一种抛釉磨块的制作方法

本技术涉及瓷砖抛光，尤其涉及一种抛釉磨块。

背景技术：

1、抛釉磨块广泛用于普通抛光机上，适用于各种釉面砖、抛晶砖、仿古砖等全抛、半抛的加工。在现有技术中，抛釉磨块的弹性层的顶面为平面结构或凸弧结构，底面为平面结构，其可变形程度较小，在对釉面砖进行抛光时，抛釉磨块就会有因中心与两侧抛光的次数不同而呈现中间过度抛光，两侧的地方有漏抛的现象出现，这导致了砖面的光度落差大且不平均，难以实现全方位抛光。而且现有的抛釉磨块的磨头工作面一般设计成大小相同的粒状或块状，这能够在一定程度上沿着砖面的形状进行抛光，但不会很明显地修正砖面的平整度。为此，有必要设计出一种新的抛釉磨块以解决上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种抛釉磨块，旨在解决现有技术中抛光后的砖面不够平整和难以全方位抛光的问题。

2、为了达到上述的目的，本实用新型提供了一种抛釉磨块，包括从下往上依次层叠的夹持头、弹性层和磨削组件；弹性层包括弹性体和基座，弹性体的顶面和底面均为凸弧结构；基座的顶面为凹弧结构并与弹性体的底面适配，弹性体的底面与基座的顶面连接，基座的底面为平面结构；磨削组件包括分别独自连接在弹性体的顶面的第一磨削组、第二磨削组和第三磨削组；第一磨削组包括两组，两组第一磨削组分别位于磨削组件的前端和后端；在两组第一磨削组之间从前往后排列有四组第二磨削组；第三磨削组包括三组，在相邻的第二磨削组之间各设置有一组第三磨削组；第二磨削组的顶面面积大于第三磨削组的顶面面积，第三磨削组的顶面面积大于第一磨削组的顶面面积。

3、进一步地，磨削组件为前后对称结构；磨削组件由位于前端的前小后大的等腰梯形结构、位于后端的前大后小的等腰梯形结构和位于中部的矩形结构构成。

4、进一步地，第一磨削组设有一个第一磨块，第一磨块呈等腰三角形结构，位于磨削组件前端的第一磨块的朝向为正向，位于磨削组件后端的第一磨块的朝向为反向。

5、进一步地，第二磨削组设有左右并排并相互独立的两个第二磨块，两个第二磨块均呈正六角形结构，且第二磨块的其中一组对边平行于弹性体的两侧。

6、进一步地，第三磨削组从左往右依次设有相互独立的第三磨块、第四磨块和第三磨块，第三磨块呈等边三角形结构，第三磨块的其中一条边平行于弹性体的两侧；第四磨块呈等边菱形结构，第四磨块的两个钝角分别位于第四磨块的前端和后端，第四磨块的两个锐角分别位于第四磨块的左侧和右侧。

7、进一步地，第一磨块位于左右排布的两个第二磨块的中部并位于该两个第二磨块的前端或后端，第一磨块的腰边平行于第二磨块的斜边；第三磨块位于前后排布的两个第二磨块的中部并位于该两个第二磨块的左侧或右侧，第三磨块的边平行于第二磨块的斜边；第四磨块位于呈方形排布的四个第二磨块的中间，第四磨块的菱边平行于第二磨块的斜边。

8、进一步地，相邻的第二磨块之间设有竖向排屑槽，第一磨块与第二磨块之间、第二磨块与第三磨块之间、第二磨块与第四磨块之间均设有斜向排屑槽。

9、进一步地，第一磨块的顶部面积为s1，第二磨块的顶部面积为s2，第三磨块的顶部面积为s3，第四磨块的顶部面积为s4，且s2>s4>s1>s3。

10、进一步地，磨块均设有倒角结构。

11、本实用新型所提供的一种抛釉磨块，相比于现有技术，弹性体的顶面和底面均为凸弧结构，其具有缓冲作用且可变形程度更大，且各个磨削组相互独立，因此在工作时各磨削组的磨削面的高度可变形至不一致，特别是对于表面不平整的砖面，抛釉磨块整体变形后的形状更加贴合砖面形状，提高了抛釉磨块的仿形能力，实现全方位抛光。当遇到不平整的砖面时，在弹性体的作用下，较大的磨块能快速地将砖面凸起的地方磨平，具有较快的磨抛速度；较小的磨块能伸入砖面凹陷位进行抛光，避免漏抛的现象出现，提高抛光的效率；因此，在大磨块与小磨块的组合下该抛釉磨块能使砖面更加平整，抛光效果更好。

