一种石墨舟及系统的制作方法

本技术涉及光伏，尤其涉及一种石墨舟及系统。

背景技术：

1、太阳能硅片的生产加工中有一道工序为等离子增强化学气相沉积(plasmaenhanced chemical vapor deposition，pecvd)镀膜，其作用是提高硅片的太阳能转化率。这个工序就需要通过石墨舟实现，通过将硅片设置在石墨舟内，通过等离子化学气相沉积，在硅片表面沉积一层深蓝色氮化硅膜。

2、管式pecvd的原理是通过脉冲射频激发受热的稀薄气体进行辉光放电形式等离子体，通过两片相对应的石墨片加相反的交变电压使等离子在极板间加速撞击气体，运动到硅片表面完成镀膜过程。为增加产量目前管式pecvd管径和长度逐次增加，为减少石墨片承重及改善舟内硅片均匀性，通常可以采用双舟模式。

3、图1示出了一种传统的双舟模式下双舟的结构示意图，如图1所示，双舟包括分开间隔设置的两舟片，单管双舟模式由于两舟分隔问题，在两舟中间会产生气流涡旋导致膜色不均匀的问题，导致硅片的镀膜均匀性较差，影响硅片制备的可靠性和稳定性。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种石墨舟及系统，以解决单管双舟模式由于两舟分隔问题，在两舟中间会产生气流涡旋导致膜色不均匀的问题，导致硅片的镀膜均匀性较差，影响硅片制备的可靠性和稳定性的问题。

2、第一方面，本实用新型提供一种石墨舟，所述石墨舟包括：

3、两个石墨舟叶，两个所述石墨舟叶分别设置有延长导流段，两个所述延长导流段对应的导流口按照预设间距相邻设置。

4、采用上述技术方案时，本实用新型实施例提供的石墨舟包括两个石墨舟叶，两个所述石墨舟叶分别设置有延长导流段，两个所述延长导流段对应的导流口按照预设间距相邻设置，通过增加延长导流段保证气流可以从一个延长导流段对应的导流口直接传输至另一个延长导流段对应的导流口，使得气流较为集中，气流走向一致，可以降低特气气流阻挡，并且两个延长导流段之间是按照预设间距交接设置，可以保证两个石墨舟叶之间是绝缘状态，避免石墨舟叶片间放电，避免在两舟中间产生气流涡旋，可以提高对硅片镀膜的均匀性问题，进一步的，提高硅片镀膜的可靠性和稳定性。

5、在一些实施方式中，基于两个所述石墨舟叶的间距和对应的硅片膜色均匀性确定所述预设间距。

6、在一些实施方式中，所述预设间距的取值范围为：大于或者等于10毫米，且小于或者等于15毫米。

7、在一些实施方式中，所述石墨舟叶还包括石墨舟本体和多个硅片放置区，所述石墨舟本体和所述延长导流段连接，多个所述硅片放置区设置在所述石墨舟本体内，通过设置延长导流段加长舟叶，可以保证交接位置电场均匀。

8、在一些实施方式中，所述石墨舟叶还包括绝缘陶瓷环，所述硅片放置区四周在所述石墨舟本体内部的上下两端均设置有所述绝缘陶瓷环。

9、在一些实施方式中，所述石墨舟叶还包括机械手承载部，所述机械手承载部的一端和所述延长导流段连接，所述机械手承载部的另一端和所述石墨舟本体连接，可以保证机械手自动装卸舟。

10、在一些实施方式中，所述绝缘陶瓷环为开槽形式的圆柱结构，可以减少因膜层堆积导致的绝缘降低，增加石墨舟使用周期寿命，减少镀膜导致的短路。

11、在一些实施方式中，所述机械手承载部为u形结构。

12、在一些实施方式中，所述预设间距包括10毫米。

13、在一些实施方式中，每个所述石墨舟叶内部设置的多个所述硅片放置区均等间距设置。

14、第二方面，本实用新型提供一种石墨舟系统，包括第一方面所述的石墨舟和硅片，所述石墨舟用于对所述硅片进行镀膜。

15、第二方面提供的石墨舟系统的有益效果，可以参考第一方面或第一方面任一实现方式所描述的石墨舟的有益效果，在此不再赘言。

技术特征：

1.一种石墨舟，其特征在于，所述石墨舟包括：

2.根据权利要求1所述的石墨舟，其特征在于，基于两个所述石墨舟叶的间距和对应的硅片膜色均匀性确定所述预设间距。

3.根据权利要求2所述的石墨舟，其特征在于，所述预设间距的取值范围为：大于或者等于10毫米，且小于或者等于15毫米。

4.根据权利要求1所述的石墨舟，其特征在于，所述石墨舟叶还包括石墨舟本体和多个硅片放置区，所述石墨舟本体和所述延长导流段连接，多个所述硅片放置区设置在所述石墨舟本体内。

5.根据权利要求4所述的石墨舟，其特征在于，所述石墨舟叶还包括绝缘陶瓷环，所述硅片放置区四周在所述石墨舟本体内部的上下两端均设置有所述绝缘陶瓷环。

6.根据权利要求4所述的石墨舟，其特征在于，所述石墨舟叶还包括机械手承载部，所述机械手承载部的一端和所述延长导流段连接，所述机械手承载部的另一端和所述石墨舟本体连接。

7.根据权利要求5所述的石墨舟，其特征在于，所述绝缘陶瓷环为开槽形式的圆柱结构。

8.根据权利要求6所述的石墨舟，其特征在于，所述机械手承载部为u形结构。

9.根据权利要求1所述的石墨舟，其特征在于，所述预设间距包括10毫米。

10.根据权利要求4所述的石墨舟，其特征在于，每个所述石墨舟叶内部设置的多个所述硅片放置区均等间距设置。

11.一种石墨舟系统，其特征在于，包括权利要求1～10任一项所述的石墨舟和硅片，所述石墨舟用于对所述硅片进行镀膜。

技术总结本技术公开一种石墨舟及系统，涉及光伏技术领域。所述石墨舟包括：两个石墨舟叶，两个所述石墨舟叶分别设置有延长导流段，两个所述延长导流段对应的导流口按照预设间距相邻设置，通过增加延长导流段保证气流可以从一个延长导流段对应的导流口直接传输至另一个延长导流段对应的导流口，使得气流较为集中，气流走向一致，可以降低特气气流阻挡，并且两个延长导流段之间是按照预设间距交接设置，可以保证两个石墨舟叶之间是绝缘状态，避免石墨舟叶片间放电，避免在两舟中间产生气流涡旋，可以提高对硅片镀膜的均匀性问题，进一步的，提高硅片镀膜的可靠性和稳定性。技术研发人员：陈程,梁柱,童洪波,李华受保护的技术使用者：泰州隆基乐叶光伏科技有限公司技术研发日：20230822技术公布日：2024/6/11