靶材以及蒸发组件的制作方法

本申请涉及电子束蒸发镀膜，尤其涉及靶材以及蒸发组件。

背景技术：

1、电子束蒸发镀膜是一种利用电子束技术进行表面调节的新型技术，其工作原理为，电子束蒸发镀膜系统在真空条件下利用电子束准确地轰击坩埚内靶材，使靶材融化进而沉积在基片上，在基底上凝结形成薄膜。

2、举例而言，led的电极制作工艺通常采用电子束蒸镀系统进行金属镀膜。

3、发明人发现，靶材受到电子束轰击时，靶材的温度会升高，进而可能导致靶材变形，靶材的使用寿命变短等问题，因此，提高了靶材的散热效果，是亟需解决的技术问题，对比文件cn107699857b公开了一种方便散热的靶材安装装置，虽然能够提高靶材的散热效果，但是其具有结构复杂，制造成本较高的缺点。

技术实现思路

1、本申请所要解决的一个技术问题是：如何提高靶材的散热效果。

2、为解决上述技术问题，一方面，本申请实施例提供了一种靶材，靶材呈锥台状，靶材的上顶直径为l，下底直径为m，满足，1.1＜l/m＜1.2。

3、在一些实施例中，靶材的上顶面与靶材的侧壁面之间设置有第一圆弧倒角。

4、在一些实施例中，靶材的下底面与靶材的侧壁面之间设置有第二圆弧倒角。

5、在一些实施例中，靶材的下底面设置有凹部。

6、在一些实施例中，凹部呈圆柱状。

7、在一些实施例中，凹部呈立方体状。

8、在一些实施例中，靶材的下底面设置有凸部。

9、另一方面，本申请实施例还提供了一种蒸发组件，包括坩埚和垫块。

10、坩埚用于上述实施例中的靶材。垫块设置于坩埚内，用于支撑靶材。

11、在一些实施例中，垫块面向靶材的面上设置有与靶材适配的凸部或凹部。

12、在一些实施例中，垫块和靶材的高度为h，满足，22mm≤h≤28mm。

13、通过上述技术方案，靶材设置为锥台状，使得靶材的形状可以和坩埚适配，靶材的侧壁面可以和坩埚的内侧壁面接触，增加了靶材的散热效果，并且具有结构简单，成本低廉的优点。

14、当靶材的上顶直径l和下底直径m满足1.1＜l/m＜1.2时，既保证了靶材的上顶面的面积足够大，进而保证了镀膜形成的膜层均匀性。又使得下底面的面积足够大，提高了靶材的散热效果。

技术特征：

1.一种靶材，其特征在于，所述靶材(1)呈锥台状，所述靶材(1)的上顶直径为l，下底直径为m，满足，1.1＜l/m＜1.2。

2.根据权利要求1所述的靶材，其特征在于，所述靶材(1)的上顶面与所述靶材(1)的侧壁面之间设置有第一圆弧倒角(2)。

3.根据权利要求1所述的靶材，其特征在于，所述靶材(1)的下底面与所述靶材(1)的侧壁面之间设置有第二圆弧倒角(3)。

4.根据权利要求1所述的靶材，其特征在于，所述靶材(1)的下底面设置有凹部(4)。

5.根据权利要求4所述的靶材，其特征在于，所述凹部(4)呈圆柱状。

6.根据权利要求4所述的靶材，其特征在于，所述凹部(4)呈立方体状。

7.根据权利要求1所述的靶材，其特征在于，所述靶材(1)的下底面设置有凸部(5)。

8.一种蒸发组件，其特征在于，包括：

9.根据权利要求8所述的蒸发组件，其特征在于，垫块(6)面向所述靶材(1)的面上设置有与所述靶材(1)适配的凸部(5)或凹部(4)。

10.根据权利要求8所述的蒸发组件，其特征在于，所述垫块(6)和所述靶材(1)的高度为h，满足，22mm≤h≤28mm。

技术总结本申请提供一种靶材，涉及电子束蒸发镀膜技术领域。靶材呈锥台状，靶材的上顶直径为L，下底直径为M，满足，1.1＜L/M＜1.2。靶材设置为锥台状，使得靶材的形状可以和坩埚适配，靶材的侧壁面可以和坩埚的内侧壁面接触，增加了靶材的散热效果。当靶材的上顶直径L和下底直径M满足1.1＜L/M＜1.2时，既保证了靶材的上顶面的面积足够大，进而保证了镀膜形成的膜层均匀性。又使得下底面的面积足够大，提高了靶材的散热效果。技术研发人员：朱帅,贾钊,窦志珍,胡恒广受保护的技术使用者：青岛旭芯互联科技研发有限公司技术研发日：20230927技术公布日：2024/6/11