一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法与流程

本发明涉及应用光学，尤其涉及一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法。

背景技术：

1、激光器产生的激光束的光强分布一般情况下是不均匀的，但是有些应用场合需要使用均匀分布的激光光斑，就需要对激光束的光强进行调控，以获得满足需求的均匀分布的激光光斑。现有的调控技术基本都是通过在光路中添加光学元件的方法，比如液晶光阀等来实现。但是有些应用场景，激光的功率较高，因此对光学元件的抗激光损伤能力提出了更高的要求。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法。所述制备方法制备的光学元件抗光损伤能力强。

2、为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：

3、本发明提供了一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法，包括以下步骤：

4、将熔石英光学元件置于模具中进行等离子体刻蚀，得到刻蚀后的光学元件；所述模具的顶盖设置有透过等离子体刻蚀的孔。

5、优选的，所述模具的材料为聚四氟乙烯。

6、优选的，所述等离子体刻蚀的等离子体出射方向与所述熔石英光学元件的表面垂直。

7、优选的，所述等离子体刻蚀采用的等离子体为sf6等离子体、chcl3和ccl4中的一种或两种。

8、优选的，所述等离子体刻蚀采用的等离子体的流量为30～45sccm，电离功率为800w。

9、优选的，所述等离子体刻蚀的腔体压强为1～1.5torr。

10、优选的，所述等离子体刻蚀的时间为3～10min。

11、优选的，所述孔的孔径为0.1～5mm。

12、本发明提供了一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法，包括以下步骤：将熔石英光学元件置于模具中进行等离子体刻蚀，得到刻蚀后的光学元件；所述模具的顶盖设置有透过等离子体刻蚀的孔。本发明所述制备方法是直接在熔石英表面进行刻蚀，并通过刻蚀的区域调控激光的透过率，而不是通过在光学元件表面镀膜的方法实现，所以抗光损伤能力强；通过设置模具中的孔，使等离子体能够通过有孔的地方进行刻蚀，没有孔的地方，等离子体不能通过而刻蚀不到；等离子体刻蚀的位置，光的透过率降低，进而调控光斑分布强度的。由此可见，所述制备方法方便快捷，成本低廉，易于实现，具有抗激光损伤能力高的特点。

技术特征：

1.一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述模具的材料为聚四氟乙烯。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述等离子体刻蚀的等离子体出射方向与所述熔石英光学元件的表面垂直。

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述等离子体刻蚀采用的等离子体为sf6等离子体、chcl3和ccl4中的一种或两种。

5.如权利要求1或4所述的制备方法，其特征在于，所述等离子体刻蚀采用的等离子体的流量为30～45sccm，电离功率为800w。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述等离子体刻蚀的腔体压强为1～1.5torr。

7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述等离子体刻蚀的时间为3～10min。

8.如权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述孔的孔径为0.1～5mm。

技术总结本发明涉及应用光学技术领域，尤其涉及一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法。本发明提供了一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法，包括以下步骤：将熔石英光学元件置于模具中进行等离子体刻蚀，得到刻蚀后的光学元件；所述模具的顶盖设置有透过等离子体刻蚀的孔。所述制备方法制备的光学元件抗光损伤能力强。技术研发人员：贾宝申,蒋晓龙,唐洪平受保护的技术使用者：中国工程物理研究院激光聚变研究中心技术研发日：技术公布日：2024/5/29