磁控溅射镀膜固定装置的制作方法

本技术涉及磁控溅射镀膜，特别涉及磁控溅射镀膜固定装置。

背景技术：

1、磁控溅射镀膜是一种常见的表面涂层技术，用于在各种材料上形成薄膜，它通过将固体材料置于真空室中，然后利用带有磁场的电子束激活靶材表面的原子或分子，使其从靶材上脱落，并以高速沉积在待涂物表面上，形成一层薄膜覆盖层。

2、现有的磁控溅射镀膜固定装置，在对靶材固定过程中，不便于调节靶材与待涂膜片之间的距离，容易造成靶材与待涂膜片距离不合理，容易造成涂层的厚度不均匀，影响喷涂效果，为此，我们提出磁控溅射镀膜固定装置。

技术实现思路

1、本实用新型的主要目的在于提供磁控溅射镀膜固定装置，可以有效解决背景技术中的技术问题。

2、为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：磁控溅射镀膜固定装置，包括镀膜箱和支撑架，镀膜箱前端设有箱门，镀膜箱内部设置有溅射器和磁体，镀膜箱内部设有两组镀膜架，镀膜架下端设有靶材架，靶材架下端设有转动杆，镀膜箱一端固定连接有真空管，镀膜箱外侧设有驱动电机，转动杆一端与驱动电机相连接，转动杆两端设有第一锥形齿，第一锥形齿上端设有调节机构；调节机构包括两组丝杆，丝杆下端设有第二锥形齿，第二锥形齿与第一锥形齿啮合连接，丝杆中央设有调节块，调节块与丝杆螺纹连接，调节块两端设置有支撑杆，支撑杆上端与靶材架相连接。

3、进一步地，支撑杆为条形杆，两组支撑杆呈v字形倾斜安装。

4、进一步地，丝杆上端设置有伸缩弹簧，伸缩弹簧上端与靶材架固定连接。

5、进一步地，丝杆外侧套接有支撑条，支撑条与镀膜箱内壁固定连接。

6、进一步地，镀膜架为半圆形板，镀膜架一端与镀膜箱固定连接，两组镀膜架之间预留有放置间隙。

7、进一步地，转动杆安装方向与靶材架相平行。

8、进一步地，转动杆两端与镀膜箱内壁转动连接。

9、有益效果

10、本实用新型提供了磁控溅射镀膜固定装置，具备以下有益效果：通过设置调节机构，方便调节靶材与待涂膜片之间距离，使靶材与待涂膜片之间距离更加合理，避免涂层厚度不均匀，提升喷涂效果。

技术特征：

1.磁控溅射镀膜固定装置，包括镀膜箱(1)和支撑架(2)，镀膜箱(1)前端设有箱门(3)，镀膜箱(1)内部设置有溅射器(4)和磁体(5)，镀膜箱(1)内部设有两组镀膜架(6)，镀膜架(6)下端设有靶材架(7)，其特征在于：所述靶材架(7)下端设有转动杆(10)，所述镀膜箱(1)一端固定连接有真空管(12)，所述镀膜箱(1)外侧设有驱动电机(9)，转动杆(10)一端与驱动电机(9)相连接，转动杆(10)两端设有第一锥形齿(11)，第一锥形齿(11)上端设有调节机构(8)；所述调节机构(8)包括两组丝杆(13)，所述丝杆(13)下端设有第二锥形齿(14)，第二锥形齿(14)与第一锥形齿(11)啮合连接，所述丝杆(13)中央设有调节块(15)，调节块(15)与丝杆(13)螺纹连接，所述调节块(15)两端设置有支撑杆(16)，支撑杆(16)上端与靶材架(7)相连接。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述支撑杆(16)为条形杆，两组支撑杆(16)呈v字形倾斜安装。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述丝杆(13)上端设置有伸缩弹簧(17)，伸缩弹簧(17)上端与靶材架(7)固定连接。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述丝杆(13)外侧套接有支撑条，支撑条与镀膜箱(1)内壁固定连接。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述镀膜架(6)为半圆形板，镀膜架(6)一端与镀膜箱(1)固定连接，两组镀膜架(6)之间预留有放置间隙。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述转动杆(10)安装方向与靶材架(7)相平行。

7.根据权利要求6所述的磁控溅射镀膜固定装置，其特征在于：所述转动杆(10)两端与镀膜箱(1)内壁转动连接。

技术总结本技术公开了磁控溅射镀膜固定装置，包括镀膜箱和支撑架，镀膜箱前端设有箱门，镀膜箱内部设置有溅射器和磁体，镀膜箱内部设有两组镀膜架，镀膜架下端设有靶材架，靶材架下端设有转动杆，镀膜箱外侧设有驱动电机，转动杆一端与驱动电机相连接，转动杆两端设有第一锥形齿，第一锥形齿上端设有调节机构；调节机构包括两组丝杆，丝杆下端设有第二锥形齿，第二锥形齿与第一锥形齿啮合连接，丝杆中央设有调节块，调节块与丝杆螺纹连接，调节块两端设置有支撑杆，支撑杆上端与靶材架相连接。本技术中，通过设置调节机构，方便调节靶材与待涂膜片之间距离，使靶材与待涂膜片之间距离更加合理，避免涂层厚度不均匀，提升喷涂效果。技术研发人员：舒波,李均平,曹丽娟,洪滔,包瑞受保护的技术使用者：安合鑫光电科技（苏州）有限公司技术研发日：20231016技术公布日：2024/6/11