AR和AF膜层结构及AR和AF镀膜玻璃产品的制作方法

本申请涉及玻璃镀膜，尤其涉及一种ar和af膜层结构及ar和af镀膜玻璃产品。

背景技术：

1、ar(anti reflection)膜又称增透膜，其通过降低玻璃表面的反射率而起到增加玻璃透过率的作用。在触摸显示、玻璃盖板等行业中，透过率会影响画面的成像质量。af(anti-figerprint)膜又称防指纹膜，其可轻松去指纹等油脂类污渍同时表面更加平滑且不易产生划伤，具有优良的防油污性能、优秀的透过率和高的耐磨性能。由于ar膜镀制在触控盖板表面，在使用过程中经常处于一些触摸较高的应用场景，ar膜容易被摩擦脱落。行业内一般将af膜镀在ar膜表面，使得表面膜层同时具有ar膜的增透和af膜的防污和耐磨特性。

2、现有技术中的ar和af成膜工艺，其在ar膜中使用低折射率材料比如sio2(二氧化硅)，高折射率材料比如nb2o5(五氧化二铌)，并组成nb2o5/ sio2/ nb2o5/ sio2这样的四层膜层结构。

3、但是发明人发现，现有技术存在不足。现有技术的ar和af膜层结构表面硬度较低，耐摩擦性不足，无法满足高规格的产品需求。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种ar和af膜层结构及ar和af镀膜玻璃产品，以解决现有技术的ar和af膜层结构表面硬度较低，耐摩擦性不足，无法满足高规格的产品需求的问题。

2、为解决上述技术问题，本申请提供如下技术方案：

3、本申请第一方面提供一种ar和af膜层结构，包括：

4、ar膜层，ar膜层包括至少两个氧化硅层及至少两个氧化铌层，氧化硅层与氧化铌层间隔设置，氧化硅层包括层叠设置的第一硅分层和第二硅分层，氧化铌层包括层叠设置的第一铌分层和第二铌分层；

5、af膜层，af膜层设置在ar膜层上方；

6、其中，ar膜层靠近af膜层的一侧为氧化硅层，af膜层连接氧化硅层的第二硅分层。

7、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中第一硅分层的厚度大于第二硅分层的厚度；第一铌分层的厚度大于第二铌分层的厚度。

8、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中第二硅分层的厚度为5~10nm；第二铌分层的厚度为5~10nm。

9、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中氧化硅层的数量为两个，分别为第一氧化硅层和第二氧化硅层；氧化铌层的数量为两个，分别为第一氧化铌层和第二氧化铌层；第一氧化铌层位于最底层，第一氧化硅层设置在第一氧化铌层上方，第二氧化铌层设置在第一氧化硅层上方，第二氧化硅层设置在第二氧化铌层上方，af膜层设置在第二氧化硅层上方。

10、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中第二氧化硅层的厚度大于第一氧化硅层的厚度；第二氧化铌层的厚度大于第一氧化铌层的厚度；第一氧化硅层中第一硅分层的厚度占比为80%~90%，第一氧化硅层中第二硅分层的厚度占比为10%~20%；第二氧化硅层中第一硅分层的厚度占比为92%~96%，第二氧化硅层中第二硅分层的厚度占比为4%~8%；第一氧化铌层中第一铌分层的厚度占比为55%~65%，第一氧化铌层中第二铌分层的厚度占比为35%~45%；第二氧化铌层中第一铌分层的厚度占比为94%~98%，第二氧化铌层中第二铌分层的厚度占比为2%~6%。

11、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中第一氧化硅层中第一硅分层的厚度占比为85%，第一氧化硅层中第二硅分层的厚度占比为15%；第二氧化硅层中第一硅分层的厚度占比为95%，第二氧化硅层中第二硅分层的厚度占比为5%；第一氧化铌层中第一铌分层的厚度占比为60%，第一氧化铌层中第二铌分层的厚度占比为40%；第二氧化铌层中第一铌分层的厚度占比为96%，第二氧化铌层中第二铌分层的厚度占比为4%。

