一种两用石墨舟的制作方法
- 国知局
- 2024-06-20 12:59:37
本技术涉及石墨烯人工晶体薄膜制造领域,尤其涉及一种两用石墨舟。
背景技术:
1、直立石墨烯薄膜的生产是直立石墨烯薄膜芯片电分析传感器检测卡生产制造工序中的一环,适用于微纳结构电化学生物芯片与pcb集成制造技术,对于poct快速生化检测技术有很好的技术发展应用。
2、目前生产直立石墨烯薄膜时,基底材料的承载方式是使用石英托盘承载,表面覆石墨纸开窗,开窗尺寸与基底材料尺寸相同或开窗尺寸略小于基底材料尺寸。石英托盘使用一段时间后,其表面会附着碳元素,影响后续的全部直立石墨烯生长。
3、或使用固定式石墨托盘承载,只能应用于固定尺寸的基底材料,而不能灵活匹配不同尺寸的基底材料使用。
技术实现思路
1、为了克服现有技术的不足,本实用新型提供两用石墨舟,通过支撑架可拆卸设置在容纳腔内,能够随时安装或取下,能够将改变容纳腔的尺寸大小,将容纳腔变为四个较小的容纳槽,方便根据需求放置一张大尺寸或多张小尺寸的基底材料。
2、本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
3、一种两用石墨舟,包括舟体以及支撑架,所述舟体为圆形舟体,所述舟体中部贯穿开设有容纳腔,所述支撑架可拆卸设在所述容纳腔内,所述支撑架将所述容纳腔分为四等分的容纳槽。
4、作为上述技术方案的进一步改进,所述容纳腔为正方形容纳腔,所述容纳腔的内侧面均设有卡块,所述卡块设在所述内侧面的中部,所述卡块上开设有卡槽。
5、作为上述技术方案的进一步改进,所述支撑架为十字形,所述支撑架卡接在所述卡槽中。
6、作为上述技术方案的进一步改进,所述支撑架的端部设有与所述卡槽匹配的凸块,所述凸块卡接在所述卡槽中。
7、作为上述技术方案的进一步改进,所述支撑架成台阶状,下方的台阶用于托载基材。
8、作为上述技术方案的进一步改进,所述支撑架中部设有台阶块,所述台阶块分布四个所述容纳槽。
9、作为上述技术方案的进一步改进,所述容纳腔的四角均设有支撑块。
10、作为上述技术方案的进一步改进,所述支撑架卡接在所述容纳腔内,所述支撑架上表面与所述舟体上表面水平平齐。
11、作为上述技术方案的进一步改进,所述支撑块上表面与所述支撑架的台阶面水平平齐。
12、作为上述技术方案的进一步改进,所述卡块上表面与所述支撑块上表面水平平齐。
13、本实用新型的有益效果是:在生长试制石墨烯时,采用支撑架将舟体的容纳腔分割为更小尺寸的容纳槽,能够方便在石墨烯生长过程中出现问题及时替换基底材料,并且不影响其他部分的石墨烯生长。当需要使用大尺寸基底材料时,直接将支撑架从舟体拆除,直接在舟体的容纳腔内放置大尺寸的基底材料,实现两种尺寸两种用法,方便根据需求放置一张大尺寸或多张小尺寸的基底材料。
14、附图说明
15、下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
16、图1是本实用新型装配示意图;
17、图2是本实用新型俯视图;
18、图3是本实用新型舟体的结构示意图;
19、图4是本实用新型卡块的结构示意图;
20、图5是本实用新型支撑架的结构示意图。
技术特征:1.一种两用石墨舟,其特征在于,包括舟体以及支撑架,所述舟体为圆形舟体,所述舟体中部贯穿开设有容纳腔,所述支撑架可拆卸设在所述容纳腔内,所述支撑架将所述容纳腔分为四等分的容纳槽。
2.根据权利要求1所述的石墨舟,其特征在于,所述容纳腔为正方形容纳腔,所述容纳腔的内侧面均设有卡块,所述卡块设在所述内侧面的中部,所述卡块上开设有卡槽。
3.根据权利要求2所述的两用石墨舟,其特征在于,所述支撑架为十字形,所述支撑架卡接在所述卡槽中。
4.根据权利要求3所述的两用石墨舟,其特征在于,所述支撑架的端部设有与所述卡槽匹配的凸块,所述凸块卡接在所述卡槽中。
5.根据权利要求3所述的两用石墨舟,其特征在于,所述支撑架成台阶状,下方的台阶用于托载基材。
6.根据权利要求3所述的两用石墨舟,其特征在于,所述支撑架中部设有台阶块,所述台阶块分布四个所述容纳槽。
7.根据权利要求5所述的两用石墨舟,其特征在于,所述容纳腔的四角均设有支撑块。
8.根据权利要求1所述的两用石墨舟,其特征在于,所述支撑架卡接在所述容纳腔内,所述支撑架上表面与所述舟体上表面水平平齐。
9.根据权利要求7所述的两用石墨舟,其特征在于,所述支撑块上表面与所述支撑架的台阶面水平平齐。
10.根据权利要求7所述的两用石墨舟,其特征在于,所述卡块上表面与所述支撑块上表面水平平齐。
技术总结本技术公开了一种两用石墨舟,包括舟体以及支撑架,所述舟体为圆形舟体,所述舟体中部贯穿开设有容纳腔,所述支撑架可拆卸设在所述容纳腔内,所述支撑架将所述容纳腔分为四等分的容纳槽。通过支撑架可拆卸设置在容纳腔内,能够随时安装或取下,能够将改变容纳腔的尺寸大小,将容纳腔均匀分为四个较小的容纳槽,方便根据需求放置一张大尺寸或多张小尺寸的基底材料。技术研发人员:宋航,赵鑫,李笑笑,石柳婷,张伟鹏受保护的技术使用者:深圳市溢鑫科技研发有限公司技术研发日:20230915技术公布日:2024/5/29本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240619/7274.html
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