的表面设置有用于调控加热板中间区域热辐射率的第二图案化层；

6、所述第一图案化层在所述四周区域的表面的覆盖率大于所述第二图案化层在所述中间区域的表面的覆盖率。

7、另外，根据本申请的真空镀膜设备的加热器，还可以具有如下附加的技术特征：

8、在其中的一些实施方式中，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层的形状为圆形或者多边形，或者其组合。

9、在其中的一些实施方式中，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层的厚度均为1～500um。

10、在其中的一些实施方式中，所述中间区域的面积占所述加热板表面积的50％～80％。

11、在其中的一些实施方式中，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层为氧化层、喷涂层或者镀膜层。

12、在其中的一些实施方式中，所述第一图案化层和/或第二图案化层由边缘到中心的覆盖率递减。

13、在其中的一些实施方式中，所述第一图案化层完全覆盖所述四周区域的表面。

14、此外，本申请另一实施例提供了一种真空镀膜设备的加热器，包括加热板，其特征在于，所述加热板包括四周区域和中间区域；

15、所述四周区域的表面设置有用于调控加热板四周区域热辐射率的第一图案化层，所述中间区域的表面设置有用于调控加热板中间区域热辐射率的第二图案化层；

16、所述第一图案化层完全覆盖所述四周区域的表面，所述第二图案化层完全覆盖所述中间区域的表面；

17、所述第一图案化层和所述第二图案化层材料不同，使得所述加热板的四周区域的热辐射率大于所述加热板中间区域的热辐射率。

18、在其中的一些实施方式中，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层为氧化层、喷涂层或者镀膜层。

19、在其中的一些实施方式中，所述四周区域的热辐射率在0.3～0.99范围内；所述中间区域的热辐射率在0.01～0.5范围内；

20、同一加热板的四周区域的热辐射率大于其中间区域的热辐射率。

21、此外，本申请另一实施例提供了一种真空镀膜设备的加热器，包括加热板，其特征在于，所述加热板包括四周区域和中间区域；

22、所述四周区域和中间区域的表面设置有不同的粗糙度，所述加热板的四周区域的粗糙度大于所述加热板中间区域的粗糙度，使得所述加热板的四周区域的热辐射率大于所述加热板中间区域的热辐射率。

23、在其中的一些实施方式中，所述四周区域的热辐射率在0.3～0.99范围内；所述中间区域的热辐射率在0.01～0.5范围内；

24、同一加热板的四周区域的热辐射率大于其中间区域的热辐射率。

25、本申请实施例还提供了一种真空镀膜设备，其包括如前所述的真空镀膜设备的加热器。

26、与现有技术相比，本实用新型的至少具有以下有益效果：

27、本申请实施例中，所提供的真空镀膜设备的加热器针对热板四周对应硅片温度较低区域全覆盖设置氧化层等热辐射调节层，中间对应硅片温度较高区域局部覆盖设置氧化层等热辐射调节层，利用氧化面和非氧化面热辐射不同的原理，减小硅片之间的温差，能够很好的解决现有技术中不同位置硅片温度差异性大导致的镀膜不均匀的问题。

28、本申请的真空镀膜设备包括所述的真空镀膜设备的加热器，因而至少具有所述的加热器的所有特征及优势，在此不再赘述。本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

技术特征：

1.一种真空镀膜设备的加热器，包括加热板，其特征在于，所述加热板包括四周区域和中间区域；

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层的形状为圆形或者多边形，或者其组合。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层的厚度均为1～5000μm。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述中间区域的面积占所述加热板表面积的50％～80％。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层为氧化层、喷涂层或者镀膜层。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述第一图案化层和/或第二图案化层由边缘到中心的覆盖率递减。

7.根据权利要求1所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述第一图案化层完全覆盖所述四周区域的表面。

8.一种真空镀膜设备的加热器，包括加热板，其特征在于，所述加热板包括四周区域和中间区域；

9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述第一图案化层和/或所述第二图案化层为氧化层、喷涂层或者镀膜层。

10.根据权利要求8-9任一项所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述四周区域的热辐射率在0.3～0.99范围内；所述中间区域的热辐射率在0.01～0.5范围内；

11.一种真空镀膜设备的加热器，包括加热板，其特征在于，所述加热板包括四周区域和中间区域；

12.根据权利要求11所述的真空镀膜设备的加热器，其特征在于，所述四周区域的热辐射率在0.3～0.99范围内；所述中间区域的热辐射率在0.01～0.5范围内；

13.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1至12中任意一项所述的真空镀膜设备的加热器。

技术总结本申请公开了一种真空镀膜设备的加热器及镀膜设备，属于真空镀膜领域。一种真空镀膜设备的加热器，该加热器包括加热板，所述加热板包括四周区域和中间区域；所述四周区域的表面全覆盖式设有用于改变加热板四周区域热辐射率的第一图案化层；所述中间区域的表面部分覆盖式用于改变加热板中间区域热辐射率的第二图案化层；所述第一图案化层和所述第二图案化层为氧化层、喷涂层或者镀膜层。本申请可以对大尺寸镀膜基板各位置进行差异性加热，有效缩小同一基板上硅片之间存在的温差，提高镀膜均匀性。技术研发人员：孙健,沈宇亮,刘亚南,李鑫,刘欢,粟子缘受保护的技术使用者：苏州迈为科技股份有限公司技术研发日：20231109技术公布日：2024/6/5