技术特征：

1.一种抛釉磨块，其特征在于：包括从下往上依次层叠的夹持头(1)、弹性层(2)和磨削组件(3)；

2.根据权利要求1所述的抛釉磨块，其特征在于：磨削组件(3)为前后对称结构；磨削组件(3)由位于前端的前小后大的等腰梯形结构、位于后端的前大后小的等腰梯形结构和位于中部的矩形结构构成。

3.根据权利要求1所述的抛釉磨块，其特征在于：第一磨削组(31)设有一个第一磨块(311)，第一磨块(311)呈等腰三角形结构，位于磨削组件(3)前端的第一磨块(311)的朝向为正向，位于磨削组件(3)后端的第一磨块(311)的朝向为反向。

4.根据权利要求3所述的抛釉磨块，其特征在于：第二磨削组(32)设有左右并排并相互独立的两个第二磨块(321)，两个第二磨块(321)均呈正六角形结构，且第二磨块(321)的其中一组对边平行于弹性体(21)的两侧。

5.根据权利要求4所述的抛釉磨块，其特征在于：第三磨削组(33)从左往右依次设有相互独立的第三磨块(331)、第四磨块(332)和第三磨块(331)，第三磨块(331)呈等边三角形结构，第三磨块(331)的其中一条边平行于弹性体(21)的两侧；第四磨块(332)呈等边菱形结构，第四磨块(332)的两个钝角分别位于第四磨块(332)的前端和后端，第四磨块(332)的两个锐角分别位于第四磨块(332)的左侧和右侧。

6.根据权利要求5所述的抛釉磨块，其特征在于：第一磨块(311)位于左右排布的两个第二磨块(321)的中部并位于该两个第二磨块(321)的前端或后端，第一磨块(311)的腰边平行于第二磨块(321)的斜边；第三磨块(331)位于前后排布的两个第二磨块(321)的中部并位于该两个第二磨块(321)的左侧或右侧，第三磨块(331)的边平行于第二磨块(321)的斜边；第四磨块(332)位于呈方形排布的四个第二磨块(321)的中间，第四磨块(332)的菱边平行于第二磨块(321)的斜边。

7.根据权利要求5所述的抛釉磨块，其特征在于：相邻的第二磨块(321)之间设有竖向排屑槽(4)，第一磨块(311)与第二磨块(321)之间、第二磨块(321)与第三磨块(331)之间、第二磨块(321)与第四磨块(332)之间均设有斜向排屑槽(5)。

8.根据权利要求5所述的抛釉磨块，其特征在于：第一磨块(311)的顶部面积为s1，第二磨块(321)的顶部面积为s2，第三磨块(331)的顶部面积为s3，第四磨块(332)的顶部面积为s4，且s2>s4>s1>s3。

9.根据权利要求3至8中任意一项所述的抛釉磨块，其特征在于：磨块均设有倒角结构(6)。

技术总结本技术涉及瓷砖抛光技术领域，尤其涉及一种抛釉磨块，包括从下往上依次层叠的夹持头、弹性层和磨削组件；弹性层包括弹性体和基座，弹性体的顶面和底面均为凸弧结构；基座的顶面为凹弧结构并与弹性体的底面适配，弹性体的底面与基座的顶面连接；磨削组件包括分别独自连接在弹性体的顶面的第一磨削组、第二磨削组和第三磨削组；第一磨削组包括两组，两组第一磨削组分别位于磨削组件的前端和后端；在两组第一磨削组之间从前往后排列有四组第二磨削组；第三磨削组包括三组，在相邻的第二磨削组之间各设置有一组第三磨削组。其能够解决现有技术中抛光后的砖面不够平整和难以全方位抛光的问题。技术研发人员：沈福林,沈君卿受保护的技术使用者：佛山市盛科新材料有限公司技术研发日：20230926技术公布日：2024/6/11