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数控机床抛光液制备方法与流程

  • 国知局
  • 2024-08-02 17:46:32

本发明涉及工业自动化领域,尤其涉及一种数控机床抛光液制备方法。

背景技术:

1、抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工,抛光提高工件的尺寸精度或几何形状精度,有时也用以消除光泽,通常以抛光轮作为抛光工具,抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属圆板夹紧;

2、数控机床是数字控制机床,是一种装有程序控制系统的自动化机床,该控制系统能够逻辑地处理具有控制编码或其他符号指令规定的程序,并将其译码,用代码化的数字表示,通过信息载体输入数控装置,经运算处理由数控装置发出各种控制信号,控制机床的动作,按图纸要求的形状和尺寸,自动地将零件加工出来。

3、在抛光的过程中会在物体的表面喷洒抛光液并配合抛光轮进行抛光,但是由于现有的抛光液喷洒出来的都是大分子液体且均匀性比较低,这样整体的抛光效果比较差。

4、因此,亟需提供一种数控机床抛光液制备方法。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种数控机床抛光液制备方法,其能够使得抛光液更加均匀。

2、为实现上述目的,本发明提供了一种数控机床抛光液制备方法,所述数控机床抛光液制备方法包括如下步骤:

3、s1:取样抛光液并对抛光液进行测试,根据测试结果确定抛光液的取用品种;s2:对抛光液进行持续搅拌并向抛光液中持续通入惰性气体,惰性气体随着抛光液以速度每分钟300转的速度进行旋转,抛光液和惰性气体气体混合液在搅拌时受到搅拌切割而产生微纳米气泡,得到微纳米气泡抛光液;s3:在微纳米气泡抛光液制备的过程中,获取待加工工件的工件几何参数;s4:根据工件几何参数调节惰性气体的输入量以及微纳米气泡抛光液的输出量;s5:输出微纳米气泡抛光液。

4、较佳地,步骤(s1)具体为:s11:取样抛光液存放在24℃的环境,用恒定流速的空气吹气5min,然后静置10分钟;s12:重复s11的步骤三次,在每个周期结束时,分别测定试样中泡沫的体积;s13:经过对抛光液进行测试,选定泡沫体积平均减少量最小的抛光液,根据测试结果确定抛光液的取用品种。

5、较佳地,步骤(s2)中,所述微纳米气泡的直径为10nm至20nm。

6、较佳地,步骤(s2)中,抛光液和惰性气体气体混合液的温度为50度至60度。

7、较佳地,步骤(s5)中,通过喷洒装置输出微纳米气泡抛光液。

8、具体地,步骤(s5)中,喷洒的最大孔径为70um。

9、与现有技术相比,本发明的数控机床抛光液制备方法通过对抛光液进行测试,从而选定在现有环境中最优的抛光液,再通过通入惰性气体实现抛光液的快速气泡并形成直径微小的微纳米气泡,微纳米气泡在喷洒时能够均匀的附着在工件上,从而使得数控机床在进行抛光处理时效果更优。

技术特征:

1.一种数控机床抛光液制备方法,其特征在于,所述数控机床抛光液制备方法包括如下步骤:

2.如权利要求1所述的数控机床抛光液制备方法,其特征在于,步骤(s1)具体为:

3.如权利要求1所述的数控机床抛光液制备方法,其特征在于,步骤(s2)中,所述微纳米气泡的直径为10nm至20nm。

4.如权利要求1所述的数控机床抛光液制备方法,其特征在于,步骤(s2)中,抛光液和惰性气体气体混合液的温度为50度至60度。

5.如权利要求1所述的数控机床抛光液制备方法,其特征在于,步骤(s5)中,通过喷洒装置输出微纳米气泡抛光液。

6.如权利要求5所述的数控机床抛光液制备方法,其特征在于,步骤(s5)中,喷洒的最大孔径为70um。

技术总结本发明公开一种数控机床抛光液制备方法包括如下步骤,S1:取样抛光液并对抛光液进行测试,根据测试结果确定抛光液的取用品种;S2:对抛光液进行持续搅拌并向抛光液中持续通入惰性气体,惰性气体随着抛光液以速度每分钟300转的速度进行旋转,抛光液和惰性气体气体混合液在搅拌时受到搅拌切割而产生微纳米气泡,得到微纳米气泡抛光液;S3:在微纳米气泡抛光液制备的过程中,获取待加工工件的工件几何参数;S4:根据工件几何参数调节惰性气体的输入量以及微纳米气泡抛光液的输出量;S5:输出微纳米气泡抛光液。本发明方法能够使得抛光液更加均匀。技术研发人员:葛升华受保护的技术使用者:东莞创响智能科技有限公司技术研发日:技术公布日:2024/6/30

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