12、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中ar膜层的任意氧化硅层还包括第三硅分层，第一硅分层、第三硅分层与第二硅分层依次层叠设置；ar膜层的任意氧化铌层还包括第三铌分层，第一铌分层、第三铌分层与第二铌分层依次层叠设置；其中氧化硅层中第一硅分层、第三硅分层与第二硅分层的厚度依次递减，氧化铌层中第一铌分层、第三铌分层和第二铌分层的厚度依次递减。

13、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中氧化硅层的数量为三个，分别为第一氧化硅层、第二氧化硅层和第三氧化硅层；氧化铌层的数量为两个，分别为第一氧化铌层和第二氧化铌层；第一氧化硅层位于最底层，第一氧化铌层设置在第一氧化硅层上方，第二氧化硅层设置在第一氧化铌层上方，第二氧化铌层设置在第二氧化硅层上方，第三氧化硅层设置在第二氧化铌层上方，所述af膜层设置在第三氧化硅层上方。

14、优选的，前述的ar和af膜层结构，其中氧化硅层使用二氧化硅，氧化铌层使用五氧化二铌。

15、本申请第二方面提供一种ar和af镀膜玻璃产品，包括：

16、玻璃基板；

17、上述的ar和af膜层结构；

18、其中，ar和af膜层结构设置在玻璃基板上，ar和af膜层结构的ar膜层与玻璃基板的上表面连接。

19、通过上述技术方案，本发明ar和af膜层结构及ar和af镀膜玻璃产品至少具有下列优点：

20、本发明提供的一种ar和af膜层结构，包括ar膜层和af膜层。ar膜层包括至少两个氧化硅层及至少两个氧化铌层，氧化硅层与氧化铌层间隔设置，氧化硅层包括层叠设置的第一硅分层和第二硅分层，氧化铌层包括层叠设置的第一铌分层和第二铌分层；af膜层设置在ar膜层上方；其中，ar膜层靠近af膜层的一侧为氧化硅层，af膜层连接氧化硅层的第二硅分层。本发明中的ar膜层中分层数量为现有技术中的膜层数量的双倍，通过第二硅分层和第二铌分层的设置，降低了现有技术中单层氧化硅层和单层氧化铌层的膜层厚度，由于厚底降低的膜层表面精细度更高，使得分层后间隔设置的氧化硅层和氧化铌层之间的连接更加致密，进而从整体上提升了ar和af膜层结构的硬度，而af膜层由于连接了氧化硅层的厚度较低、精细度较高的第二硅分层，使得af膜层与ar膜层之间的连接更加致密，致密性更高的ar和af膜层结构在受到摩擦时，能够提供更好的耐摩擦性。通过本发明的应用，解决现有技术的ar和af膜层结构表面硬度较低，耐摩擦性不足，无法满足高规格的产品需求的问题。

21、上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

技术特征：

1.一种ar和af膜层结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

9.根据权利要求1所述的ar和af膜层结构，其特征在于，

10.一种ar和af镀膜玻璃产品，其特征在于，包括：

技术总结本发明公开一种AR和AF膜层结构及AR和AF镀膜玻璃产品，涉及玻璃镀膜技术领域。AR和AF膜层结构包括AR膜层和AF膜层，AR膜层包括至少两个氧化硅层及至少两个氧化铌层，氧化硅层与氧化铌层间隔设置，氧化硅层包括层叠设置的第一硅分层和第二硅分层，氧化铌层包括层叠设置的第一铌分层和第二铌分层；AF膜层设置在AR膜层上方；其中，AR膜层靠近AF膜层的一侧为氧化硅层，AF膜层连接氧化硅层的第二硅分层。AR和AF镀膜玻璃产品包括玻璃基板及AR膜层和AF膜层，AR和AF膜层结构设置在玻璃基板上，AR和AF膜层结构的AR膜层与玻璃基板的上表面连接。解决现有技术的AR和AF膜层结构表面硬度较低，耐摩擦性不足，无法满足高规格的产品需求的问题。技术研发人员：王永星,李盛印,王京岱,肖博受保护的技术使用者：四川虹基光玻新材料科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/29